【技术实现步骤摘要】
退火装置、其检测方法、退火设备、以及退火工艺方法
[0001]本专利技术涉及显示
更具体地,涉及一种退火装置、其检测方法、退火设备、以及退火工艺方法。
技术介绍
[0002]准分子激光退火工艺,是一种相对比较复杂的退火过程。ELA(准分子激光退火)设备是用准分子激光束对显示基板上的非晶硅膜进行短时间照射,使其熔融后再结晶变成多晶硅(P
‑
Si,P硅)薄膜的设备。利用ELA设备进行退火工艺加工的显示基板,容易出现如图1所示的显示不均的不良。
技术实现思路
[0003]本专利技术的目的在于提供一种退火装置、其检测方法、退火设备、以及退火工艺方法,以解决现有技术存在的问题中的至少一个。
[0004]为达到上述目的,本专利技术采用下述技术方案:
[0005]本专利技术第一方面提供一种退火装置,应用于准分子激光退火设备,所述退火装置包括:
[0006]承载台,用于承载和移动待加工的显示基板,所述承载台包括具有长边和短边的载物台;
[0007]设置在所述载物台上方 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种退火装置,其特征在于,应用于准分子激光退火设备,所述退火装置包括:承载台,用于承载和移动待加工的显示基板,所述承载台包括具有长边和短边的载物台;设置在所述载物台上方的具有腔体的退火室,所述退火室包括靠近所述载物台一侧的底壁和与所述底壁相对设置的远离所述载物台一侧的顶壁,所述底壁上设置有狭缝,所述狭缝在所述载物台的正投影的延伸方向平行于所述长边;设置在所述顶壁远离所述腔体一侧的光学镜组,用于传输激光发射器出射的激光光束;以及设置在所述腔体内位于所述狭缝上方的遮挡件,所述遮挡件在所述底壁的正投影和所述狭缝在底壁的正投影形成部分重叠或完全重叠。2.根据权利要求1所述的退火装置,其特征在于,所述遮挡件包括:靠近所述狭缝一侧的第一表面;和靠近所述顶壁一侧的第二表面,所述第一表面和所述第二表面均平行于所述光学镜组的出光面。3.根据权利要求2所述的退火装置,其特征在于,所述遮挡件还包括朝向所述载物台一侧的遮挡面,所述遮挡面至少位于部分所述第一表面中,所述遮挡面在所述底壁的正投影覆盖所述狭缝在所述底壁的正投影。4.根据权利要求3所述的退火装置,其特征在于,所述遮挡面的数量为多个,所述退火装置还包括第一位移机构,用于带动不同的遮挡面移动至所述狭缝上方。5.根据权利要求4所述的退火装置,其特征在于,所述遮挡件还包括连接所述第一表面和所述第二表面的至少一个第三表面,多个遮挡面分别设置于所述第一表面、所述第二表面和所述第三表面中的一个或多个,所述第一位移机构包括沿平行于所述长边方向延伸的转动轴,所述第一位移机构用于带动所述遮挡件以所述转动轴为旋转中心进行转动,以将不同的遮挡面转动至所述狭缝上方。6.根据权利要求4所述的退火装置,其特征在于,多个遮挡面设置在所述第一表面上,沿所述短边的延伸方向依次排布;所述第一位移机构用于带动所述遮挡件沿所述短边的延伸方向移动,以将不同的遮挡面移动至所述狭缝上方。7.根据权利要求1所述的退火装置,其特征在于,所述光学镜组包括多个透镜,遮挡件的材料和距离遮挡件最近的透镜的材料一致。8.根据权利要求1所述的退火装置,其特...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈科全,路兆里,全祥皓,李若尧,江玲,刘晓锋,易靖洋,王云飞,张苁,王丙海,于泽,李思捷,邹澳,罗平,程正东,罗晓霜,李栋梁,何寿超,季子云,
申请(专利权)人:重庆京东方显示技术有限公司,
类型:发明
国别省市:
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