【技术实现步骤摘要】
包含磷铜合金的导电结构及所述导电结构的制备方法
[0001]本专利技术实施例是有关:包含磷铜合金的导电结构,及所述导电结构的制备方法。
技术介绍
[0002]集成电路(integrated circuit,IC)产业经历了指数型增长。IC材料与设计的技术进步,产生了一代又一代的IC,每一代的电路都比前一代更小、更复杂。在IC演进的过程中,功能密度(即单位芯片面积上互连元件的数量)普遍增加,而几何尺寸(亦即可利用一制程,制得的最小元件或线)则变小。这种缩小工艺通的优点,通常在于提升制造效率。然而,这种缩小工艺,也增加了IC加工和制造的复杂性。要进一步落实这些进展,就需要改善IC的布线几何结构、材料、加工、和制造。
技术实现思路
[0003]本揭示内容的某些实施方式,提出一多层布线结构,包括:复数个介电层、与这些介电层交错的复数个导电布线层,其中这些导电布线层包括磷铜合金。而布线几何结构方面,则有提出锯齿状的外观设计及制作方法,降低高频工作时的集肤效应(skin depth effect),以增加电流的表面积,提 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种多层布线结构,包含:复数个层压层;复数个导电布线层与所述这些层压层交错,其中所述这些导电布线层包含磷铜合金,其中所述磷铜合金中的磷成分介于13.98%至14.39%。2.如权利要求1所述的多层布线结构,其中所述这些层压层包含环氧树脂材料、树脂材料、聚合物材料、陶瓷或硅。3.如权利要求1所述的多层布线结构,其中所述这些导电布线层包含锯齿状导线,其具有位于所述锯齿状导线的上表面的复数个第一突起。4.如权利要求3所述的多层布线结构,其中所述锯齿状导线包含磷铜层,及与所述磷铜层直接接触的铜层。5.如权利要求1所述的多层布线结构,其中所述磷铜合金包含Cu3P。6.如权利要求3所述的多层布线结构,进一步包含位于所述锯齿状导线的下表面的复数个第二突起。7.如权利要求3所述的多层布线结构,其中所述锯齿状导线用以传输高频信号。8.如权利要求3所述的多层布线结构,其中所述锯齿状导线是置于邻近所述多层布线结构的上表面处。9.如权利要求3所述的多层布线结构,进一步包含与所述这些锯齿状导线电性连接的导电通路,其中所述导电通路包含Cu3P与铜。10.如权利要求1所述的多层布线结构,其中所述这些导电布线层包含锯齿状导线,其具有至少二突起,及介于所述二突起间的气隙。11.如权利要求1所述的多层布线结构,其中所述磷铜合金的至少一部分是嵌入于所述层压层中。12.如权利要求1所述的多层布线结构,其中所述导电布线层其中之包含一磷铜层与铜层,其中所述磷铜层介于所述铜层与所述这些层压层其中之间。13.一种多层布线结构,包含:电路板,包含:层压结构;及导电构件,包含铜层与磷铜合金层,其中所述磷铜合金层位于所述铜层与所述层压结构间。14.如权利要求13所述的多层布线结构,其中所述导电构件包含...
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