基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种可使对基板进行支撑的支撑部轻量化，且可使处理中的基板的旋转稳定的基板处理装置。实施方式的基板处理装置(1)具有：支撑部(13)，对基板(W)进行支撑；旋转机构(12)，使支撑于支撑部(13)的基板(W)旋转；以及供给部(15)，向基板(W)供给处理液(L)，支撑部(13)具有：保持构件(130)，通过沿接近或离开基板(W)的方向进退来保持及释放基板(W)；伸缩部(132)，包含光刺激响应性材料，根据伸缩使保持构件(130)进退；以及照射部(134)，对伸缩部(132)照射使伸缩部(132)伸缩的波长的光。(132)照射使伸缩部(132)伸缩的波长的光。(132)照射使伸缩部(132)伸缩的波长的光。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置


[0001]本专利技术涉及一种基板处理装置。

技术介绍

[0002]在制造半导体或液晶面板等的制造工序中，会使用如下基板处理装置：向晶片或液晶基板等基板的被处理面供给处理液而对被处理面进行处理，在处理后，对被处理面进行清洗并使其干燥。例如，向旋转的基板供给处理液并逐片进行处理的单片式处理装置与分批式处理装置相比，可以高的水平使对各基板的处理的均匀性一致，因此随着近年来的电路图案的微细化而被广泛利用。
[0003]在此种单片式基板处理装置中，作为将基板支撑在旋转的旋转台上的支撑机构，机械吸盘或真空吸盘等各种机构已得到实用化。在通过支撑机构将基板支撑在旋转台上的状态下，向基板的中央供给处理液，由此处理液因离心力而向基板的外周扩散，从而对基板进行处理。
[0004][现有技术文献][0005][专利文献][0006][专利文献1]日本专利特开平07
‑
169732号公报

技术实现思路

[0007][专利技术所要解决的问题][0008]然而，对旋转台进行驱动的马达通过其驱动轴来支撑直径比基本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，其特征在于，具有：支撑部，对基板进行支撑；旋转机构，使支撑于所述支撑部的所述基板旋转；以及供给部，向所述基板供给处理液，所述支撑部具有：保持构件，通过沿接近或离开所述基板的方向进退来保持及释放所述基板；伸缩部，包含光刺激响应性材料，根据伸缩使所述保持构件进退；以及照射部，对所述伸缩部照射使所述伸缩部伸缩的波长的光。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述旋转机构具有：转子，设置有所述支撑部；以及定子，使所述转子以非接触的方式旋转。3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，所述旋转机构通过磁气使所述转子旋转。4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述照射部包含所述波长不同的两种光源。5.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：秋本纱希，
申请(专利权)人：芝浦机械电子装置株式会社，
类型：发明
国别省市：