一种哑光防滑易洁超耐磨钻石釉、瓷砖及其制备方法技术

本发明专利技术涉及建筑陶瓷材料领域，具体公开了一种哑光防滑易洁超耐磨钻石釉、瓷砖及其制备方法，其中，所述哑光防滑易洁超耐磨钻石釉包括无机釉料、溶剂和助剂，所述无机釉料包括以下重量份的原料：超细锆英砂8份~14份、萤石5份~9份、熔块77份~87份，所述熔块以质量百分比计的化学成分包括：SiO2+Al2O3=80~83wt%，CaO+MgO=12~14wt%，Na2O+K2O=5~6wt%。相应的，本发明专利技术还公开了施加上述哑光防滑易洁超耐磨钻石釉的瓷砖及其制备方法。采用本发明专利技术提供的制备方法得到的瓷砖能同时兼具亚光效果、耐磨性能好、硬度高、防滑、易清洁的特点。易清洁的特点。易清洁的特点。

【技术实现步骤摘要】
一种哑光防滑易洁超耐磨钻石釉、瓷砖及其制备方法


[0001]本专利技术涉及建筑陶瓷材料
，尤其涉及一种哑光防滑易洁超耐磨钻石釉、瓷砖及其制备方法。

技术介绍

[0002]近年来，随着人们生活水平的日益提高，对瓷砖的视觉装饰效果、产品实用性以及使用方便性等要求越来越高。在众多陶瓷砖种类中，亚光防滑的瓷砖深受消费者的喜欢。公开号为CN104529553A的中国专利公开了一种用陶瓷废物制造的表面如碎钻砂闪烁星光的釉面砖及制备，其对素坯体的配方组成、底、面釉熔块的组成、底、面釉的配方组成、析晶熔块的组成及粒度、胶水的配方组成、析晶熔块粒浆的配方组成、施底、面釉和施析晶熔块粒浆的工艺参数进行调整与优化，从而使制得的釉面砖产品，在自然光线下从正面观看产品，釉面似亚光状，手指触摸有微微凹凸感，在侧光或在灯光照射下，釉面的结晶体如沙糖状的细晶岩石内的细小石英晶粒、辉石粒及细小的云母片等会发出如碎钻砂状闪烁的星光。该方法由于产品表面的凹凸感，导致产品可能易吸污，易清洁性较差。

技术实现思路

[0003]本专利技术所要解决的技术问题在于，提供一种哑光防滑易洁超耐磨钻石釉以及采用所述哑光防滑易洁超耐磨钻石釉的瓷砖，得到的瓷砖能同时兼具亚光效果、防滑、易清洁的特点。
[0004]本专利技术所要解决的技术问题在于，提供上述瓷砖的制备方法，其工艺简单，良品率高，能够使瓷砖满足上述要求。
[0005]为达到上述技术效果，本专利技术提供一种哑光防滑易洁超耐磨钻石釉，包括无机釉料、溶剂和助剂，所述无机釉料包括以下重量份的原料：超细锆英砂8份~14份、萤石5份~9份、熔块77份~87份，所述熔块以质量百分比计的化学成分包括：SiO2+Al2O3=80~83wt%，CaO+MgO=12~14wt%，Na2O+K2O=5~6wt%；所述熔块的化学成分中，CaO/MgO的摩尔比为1.07~1.08；所述熔块的化学成分中，SiO2/Al2O3的摩尔比为7~8。
[0006]在一种实施方式中，所述超细锆英砂的粒径范围为1μm~5μm。
[0007]在一种实施方式中，所述哑光防滑易洁超耐磨钻石釉，按照重量份计，包括无机釉料95份~105份、溶剂45份~55份和助剂2份~6份；所述溶剂包括水和乙二醇；所述助剂包括羧甲基纤维素钠和/或三聚磷酸钠；其中，所述溶剂中，水与乙二醇的重量比为（5~9）：1。
[0008]相应地，本专利技术还提供了一种瓷砖，包括坯体层和哑光防滑易洁超耐磨钻石釉层，所述哑光防滑易洁超耐磨钻石釉层的原料为所述的哑光防滑易洁超耐磨钻石釉。
[0009]在一种实施方式中，所述哑光防滑易洁超耐磨钻石釉层上还设有微凹坑
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微凸起
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纳米颗粒结构的超疏水层；所述微凹坑
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微凸起
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纳米颗粒具有直径为10μm
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16μm的凹坑，所述凹坑表面设有凸起高度为0.5μm
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4.5μm的凸起，所述凸起表面分布有氧化锌纳米颗粒。
[0010]为解决上述问题，本专利技术提供了一种瓷砖的制备方法，包括以下步骤：将超细锆英砂、萤石、熔块混合、研磨后得到无机釉料；所述无机釉料与溶剂和助剂混合后进行研磨处理，得到哑光防滑易洁超耐磨钻石釉；准备生坯，在所述生坯上施加所述哑光防滑易洁超耐磨钻石釉，施釉5秒~10秒后采用预设模具压制施釉后的釉面，使釉面形成规则分布的直径为10μm
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16μm的凹坑，干燥后得到第一生坯；将所述第一生坯进行第一烧成，得到具有微凹坑
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微凸起结构的第一陶瓷砖体；在所述第一陶瓷砖体表面施加锌改性保护釉，随后进行第二烧成，得到具有微凹坑
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微凸起
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纳米颗粒结构的第二陶瓷砖体；在所述第二陶瓷砖体表面喷涂疏水性成膜液，干燥固化后得到成品。
[0011]在一种实施方式中，所述锌改性保护釉包括以下重量份的原料：钾长石3份~7份、钠长石3份~7份、氧化铝5份~9份、方解石2份~4份、白云石2份~4份、石英粉7份~15份和金属锌粉60份~70份。
[0012]在一种实施方式中，所述第一烧成的温度为1175℃~1185℃，保温时间为5min~10min；在一种实施方式中，所述第二烧成的温度为950℃~1050℃，保温时间为4min~6min。
[0013]实施本专利技术具有如下有益效果：本专利技术提供的哑光防滑易洁超耐磨钻石釉，包括无机釉料、溶剂和助剂，其中无机釉料采用特定成分的熔块搭配超细锆英砂和萤石，萤石的引入减少了因引入超细锆英砂而导致的陶瓷砖表面产生崩釉、裂纹、细小气泡等釉面质量问题。通过超细锆英砂、特定成分的熔块和萤石的搭配，明显提升了釉面硬度和耐磨强度，并且，所述无机釉料中的超细锆英砂在烧成过程中会保持原有的颗粒状态，赋予了釉面良好的防滑效果，在以上成分的共同作用下最终得到了同时兼具亚光效果、耐磨性能好、硬度高、防滑、易清洁特点的瓷砖。
[0014]本专利技术提供的瓷砖及其制备方法，所述瓷砖包括坯体层和哑光防滑易洁超耐磨钻石釉层，并且按照本专利技术提供的制备方法能够在所述哑光防滑易洁超耐磨钻石釉层上还设有微凹坑
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微凸起
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纳米颗粒结构的超疏水层，进一步提升了的瓷砖表面的防滑功能，并赋予其持久超疏水自清洁功能。更进一步地，由于上述超疏水层设置在特定结构的微凹坑中，使得超疏水层受机械磨损时，不易被刮擦，最终提高了瓷砖的超疏水层的耐磨性。
附图说明
[0015]图1是本专利技术的瓷砖表面的结构示意图；图2是本专利技术的瓷砖表面的微凹坑
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微凸起
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纳米颗粒结构的结构示意图；图3是本专利技术的提供的瓷砖制备方法中采用预设模具压制施釉后的釉面的操作示意图。
具体实施方式
[0016]为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本专利技术作进一步地详细描述。
[0017]本专利技术提供了一种哑光防滑易洁超耐磨钻石釉，包括无机釉料、溶剂和助剂，所述无机釉料包括以下重量份的原料：超细锆英砂8份~14份、萤石5份~9份、熔块77份~87份，所述熔块以质量百分比计的化学成分包括：SiO2+Al2O3=80~83wt%，CaO+MgO=12~14wt%，Na2O+K2O=5~6wt%；所述熔块的化学成分中，CaO/MgO的摩尔比为1.07~1.08；所述熔块的化学成分中，SiO2/Al2O3的摩尔比为7~8。
[0018]现有技术中，由于超细锆英砂的膨胀系数小，在烧成过程中常常会由于超细锆英砂与其他釉用原料的不匹配，使得陶瓷砖表面产生诸多缺陷，如爆花、崩釉、裂纹等，导致陶瓷砖的废品率高。本专利技术向无机釉料中引入萤石，萤石可降低釉的高温粘度和表面张力，减少因引入超细锆英砂导致的釉面出现微小气泡的问题。但萤石的加入量过高会导致产生较多的挥发性氟化物，加剧对窑炉耐火材料的损坏，并且导致釉面反而出现微小气泡，降低釉面质量。优选地，萤石的加入量为3.5份~4.5份。<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种哑光防滑易洁超耐磨钻石釉，其特征在于，包括无机釉料、溶剂和助剂，所述无机釉料包括以下重量份的原料：超细锆英砂8份~14份、萤石5份~9份、熔块77份~87份，所述熔块以质量百分比计的化学成分包括：SiO2+Al2O3=80~83wt%，CaO+MgO=12~14wt%，Na2O+K2O=5~6wt%；所述熔块的化学成分中，CaO/MgO的摩尔比为1.07~1.08；所述熔块的化学成分中，SiO2/Al2O3的摩尔比为7~8。2.如权利要求1所述的哑光防滑易洁超耐磨钻石釉，其特征在于，所述超细锆英砂的粒径范围为1μm~5μm。3.如权利要求1所述的哑光防滑易洁超耐磨钻石釉，其特征在于，所述哑光防滑易洁超耐磨钻石釉，按照重量份计，包括无机釉料95份~105份、溶剂45份~55份和助剂2份~6份；所述溶剂包括水和乙二醇；所述助剂包括羧甲基纤维素钠和/或三聚磷酸钠；其中，所述溶剂中，水与乙二醇的重量比为（5~9）：1。4.一种瓷砖，其特征在于，包括坯体层和哑光防滑易洁超耐磨钻石釉层，所述哑光防滑易洁超耐磨钻石釉层的原料为如权利要求1~4任一项所述的哑光防滑易洁超耐磨钻石釉。5.如权利要求4所述的瓷砖，其特征在于，所述哑光防滑易洁超耐磨钻石釉层上还设有微凹坑
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微凸起
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纳米颗粒结构的超疏水层；所述微凹坑
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微凸起
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纳米颗粒具有直径为10μm
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16μm的凹坑，所述凹...

【专利技术属性】
技术研发人员：南顺芝，南嘉栋，况学成，陈宇平，
申请(专利权)人：广东大角鹿新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：