基于表面能调控的基材表面处理方法技术

本发明专利技术揭示了一种基于表面能调控的基材表面处理方法，所述方法包括以下步骤：S1、通过疏水材料对基材表面进行疏水处理；S2、采用等离子工艺对疏水处理后的基材进行处理，调控基材的表面能。本发明专利技术首先对基材表面进行疏水处理，可以将基材的表面能调控到较低的值，且改善了基材表面本身表面能不均匀的现象，能获得均匀的低表面能基材；在表面能均一的基材表面通过控制等离子工艺条件，可以对基材的表面能进行精细调控。进行精细调控。进行精细调控。

【技术实现步骤摘要】
基于表面能调控的基材表面处理方法


[0001]本专利技术属于印刷电子
，具体涉及一种基于表面能调控的基材表面处理方法。

技术介绍

[0002]随着印刷电子技术的发展，直接在基材表面上采用印刷方法制造电路、天线、柔性电池、微流控芯片、传感器、晶体管、射频标签、光电器件等也逐渐成为可能。印刷电子以其大面积、柔性化和低成本等特点，具备传统加工工艺不可替代的优势。基材上常用的材料沉积方法有丝网印刷、胶版印刷、微接触印刷以及卷对卷印刷等。材料沉积过程中涉及到材料在基材上的平铺，其中基材的表面能对于沉积材料的铺展有较大的影响。
[0003]表面处理作为一种改变印刷基材表面能的手段，可以有效改善印刷基材的印刷适性，在印刷电子领域具有非常重要的作用。通常用表面能来衡量印刷基材印刷适性，如果印刷基材的表面能低，其吸引力低于油墨相分子的吸引力，界面区的油墨分子有向油墨内部收缩的张力，这就是非润湿状态。如果印刷基材的表面能高，其吸引力高于油墨分子的吸引力，则界面区的油墨相分子有一种被吸附于基材的表面的压力，这就是润湿状态。调控印刷基材的表面能对于精密印本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于表面能调控的基材表面处理方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：S1、通过疏水材料对基材表面进行疏水处理；S2、采用等离子工艺对疏水处理后的基材进行处理，调控基材的表面能。2.根据权利要求1所述的基于表面能调控的基材表面处理方法，其特征在于，所述基材的材料包括PET、PEN、PI、PMMA、PP、PS、PE、PC、PA、EVA、玻璃、石英、硅中的一种或多种。3.根据权利要求1所述的基于表面能调控的基材表面处理方法，其特征在于，所述步骤S1中疏水处理后基材的表面能为5mN/m～20mN/m。4.根据权利要求3所述的基于表面能调控的基材表面处理方法，其特征在于，所述步骤S1具体为：通过喷涂、旋涂、涂布、浸泡、化学气相沉积、静电纺丝、组装、溶胶凝胶、电化学沉积中的一种或多种工艺，在基材表面形成疏水材料。5.根据权利要求3所述的基于表面能调控的基材表面处理方法，其特征在于，所述疏水材料包括PTFE、FEP、ECTE、ETFE、PFA、含氟聚合物、含氟醚类化合物、氟碳蜡、氟化碳中的一种或多种，疏水材料的厚度为0.5nm～50nm。6.根据权利要求1所述的基于表面能调控的基材表面处理方法，其特征在于，所述步骤S...

【专利技术属性】
技术研发人员：聂书红，苏文明，陈小连，谢黎明，徐文亚，
申请(专利权)人：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所，
类型：发明
国别省市：