蒸镀掩模的制造装置和蒸镀掩模的制造方法制造方法及图纸

蒸镀掩模的制造装置包括：支承母材，其具有用于支承被镀敷部件的第一面；在第一面上以包围被镀敷部件的外周的方式设置的第一支承部件和第二支承部件；和与第一面隔开规定的高度地设置的电极部，第一支承部件具有：设置在第一面上的第一壁部；和在第一壁部的上部向第一面的内侧伸出的第一伸出部，第二支承部件具有：设置在第一面上的第二壁部；和在第二壁部的上部向第一面的内侧伸出的第二伸出部，第一壁部具有：在从第一面起的规定的高度范围，高度减少的第一部分；和利用第一部分在第一壁部的内侧面形成的第一台阶部，第二壁部具有通过电极部在与第一面相距规定的高度的位置向第二壁部的内侧面伸出而形成的第二台阶部。二壁部的内侧面伸出而形成的第二台阶部。二壁部的内侧面伸出而形成的第二台阶部。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】蒸镀掩模的制造装置和蒸镀掩模的制造方法


[0001]本专利技术的一个实施方式涉及蒸镀掩模的制造装置、和使用该制造装置的蒸镀掩模的制造方法。

技术介绍

[0002]近年来，已知有使用有机EL元件作为发光元件的有机EL显示装置。有机EL元件具有阳极电极、阴极电极、和设置在阳极电极与阴极电极之间的包含有机EL材料的层(下面，称为“有机EL层”)。有机EL层例如包含发光层、电子注入层、空穴注入层等功能层。通过对阳极电极和阴极电极分别施加电压，在阳极电极与阴极电极之间流动电流，有机EL元件能够发光。
[0003]在形成有机EL元件的发光层时，例如可以使用真空蒸镀法。真空蒸镀法是通过在真空下利用加热器对蒸镀材料进行加热使其升华并沉积(蒸镀)在基板的表面的方法。通过使用真空蒸镀法，能够在基板的表面上形成蒸镀材料的薄膜。另外，在真空蒸镀法中，通过使用具有多个微细的开口图案的掩模(蒸镀掩模)，能够形成高精细的薄膜图案。
[0004]使用利用电场镀敷(镀敷法)的电铸(电气铸造)技术制造的电精细成形掩模(EFM)是蒸镀掩模的一种。例如，专利文献1中公开了利用电铸技术制造蒸镀掩模的方法。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1：日本特开2017
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210633号公报

技术实现思路

[0008]专利技术要解决的技术问题
[0009]例如，当使用已破损的蒸镀掩模制造有机EL显示装置时，与蒸镀掩模的破损部分对应的有机EL元件的发光层无法被正常蒸镀。例如，当存在因蒸镀掩模的制造不良而导致微细的开口图案堵塞等缺陷时，使用包含该缺陷的蒸镀掩模制造的有机EL显示装置的有机EL元件无法被蒸镀发光层。没有被蒸镀发光层的有机EL元件不会发光，因此，有机EL显示装置会产生显示不良。另外，当因蒸镀掩模的制造不良而存在本来必须分离的开口图案相连等缺陷时，使用包含该缺陷的蒸镀掩模制造的有机EL显示装置的有机EL元件，会在本来不应该形成发光层的区域形成发光层，会产生元件分离不良。因此，在蒸镀掩模的制造中，要求不仅能够高精度地形成多个微细的开口图案，而且不会产生缺陷的技术。另外，要求能够制造不会产生缺陷的蒸镀掩模的装置(蒸镀掩模制造装置)。
[0010]本专利技术的一个实施方式的目的之一在于，提供能够抑制缺陷的蒸镀掩模的制造装置和蒸镀掩模的制造方法。
[0011]用于解决技术问题的手段
[0012]本专利技术一个实施方式提供一种蒸镀掩模的制造装置，其包括：支承母材，其具有用于支承被镀敷部件的第一面；在所述第一面上以包围所述被镀敷部件的外周的方式设置的
第一支承部件和第二支承部件；和与所述第一面隔开规定的高度地设置的电极部，所述第一支承部件具有：设置在所述第一面上的第一壁部；和在所述第一壁部的上部向所述第一面的内侧伸出的第一伸出部，所述第二支承部件具有：设置在所述第一面上的第二壁部；和在所述第二壁部的上部向所述第一面的内侧伸出的第二伸出部，所述第一壁部具有：在从所述第一面起的所述规定的高度的范围，高度减少的第一部分；和利用所述第一部分在所述第一壁部的内侧面形成的第一台阶部，所述第二壁部具有通过所述电极部在与所述第一面相距所述规定的高度的位置向所述第二壁部的内侧面伸出而形成的第二台阶部，所述第一支承部件和所述第二支承部件以能够将所述被镀敷部件夹在所述第一台阶部和所述第二台阶部与所述第一面之间的方式配置。
[0013]本专利技术一个实施方式提供一种蒸镀掩模的制造方法，其包括：在所述第二面的内侧区域以第一膜厚形成所述第一抗蚀剂掩模的步骤；和使用蒸镀掩模的制造装置，在所述第一抗蚀剂掩模的设置所述第一台阶部的一侧和设置所述第一台阶部的一侧的相反侧各自的所述第二面上形成剥离层的步骤，其中，所述蒸镀掩模的制造装置包括：支承母材，其具有用于支承被镀敷部件的第一面；在所述第一面上以包围所述被镀敷部件的外周的方式设置的第一支承部件和第二支承部件；和与所述第一面隔开规定的高度地设置的电极部，所述第一支承部件具有：设置在所述第一面上的第一壁部；和在所述第一壁部的上部向所述第一面的内侧伸出的第一伸出部，所述第二支承部件具有：设置在所述第一面上的第二壁部；和在所述第二壁部的上部向所述第一面的内侧伸出的第二伸出部，所述第一壁部具有：在从所述第一面起的所述规定的高度的范围，高度减少的第一部分；和利用所述第一部分在所述第一壁部的内侧面形成的第一台阶部，所述第二壁部具有通过所述电极部在与所述第一面相距所述规定的高度的位置向所述第二壁部的内侧面伸出而形成的第二台阶部，所述第一支承部件和所述第二支承部件以能够将所述被镀敷部件夹在所述第一台阶部和所述第二台阶部与所述第一面之间的方式配置，所述第一伸出部和所述第二伸出部覆盖所述被镀敷部件的第二面的一部分，所述第二伸出部覆盖所述第二面的长度大于所述第一伸出部覆盖所述被镀敷部件的长度，在从截面看时，所述第二伸出部的端部与设置在所述第二面的第一抗蚀剂掩模的端部的距离，等于所述第一伸出部的端部与所述第一抗蚀剂掩模的端部的距离，所述第二伸出部与所述第二面的距离为10mm，所述第二伸出部的端部与所述第一抗蚀剂掩模的端部的距离为4mm。
附图说明
[0014]图1表示通过本专利技术一个实施方式的方法制作的蒸镀掩模单元的示意性的平面图。
[0015]图2表示沿着图1所示的A1
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A2线的截面结构。
[0016]图3的(A)、图3的(B)和图3的(C)是表示制造本专利技术一个实施方式的蒸镀掩模的方法的示意性的截面图。
[0017]图4的(A)和图4的(B)是表示制造本专利技术一个实施方式的蒸镀掩模的方法的示意性的截面图。
[0018]图5是表示制造本专利技术一个实施方式的蒸镀掩模的装置的示意性的平面图。
[0019]图6是表示制造本专利技术一个实施方式的蒸镀掩模的装置的示意性的平面图。
[0020]图7的(A)表示沿着图6所示的B1
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B2的截面结构，图7的(B)表示沿着图6所示的C1
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C2的截面结构。
[0021]图8是表示制造本专利技术一个实施方式的蒸镀掩模的装置和方法的示意性的平面图。
[0022]图9的(A)表示沿着图8所示的D1
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D2的截面结构，图9的(B)表示沿着图8所示的E1
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E2的截面结构。
[0023]图10是表示使用制造本专利技术一个实施方式的蒸镀掩模的装置进行镀敷处理时的剥离层的最外周的膜厚相对于伸出部的高度的关系的图。
[0024]图11的(A)和图11的(B)是表示制造本专利技术一个实施方式的蒸镀掩模的方法的示意性的截面图。
[0025]图12的(A)和图12的(B)是表示制造本专利技术一个实施方式的蒸镀掩模的方法的示意性的截面图。
[0026]图13的(A)、图13的(B)和图13的(C)是表示制造本专利技术一个实施方式的蒸镀掩模的方法的示意性的截面图。
[0027]图14的(A)和图本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种蒸镀掩模的制造装置，其特征在于，包括：支承母材，其具有用于支承被镀敷部件的第一面；在所述第一面上以包围所述被镀敷部件的外周的方式设置的第一支承部件和第二支承部件；和与所述第一面隔开规定的高度地设置的电极部，所述第一支承部件具有：设置在所述第一面上的第一壁部；和在所述第一壁部的上部向所述第一面的内侧伸出的第一伸出部，所述第二支承部件具有：设置在所述第一面上的第二壁部；和在所述第二壁部的上部向所述第一面的内侧伸出的第二伸出部，所述第一壁部具有：在从所述第一面起的所述规定的高度的范围，高度减少的第一部分；和利用所述第一部分在所述第一壁部的内侧面形成的第一台阶部，所述第二壁部具有通过所述电极部在与所述第一面相距所述规定的高度的位置向所述第二壁部的内侧面伸出而形成的第二台阶部，所述第一支承部件和所述第二支承部件以能够将所述被镀敷部件夹在所述第一台阶部和所述第二台阶部与所述第一面之间的方式配置。2.根据权利要求1所述的蒸镀掩模的制造装置，其特征在于：所述第一伸出部与所述第二伸出部的距离小于所述第一台阶部与所述第二台阶部的距离。3.根据权利要求2所述的蒸镀掩模的制造装置，其特征在于：所述第一伸出部和所述第二伸出部覆盖所述被镀敷部件的第二面的一部分，所述第二伸出部覆盖所述第二面的长度大于所述第一伸出部覆盖所述被镀敷部件的长度。4.根据权利要求3所述的蒸镀掩模的制造装置，其特征在于：在从截面看时，所述第二伸出部与所述第二面的距离等于所述第一伸出部与所述第二面的距离。5.根据权利要求3所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：木村辽太郎，
申请(专利权)人：株式会社日本显示器，
类型：发明
国别省市：