本发明专利技术涉及一种真空镀氧化铝膜的均匀供气装置，包括下模具和上模具，下模具上表面开设有凹槽，凹槽上表面开设有主腔体，上模具固定安装在凹槽内并对主腔体顶部进行密封，且上模具顶部贯穿开设有进气孔，下模具壳体顶部靠近凹槽边缘处开设有若干排气孔，若干排气孔内均设置有气压调节机构，在主腔体的分布效能下，较均匀的气体通过二级通道进入排气孔，在排气孔内设置有阻尼膜片，针对不同浓度的氧气可以调节膜片的孔径来使得输出气体均匀化；同时，气体流过阻尼膜片的匀气孔，进入输出管路内气体的动压相对于主腔体增加了，同时增加了缓冲间隙内的气体静压，实现气体均匀输出性。实现气体均匀输出性。实现气体均匀输出性。
【技术实现步骤摘要】
一种真空镀氧化铝膜的均匀供气装置
[0001]本专利技术涉及一种真空镀膜供气装置，尤其是真空镀氧化铝膜的均匀供气装置。
技术介绍
[0002]现有技术中在生产氧化铝膜时，通常是在真空的反应容器中通入氧气和铝蒸气进行反应得到氧化铝膜，即铝经过高温气化为铝蒸气并通入至反应容器中，并在反应容器中通入氧气。
[0003]目前氧气供气装置一般采用一根直径12毫米左右的圆管，在一条直线上等距离或等差距离打微小的孔，气体从一端输入或从两端同时输入，通过气体静压力使得气体在圆管里分布，然后通过微小的孔输出气体到反应环境中；这个方法存在气体分布均匀性差、气体输入量偏小时无法均匀气体，导致每个微小孔输出的气体质量不等、微小孔容易堵塞、清洁操作不方便等缺点，因此本专利技术目的在于提供真空镀氧化铝膜的均匀供气装置。
技术实现思路
[0004]本专利技术的目的是通过提出真空镀氧化铝膜的均匀供气装置，以解决上述
技术介绍
中提出的缺陷。
[0005]本专利技术采用的技术方案如下：提供真空镀氧化铝膜的均匀供气装置，包括下模具和上模具，所述下模具上表面开设有凹槽，所述凹槽上表面开设有主腔体，所述上模具固定安装在凹槽内并对主腔体顶部进行密封，且所述上模具顶部贯穿开设有进气孔，所述下模具壳体顶部靠近凹槽边缘处开设有若干排气孔，若干所述排气孔内均设置有气压调节机构，所述气压调节机构用于调节排气孔内气体的动压，且所述凹槽侧壁开设有与排气孔连通的二级通道，还包括：进气管路，所述进气管路安装在进气孔内，所述进气管路用于将气体输送至主腔体内；输出管路，所述输出管路安装在排气孔内，且所述输出管路用于将气体均匀输出。
[0006]作为本专利技术的一种优选技术方案：所述排气孔底部呈锥形结构，且锥形结构底部贯穿开设有与二级通道连通的通孔，所述通孔孔径小于所述排气孔孔径，所述通孔孔径小于所述二级通道孔径。
[0007]作为本专利技术的一种优选技术方案：所述气压调节机构包括限位环和设置在限位环下方的阻尼膜片，其中，所述限位环螺纹安装在排气孔内，且所述限位环与锥形结构之间预留有缓冲间隙。
[0008]作为本专利技术的一种优选技术方案：所述阻尼膜片安装在缓冲间隙内，且所述阻尼膜片中心处贯穿开设有匀气孔。
[0009]作为本专利技术的一种优选技术方案：当所述上模具固定安装在凹槽内时，所述主腔体顶部呈密封状态，且所述进气孔与所述主腔体连通，所述进气孔位于所述主腔体顶部中心处。
[0010]作为本专利技术的一种优选技术方案：所述输出管路包括输气管，所述输气管一端设置有连接座，所述输气管另一端螺纹安装有扩散帽，且所述扩散帽呈竖直状态。
[0011]作为本专利技术的一种优选技术方案：所述连接座螺纹安装在排气孔内，所述输气管与连接座的管道孔径尺寸相同，且所述输出管路呈Z字型结构。
[0012]作为本专利技术的一种优选技术方案：所述扩散帽孔径尺寸大于所述输气管孔径尺寸。
[0013]作为本专利技术的一种优选技术方案：所述下模具壳体一侧贯穿开设有与二级通道连通的泄压孔，所述泄压孔内安装有密封塞。
[0014]与现有技术相比，本专利技术的有益效果：1、该真空镀氧化铝膜的均匀供气装置中，在主腔体的分布效能下，较均匀的气体通过二级通道进入排气孔，在排气孔内设置有阻尼膜片，针对不同浓度的氧气可以调节膜片的孔径来使得输出气体均匀化；同时，气体流过阻尼膜片的匀气孔，进入输出管路内气体的动压相对于主腔体增加了，同时增加了缓冲间隙内的气体静压，实现气体均匀输出。
[0015]2、该真空镀氧化铝膜的均匀供气装置中，扩散帽竖直安装在输气管上，由于气体分子是有重量的，因此，扩散帽采用竖直布置，由于气体的自我阻尼，保证只有足量的气体分子才会有相应的流出，同时，扩散帽孔径大于输气管孔径，气道由小变大是气体由动压转为静压，有利于出口气体扩散和反应，方便对管路进行清洁；同时，由若干个输出管路组成了批量输气管路，进而提高了气体输送的效率。
附图说明
[0016]图1为本专利技术优选实施例的整体结构示意图。
[0017]图2为本专利技术优选实施例的下模具结构示意图。
[0018]图3为本专利技术优选实施例的图2中A处结构示意图。
[0019]图4为本专利技术优选实施例中上模具结构示意图。
[0020]图5为本专利技术优选实施例中输出管路结构示意图。
[0021]图6为本专利技术优选实施例中模具局部剖视结构示意图之一。
[0022]图7为本专利技术优选实施例的图6中B处结构示意图。
[0023]图8为本专利技术优选实施例中模具局部剖视结构示意图之二。
[0024]图9为本专利技术中供气均匀装置应用环境示意图。
[0025]图中各个标记的意义为：1、下模具；101、凹槽；102、主腔体；103、二级通道；104、排气孔；1041、限位环；1042、阻尼膜片；1043、通孔；105、第二螺孔；2、上模具；201、进气孔；202、第一螺孔；3、进气管路；4、输出管路；401、输气管；402、连接座；403、扩散帽。
具体实施方式
[0026]需要说明的是，在不冲突的情况下，本实施例中的实施例及实施例中的特征可以
相互组合，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0027]实施例1：请参阅图1
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图8所示，本实施例目的在于，提供了真空镀氧化铝膜的均匀供气装置，包括下模具1和上模具2，下模具1上表面开设有凹槽101，凹槽101上表面开设有主腔体102，上模具2固定安装在凹槽101内并对主腔体102顶部进行密封，具体的，上模具2上表面四周边缘处均贯穿开设有第一螺孔202，下模具1表面开设有与第一螺孔202相适配的第二螺孔105，当需要将上模具2固定安装在凹槽101时，将螺栓一端穿入第一螺孔202并螺纹安装在第二螺孔105内，通过螺纹将上模具2固定安装在凹槽101内，且上模具2顶部贯穿开设有进气孔201，当上模具2固定安装在凹槽101内时，主腔体102顶部呈密封状态，且进气孔201与主腔体102连通，进气孔201位于主腔体102顶部中心处，气体通过进气管路3通入进气孔201内时，气体可快速、均匀的扩散至主腔体102内，此时，气体动压减小，静压增大，实现第一次的气体分布，同时，随着气体压力及气体重量的增加，气体被分配至二级通道103内，通过输出管路4排出，进气管路3安装在进气孔201内，进气管路3用于将气体输送至主腔体102内，为了实现进气管路3可拆卸，因此，进气管路3一端螺纹安装在进气孔201内。
[0028]为了保障气体可通过多路均匀的排出，在下模具1壳体顶部靠近凹槽101边缘处开设有若干排气孔104，为保障若干排气孔104排出的气体均匀稳定，因此，若干排气孔104内均设置有气压调节机构，本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.真空镀氧化铝膜的均匀供气装置，包括下模具（1）和上模具（2），其特征在于：所述下模具（1）上表面开设有凹槽（101），所述凹槽（101）上表面开设有主腔体（102），所述上模具（2）固定安装在凹槽（101）内并对主腔体（102）顶部进行密封，且所述上模具（2）顶部贯穿开设有进气孔（201），所述下模具（1）壳体顶部靠近凹槽（101）边缘处开设有若干排气孔（104），若干所述排气孔（104）内均设置有气压调节机构，所述气压调节机构用于调节排气孔（104）内气体的动压，且所述凹槽（101）侧壁开设有与排气孔（104）连通的二级通道（103），还包括：进气管路（3），所述进气管路（3）安装在进气孔（201）内，且所述进气管路（3）用于将气体输送至主腔体（102）内；输出管路（4），所述输出管路（4）安装在排气孔（104）内，且所述输出管路（4）用于将气体均匀输出；所述排气孔（104）底部呈锥形结构，且锥形结构底部贯穿开设有与二级通道（103）连通的通孔（1043），所述通孔（1043）孔径小于所述排气孔（104）孔径，所述通孔（1043）孔径小于所述二级通道（103）孔径；所述气压调节机构包括限位环（1041）和设置在限位环（1041）下方的阻尼膜片（1042），其中，所述限位环（1041）螺纹安装在排气孔（104）内，且所述限...
【专利技术属性】
技术研发人员：李泽仁，周欢，占申国，
申请(专利权)人：上海宇泽机电设备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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