显示装置的制造方法及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及显示装置的制造方法及显示装置。一个实施方式的显示装置的制造方法包括：形成包含第1金属层和导电性氧化物层的下电极，该导电性氧化物层覆盖所述第1金属层且厚度为15nm以上且50nm以下；形成覆盖所述下电极的至少一部分并具有使所述导电性氧化物层露出的像素开口的肋部；在从所述像素开口露出的所述导电性氧化物层及所述肋部的上方形成第2金属层；和通过包含湿式蚀刻的蚀刻使所述第2金属层图案化以在所述肋部之上形成隔壁。金属层图案化以在所述肋部之上形成隔壁。金属层图案化以在所述肋部之上形成隔壁。

【技术实现步骤摘要】
显示装置的制造方法及显示装置
[0001]关联申请的交叉参照
[0002]本申请基于2022年3月2日提出申请的日本专利申请第2022
‑
031644号主张优先权，并引用该日本专利申请所记载的全部记载内容。


[0003]本专利技术的实施方式涉及显示装置的制造方法及显示装置。

技术介绍

[0004]近年来，作为显示元件应用有机发光二极管(OLED)的显示装置被实用化。该显示元件具备下电极、覆盖下电极的有机层和覆盖有机层的上电极。
[0005]在显示装置的制造时，多种要素通过蚀刻而形成。在某要素的蚀刻时，若其他要素损伤，则显示装置的可靠性可能下降。

技术实现思路

[0006]总体而言，根据实施方式，显示装置的制造方法包括：形成包含第1金属层和导电性氧化物层的下电极，该导电性氧化物层覆盖所述第1金属层且厚度为15nm以上且50nm以下；形成覆盖所述下电极的至少一部分并具有使所述导电性氧化物层露出的像素开口的肋部；在从所述像素开口露出的所述导电性氧化物层及所述肋部的上方形成第2金属层；和通过包含本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.显示装置的制造方法，其包括：形成包含第1金属层和导电性氧化物层的下电极，该导电性氧化物层覆盖所述第1金属层且厚度为15nm以上且50nm以下；形成覆盖所述下电极的至少一部分并具有使所述导电性氧化物层露出的像素开口的肋部；在从所述像素开口露出的所述导电性氧化物层及所述肋部的上方形成第2金属层；和通过包含湿式蚀刻的蚀刻使所述第2金属层图案化以在所述肋部之上形成隔壁。2.根据权利要求1所述的显示装置的制造方法，其中，所述导电性氧化物层的厚度为20nm以上且40nm以下。3.根据权利要求1所述的显示装置的制造方法，其中，所述第1金属层及所述第2金属层由铝、铝合金、银及银合金中的任一种形成。4.根据权利要求1所述的显示装置的制造方法，其中，所述导电性氧化物层由ITO或IZO形成。5.根据权利要求1所述的显示装置的制造方法，其中，所述肋部由无机材料形成。6.根据权利要求5所述的显示装置的制造方法，其中，所述肋部由硅氮化物、硅氧化物及硅氧氮化物中的任一种形成。7.根据权利要求1所述的显示装置的制造方法，其中，所述湿式蚀刻中使用的蚀刻液侵蚀所述第1金属层的材料及所述第2金属层的材料。8.根据权利要求7所述的显示装置的制造方法，其中，所述蚀刻液包含磷酸、硝酸及醋酸。9.根据权利要求8所述的显示装置的制造方法，其中，所述蚀刻液包含60重量％以上且70重量％以下的磷酸、8重量％以上且10重量％以下的硝酸、及2重量％以上且5重量％以下的醋酸。10.根据权利要求1所述的显...

【专利技术属性】
技术研发人员：铃村功，木村史哉，小川浩，
申请(专利权)人：株式会社日本显示器，
类型：发明
国别省市：