一种高定向水平排列氮化硼膜的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种高定向水平排列氮化硼膜的制备方法，包括以下步骤：使用氮化硼粉末作为原料以制备浆料；将所制备的浆料涂布于离型膜上，得到薄膜；对薄膜进行压缩处理；重复多次上述涂布、压缩处理步骤，得到预处理薄膜；对预处理薄膜进行热压处理，得到高定向水平排列氮化硼膜。本发明专利技术通过筛选一定片径大小的氮化硼粉末与涂布厚度匹配，匹配比例为涂布厚度：氮化硼片径＝2

【技术实现步骤摘要】
一种高定向水平排列氮化硼膜的制备方法


[0001]本专利技术涉及导热材料领域，具体而言，涉及一种高定向水平排列氮化硼膜的制备方法。

技术介绍

[0002]5G时代的设备在小型化、集约化、轻量化的同时也在追求着的更优越的性能，5G技术采用的超高频信号在原有的材料传播中发生了更大的介电损耗，因此对手机的散热材料也提出了更苛刻的要求。在智能终端领域，这要求体现为需同时保持优良的散热性能(高导热)及具有优良电气性能(低介电、绝缘)。有白色石墨之称的六方氮化硼，它具有类似石墨的层状结构，有良好的润滑性，电绝缘性导热性和耐化学腐蚀性，理论热导率可达300W/m
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K左右，但实际应用中不定向的六方氮化硼由于无法形成有效的导热网络而影响其导热性能，因此开发一款高定向水平排列氮化硼膜具有广阔的市场前景，过去在氮化硼成膜制备工艺中一般都采用高速机械剥离或者超声分散技术进行剥离，然后进行一次涂布压缩成膜，没有考虑到氮化硼粉体固化成型前的水平定向排列程度；现有技术的制备工艺中一般使用高速机械剥离或者超声分散剥离进行改性，然后进行一次涂布压缩成膜；采用本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高定向水平排列氮化硼膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：使用氮化硼粉末作为原料以制备浆料；将所制备的浆料涂布于离型膜上，得到薄膜；对薄膜进行压缩处理；重复多次上述涂布、压缩处理步骤，得到预处理薄膜；对预处理薄膜进行热压处理，得到高定向水平排列氮化硼膜。2.根据权利要求1所述的高定向水平排列氮化硼膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1：将氮化硼粉末、溶剂、聚合物混合均匀，按重量份算，混合比例为氮化硼粉末100份，溶剂300份
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600份，聚合物10份
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50份，得到浆料；S2:使用刮刀将所得浆料在离型膜上进行涂布，得到薄膜；S3:对薄膜进行压缩处理；S4:重复S2及S3步骤多次，得到预处理薄膜；S5:对预处理薄膜进行热压处理，得到高定向水平排列氮化硼膜。3.根据权利要求1或2所述的高定向水平排列氮化硼膜的制备方法，其特征在于，所述氮化硼粉末的片径D50为50nm～200μm。4.根据权利要求1或2所述的高定向水平排列氮化硼膜的制备方法，其特征在于，所述涂布的涂布厚度为5μm～1000μm。5.根据权利要求1或2所述的高定向水平排列氮化硼膜的...

【专利技术属性】
技术研发人员：范维仁，陈国荣，赖佛阳，丘陵，成会明，
申请(专利权)人：佛山华南新材料研究院，
类型：发明
国别省市：