双面发声装置制造方法及图纸

技术编号:38678837 阅读:12 留言:0更新日期:2023-09-02 22:52
本实用新型专利技术提供的同轴双面发声装置,其包括盆架、分别固定于所述盆架相对两侧的第一振动系统和第二振动系统、以及磁路系统,所述第一振动系统包括固定于所述盆架的第一振膜和第一音圈,所述第二振动系统包括固定于所述盆架的第二振膜和第二音圈,所述双面发声装置还包括固定于所述盆架且盖设于所述第一振膜下方的前盖,所述前盖与所述第一振膜间隔设置形成第一前腔,所述盆架设有贯穿其上的导声通道,所述导声通道包括朝向所述第一振膜一侧的第一开口以及朝向所述第二振膜一侧的第二开口,所述第一开口与所述第一前腔连通,所述第二开口位于所述第二振膜周侧。本实用新型专利技术提供的双面发声装置响度更高、产品体积更小且磁路系统利用率高。系统利用率高。系统利用率高。

【技术实现步骤摘要】
双面发声装置


[0001]本技术涉及电声转换领域,尤其涉及一种双面发声装置。

技术介绍

[0002]发声装置包括单面发声装置和双面发声装置,其中,双面发声装置的声压级远超过单面发声装置的声压级,具有更优秀的声学性能。
[0003]目前,双面发声装置通常只是在一个单面发声装置的背面简单堆叠另一个单面发声装置,导致产品体积过大。此外,两个单面发声装置的出声通道不在同一侧,使得双面发声装置的响度有所求欠缺,音质无法达到最佳;且两个单面发声装置各自具有独立的磁路系统,不仅单个磁路系统利用率无法最大化,还造成物料成本居高不下。
[0004]因此,有必要提处一种新的双面发声装置来解决上述问题。

技术实现思路

[0005]本技术的目的是克服上述技术问题,提供一种响度更高、产品体积更小且磁路系统利用率高的双面发声装置。
[0006]为了达到上述目的,本技术提出了一种双面发声装置,其包括盆架、分别固定于所述盆架相对两侧的第一振动系统和第二振动系统、以及设置于所述第一振动系统和所述第二振动系统之间的磁路系统,所述第一振动系统包括固定于所述盆架的第一振膜和驱动所述第一振膜振动发声的第一音圈,所述第二振动系统包括固定于所述盆架的第二振膜和驱动所述第二振膜振动发声的第二音圈,所述双面发声装置还包括固定于所述盆架且盖设于所述第一振膜下方的前盖,所述前盖与所述第一振膜间隔设置形成第一前腔,所述盆架设有贯穿其上的导声通道,所述导声通道包括朝向所述第一振膜一侧的第一开口以及朝向所述第二振膜一侧的第二开口,所述第一开口与所述第一前腔连通,所述第二开口位于所述第二振膜周侧。
[0007]优选的,所述导声通道沿振动方向贯穿所述盆架。
[0008]优选的,所述盆架设有至少两个所述导声通道,至少两个所述导声通道相互间隔设置。
[0009]优选的,所述盆架包括与所述第一振膜固定连接的第一盆架以及与所述第二振膜固定连接且与所述第一盆架固定的第二盆架,所述第一盆架设有贯穿其上的第一导声通道,所述第二盆架设有贯穿其上的第二导声通道,所述第一导声通道与所述第一前腔连通,所述第一导声通道与所述第二导声通道连通形成所述导声通道。
[0010]优选的,所述第一振膜固定于所述第一盆架的内边缘,所述前盖固定于所述第一盆架的外边缘,所述第一导声通道形成于所述第一盆架的内边缘和外边缘之间。
[0011]优选的,所述第二振膜固定于所述第二盆架的内边缘,所述第二导声通道形成于所述第二盆架的内边缘和外边缘之间。
[0012]优选的,所述磁路系统包括固定于所述盆架的磁碗、收容于所述磁碗内并与所述
磁碗间隔设置的磁钢、以及设于所述磁碗与所述磁钢之间并将所述磁钢支撑于所述磁碗的固定件,所述磁碗靠近所述第一振膜的一端与所述磁钢形成第一磁间隙,所述磁碗靠近所述第二振膜的一端与所述磁钢形成第二磁间隙;所述第一振动系统还包括固定于所述第一振膜朝向所述磁钢一侧的第一骨架,所述第一音圈通过所述第一骨架插设于所述第一磁间隙内;所述第二振动系统还包括固定于所述第二振膜朝向所述磁钢一侧的第二骨架,所述第二音圈通过所述第二骨架插设于所述第二磁间隙内。
[0013]优选的,所述盆架上设有延伸至固定于所述磁碗外侧的若干支撑梁,若干所述支撑梁沿所述磁碗的周侧间隔设置。
[0014]优选的,所述第一振膜包括与所述第一骨架固定的第一球顶、环绕所述第一球顶且固定于所述第一盆架的第一折环以及自所述第一球顶朝向所述第二振膜延伸的第一延伸壁;所述第一振动系统还包括固定于所述第一延伸壁远离所述第一振膜一端的第一支撑件;所述第二振膜包括与所述第二骨架固定的第二球顶、环绕所述第二球顶且固定于所述第二盆架的第二折环以及自所述第二球顶朝向所述第一振膜延伸的第二延伸壁;所述第二振动系统还包括固定于所述第二延伸壁远离所述第二振膜一端的第二支撑件,所述第一支撑件沿振动方向的投影与所述第二支撑件沿振动方向的投影间隔设置。
[0015]优选的,所述第一支撑件沿振动方向的投影位于相邻两个所述支撑梁之间;所述第二支撑件沿振动方向的投影位于相邻两个所述支撑梁之间。
[0016]与相关技术相比,本技术提供的双面发声装置,两个振动系统的出声方向相同,增大了双面发声装置的响度,有效提升了音质;且两个振动系统共用一个磁路,不仅增大了磁路系统利用率,还使得双面发声装置的结构紧凑,降低了物料成本。
【附图说明】
[0017]为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图,其中:
[0018]图1是本技术中双面发声装置的立体图;
[0019]图2是本技术中双面发声装置的爆炸图;
[0020]图3是图1中沿A

A线的剖视图;
[0021]图4是图3中B部分的放大图;
[0022]图5是图1中沿C

C线的剖视图。
【具体实施方式】
[0023]下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本技术的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本
普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本技术保护的范围。
[0024]如图1

图5所示,本技术提供了一种同轴双面发声装置100,其包括盆架10、分别固定于所述盆架10相对两侧的第一振动系统20、第二振动系统30、以及设置于所述第一
振动系统20和所述第二振动系统30之间的磁路系统40。
[0025]所述第一振动系统20包括固定于所述盆架10的第一振膜21和驱动所述第一振膜21振动发声的第一音圈22。
[0026]所述第二振动系统30包括固定于所述盆架10的第二振膜31和驱动所述第二振膜31振动发声的第二音圈32。
[0027]所述磁路系统40包括固定于所述盆架10的磁碗41、收容于所述磁碗41内并与所述磁碗41间隔设置的磁钢42、以及设于所述磁碗41与所述磁钢42之间并将所述磁钢42支撑于所述磁碗41的固定件43;所述磁碗41靠近所述第一振膜21的一端与所述磁钢42形成第一磁间隙44,所述磁碗41靠近所述第二振膜31的一端与所述磁钢42形成第二磁间隙45。在本实施例中,所述盆架10上设有延伸至固定于所述磁碗41外侧的若干支撑梁11,若干所述支撑梁11沿所述磁碗41的周侧间隔设置,所述磁碗41通过所述支撑梁11将所述磁路系统40固定于所述盆架10。为了进一步增强所述磁路系统40的磁场性能,所述磁路系统40还包括设于所述磁钢42朝向所述第一振膜21一侧的第一极芯46、设于所述磁钢42朝向所述第二振膜31一侧的第二极本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种双面发声装置,其包括盆架、分别固定于所述盆架相对两侧的第一振动系统和第二振动系统、以及设置于所述第一振动系统和所述第二振动系统之间的磁路系统,所述第一振动系统包括固定于所述盆架的第一振膜和驱动所述第一振膜振动发声的第一音圈,所述第二振动系统包括固定于所述盆架的第二振膜和驱动所述第二振膜振动发声的第二音圈,其特征在于,所述双面发声装置还包括固定于所述盆架且盖设于所述第一振膜下方的前盖,所述前盖与所述第一振膜间隔设置形成第一前腔,所述盆架设有贯穿其上的导声通道,所述导声通道包括朝向所述第一振膜一侧的第一开口以及朝向所述第二振膜一侧的第二开口,所述第一开口与所述第一前腔连通,所述第二开口位于所述第二振膜周侧。2.根据权利要求1所述的双面发声装置,其特征在于,所述导声通道沿振动方向贯穿所述盆架。3.根据权利要求1所述的双面发声装置,其特征在于,所述盆架设有至少两个所述导声通道,至少两个所述导声通道相互间隔设置。4.根据权利要求1所述的双面发声装置,其特征在于,所述盆架包括与所述第一振膜固定连接的第一盆架以及与所述第二振膜固定连接且与所述第一盆架固定的第二盆架,所述第一盆架设有贯穿其上的第一导声通道,所述第二盆架设有贯穿其上的第二导声通道,所述第一导声通道与所述第一前腔连通,所述第一导声通道与所述第二导声通道连通形成所述导声通道。5.根据权利要求4所述的双面发声装置,其特征在于,所述第一振膜固定于所述第一盆架的内边缘,所述前盖固定于所述第一盆架的外边缘,所述第一导声通道形成于所述第一盆架的内边缘和外边缘之间。6.根据权利要求4所述的双面发声装置,其特征在于,所述第二振膜固定于所述第二盆架的内边缘,所述第二导声通道形成于所述第二盆架的内边缘和...

【专利技术属性】
技术研发人员:孟义明刘威杨沛霖冯炎皓
申请(专利权)人:瑞声光电科技常州有限公司
类型:新型
国别省市:

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