一种硼氮化合物、有机电致发光器件制造技术

本发明专利技术属于有机光电材料技术领域，更具体地，涉及一种硼氮化合物、有机电致发光器件。本发明专利技术提供的硼氮化合物具有如式(1)或(2)所示的结构，具有合成方法简单、合成周期短、多次合成再现性等优点，且上述硼氮化合物的ΔE

【技术实现步骤摘要】
一种硼氮化合物、有机电致发光器件


[0001]本专利技术有机光电材料
，更具体地，涉及一种硼氮化合物、有机电致发光器件。

技术介绍

[0002]自1987年C.W.Tang等人首次报道了超薄多层有机电致发光二极管(organic light
‑
emitting diodes，OLEDs)以来，OLED在学术和工业界都受到了广泛的关注，并已经成功商业化。作为第三代有机电致发光二极管(OLED)材料，热激活延迟荧光(thermally activated delayed fluorescence，TADF)材料因不含昂贵的贵金属，且能充分利用单线态和三线态激子的特点，引起了学术界和工业界的广泛关注。尽管目前TADF材料和器件的研究已取得了重大进展，但新的TADF材料仍亟待开发，尤其高效TADF材料的开发与设计。
[0003]随着人们对其分子设计准则和光物理原理认识的进展，采用真空蒸镀的TADF
‑
OLED器件的最大外量子效率(EQE)已超过40％，接近磷光器件的水平。但是，真空蒸镀所用的设备复杂、设备投资和维护费用高昂、对有机材料的利用率低等，增加了OLED器件制造成本和制造过程的复杂性，严重影响了OLED显示屏的推广普及。旋涂、喷墨印刷、卷对卷、凹版印刷和丝网印刷等溶液加工技术作为一种有效的替代策略，因其材料利用率高、制造工艺简单、设备投资费用低、适合大规模生产等优点而受到了广泛关注。但溶液加工法对TADF材料的分子要求十分严格，其分子不仅需要具备小ΔE
ST<br/>和高荧光量子产率(PLQY)，还需要拥有良好的溶解性和成膜能力以满足其可溶液加工。
[0004]小分子TADF材料具有确定的分子结构、易于合成和纯化、单分散分子量等优点，使其成为具有广阔前景的可溶液加工的TADF材料。当前可溶液加工的小分子TADF材料大多是在蒸镀型TADF分子的基础上进行修饰，使TADF材料具有良好的可溶液加工性能，如通过在刚性TADF材料中引入甲基、叔丁基、氟原子、三氟甲基、仲丁氧基或金刚烷等柔性基团，进而提高小分子TADF材料的溶解度和成膜能力。但柔性基团的引入会增加分子的非辐射损耗，牺牲TADF材料本身的发光效率。与众多的蒸镀型TADF分子相比，可溶液加工的高效小分子TADF材料还是相对较少且发光效率较低。
[0005]因此，开发出可溶液加工的、发光效率高的小分子TADF材料是显示领域研究的热点。

技术实现思路

[0006]针对现有技术的缺陷，本专利技术提供了一种硼氮化合物、有机电致发光器件，解决了现有技术可溶液加工的小分子TADF材料少，以及发光效率有待提升等问题。
[0007]为实现上述目的，本专利技术提供了一种硼氮化合物，其具有式(1)或(2)所示的结构，
[0008][0009]其中，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R
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、R
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每次出现时独立地为氢原子、氰基、卤素、C1～C20烷氧基、C1～C20烷硫基、C1～C20烷胺基、C6～C50芳氧基、C6～C50芳硫基、C6～C50芳基、C6～C50芳杂环基团或C6～C50的芳香胺类基团。
[0010]优选地，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R
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、R
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每次出现时独立地为甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基、异丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、戊氧基、异戊氧基、新戊氧基、叔戊氧基、己氧基、2
‑
甲基戊氧基、甲硫基、乙硫基、丙硫基、正丁硫基、仲丁硫基、叔丁硫基、甲胺基、乙胺基、丙胺基、丁胺基、戊胺基、异戊胺基、新戊胺基、叔戊胺基、己胺基、二甲胺基、二乙胺基、二丙胺基、二丁胺基、二戊胺基、二异戊胺基、二新戊胺基、二叔戊胺基或二己胺基。
[0011]优选地，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R
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、R
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、R
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每次出现时独立地为邻
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甲基苯基胺基、邻
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乙基苯基胺基、邻
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丙基苯基胺基、邻
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异丙基苯基胺基、邻
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甲氧基苯基胺基、邻
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乙氧基苯基胺基、邻
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丙氧基苯基胺基、邻
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氟代苯基胺基、邻
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氯代苯基胺基、邻
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溴代苯基胺基、邻
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碘代苯基胺基、二(邻
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溴代苯基)胺基、二(邻
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种硼氮化合物，其特征在于，具有式(1)或(2)所示的结构，其中，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R
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每次出现时独立地为氢原子、氰基、卤素、C1～C20烷氧基、C1～C20烷硫基、C1～C20烷胺基、C6～C50芳氧基、C6～C50芳硫基、C6～C50芳基、C6～C50芳杂环基团或C6～C50芳香胺类基团。2.如权利要求1所述的硼氮化合物，其特征在于，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R
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每次出现时独立地为甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基、异丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、戊氧基、异戊氧基、新戊氧基、叔戊氧基、己氧基、2
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甲基戊氧基、甲硫基、乙硫基、丙硫基、正丁硫基、仲丁硫基、叔丁硫基、甲胺基、乙胺基、丙胺基、丁胺基、戊胺基、异戊胺基、新戊胺基、叔戊胺基、己胺基、二甲胺基、二乙胺基、二丙胺基、二丁胺基、二戊胺基、二异戊胺基、二新戊胺基、二叔戊胺基或二己胺基。3.如权利要求1所述的硼氮化合物，其特征在于，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R
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、R
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每次出现时独立地为邻
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甲基苯基胺基、邻
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甲氧基苯基胺基、邻
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乙氧基苯基胺基、邻
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丙氧基苯基胺基、邻
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氟代苯基胺基、邻
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溴代苯基胺基、邻
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碘代苯基胺基...

【专利技术属性】
技术研发人员：李博文，刘美花，万晓波，付成，
申请(专利权)人：江汉大学，
类型：发明
国别省市：