一种高纯锗谱仪样品支架制造技术

本实用新型专利技术属于药品检测技术领域，具体涉及一种高纯锗谱仪样品支架，包括向上开口的内筒，所述内筒底部设置有可套接于探头上的底座；上下均开口的外筒，所述外筒中具有伸入所述内筒中的用于样品存放的容置腔；凸起，位于所述容置腔与外筒之间，且所述凸起与外筒内壁相连接；引导槽以及位于所述引导槽侧部的多组锁定槽，所述引导槽、锁定槽均开设有于所述内筒的周壁上，多组所述锁定槽沿引导槽竖直开设方向等间距分布，本实用新型专利技术解决了现有支架为固定式，其放射点源与探头之间的垂直距离无法调节，探头在精度效验中，不能根据不同放射点源所要求的垂直距离而作调整，对此而产生不便，影响探头检测精度的问题。影响探头检测精度的问题。影响探头检测精度的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种高纯锗谱仪样品支架


[0001]本技术属于药品检测
，具体涉及一种高纯锗谱仪样品支架。

技术介绍

[0002]高纯锗伽玛能谱仪，又称之为高纯锗(HPGe)伽马γ能谱仪，它适用于衰变时发射出γ射线的放射性核素活度测量，可用于不同几何形状的固态和液态物质中40K、60Co、137Cs等核素识别及定量分析，不同核素衰变过程中发射出不同能量的γ射线，被高纯锗γ能谱仪探测并进行能量甄别，以能谱图的形式显示，通过分析能谱图，即可得知相应核素信息。
[0003]在定性分析的基础上，待检样品定量分析时除需与标准源样几何形状条件一致外，样品距离探头(圆柱状探头)顶端位置也应一致，理想状态下，样品应放置在探头顶端与柱状探测器保持同轴使其距离最短，获取最大探测效率，提高测量效率和结果准确度；
[0004]由于高纯锗γ能谱仪的探头是一个光滑的圆柱体结构，目前，检验人员在放置和调节待测样品位置时比较麻烦，特别容易放偏甚至会导致待测样品滑落，导致待测样品与探头无法同轴，且需要较长时间来调节二者的同轴度，短则半分钟，长则数分钟，在无支架固定情况下人工摆放待检样品引入的误差较大。
[0005]申请号为CN202221799125.1的中国专利公开了一种用于高纯锗γ能谱仪的样品定位支架，它包括用于套装在探头上的筒体，筒体内具体一挡部，挡部与筒体轴线垂直，套装在探头上的筒体内壁与探头呈小间隙配合，且探头顶壁抵靠在挡部下壁；筒体内部且位于探头上方的区域用于容纳待检样品，待检样品与筒体内壁呈小间隙配合，待检样品下端抵靠挡部上壁。本技术所述小间隙，是指间隙不大于1mm。
[0006]随着申请人的进一步研究，发现由于该技术方案中虽然能对样品进行基础性的探测分析，起辅助作用，但其定位支架为固定式，其放射点源与探头之间的垂直距离无法调节，探头在精度效验中，不能根据不同放射点源所要求的垂直距离而作调整，对此而产生不便，影响探头检测精度。

技术实现思路

[0007]为了解决上述技术问题，本技术采用了如下技术方案：
[0008]一种高纯锗谱仪样品支架，包括向上开口的内筒，所述内筒底部设置有可套接于探头上的底座；
[0009]上下均开口的外筒，所述外筒中具有伸入所述内筒中的用于样品存放的容置腔；
[0010]凸起，位于所述容置腔与外筒之间，且所述凸起与外筒内壁相连接；
[0011]引导槽以及位于所述引导槽侧部的多组锁定槽，所述引导槽、锁定槽均开设有于所述内筒的周壁上，多组所述锁定槽沿引导槽竖直开设方向等间距分布。
[0012]进一步，所述内筒上端部开设有与所述凸起相配合的缺口。
[0013]进一步，所述凸起相对设置，在所述凸起位于引导槽内，且所述外筒与内筒发生相
对转动时，所述凸起进入锁定槽内。
[0014]进一步，所述容置腔呈向下隆起状。
[0015]进一步，所述锁定槽为三组。
[0016]进一步，所述底座内径不小于7.5cm。
[0017]本技术与现有技术相比，具有如下有益效果：
[0018]将样品放入容置腔内，通过本支架插装在探头上端，只需要很简单、轻松的操作步骤即可顺利地完成样品放置，方便将样品快速、准确地放置在探头上，相对于在无支架固定情况下人工摆放待检样品，对探头引入的误差较小，省去了繁琐地调节样品位置的工序，其结构简单，制造成本低；
[0019]外筒可套接在内筒的外周，通过向下移动外筒，使凸起沿引导槽设置方向移动，可使容置腔靠近探头处，达到调节支架高低的目的，进而使容置腔内放入的放射点源能与探头做校正工作要求相符合，其中，可通过转动外筒，以使凸起进入到锁定槽内，对支架长度、位置固定，多组锁定槽可对不同高度限定，以保证，符合不同放射点源与探头距离的需要。
附图说明
[0020]图1为本技术一种高纯锗谱仪样品支架实施例的立体结构示意图(视角一)；
[0021]图2为本技术一种高纯锗谱仪样品支架实施例的立体结构示意图(视角二)；
[0022]图3为本技术一种高纯锗谱仪样品支架实施例的剖视结构示意图；
[0023]图4为本技术实施例中内筒的立体结构示意图；
[0024]图5为本技术实施例中外筒的立体结构示意图；
[0025]说明书附图中的附图标记包括：
[0026]内筒1、引导槽10、锁定槽11、缺口12、底座13、外筒2、容置腔20、凸起21、探头3。
具体实施方式
[0027]为了使本领域的技术人员可以更好地理解本技术，下面结合附图和实施例对本技术技术方案进一步说明。
[0028]其中，附图仅用于示例性说明，表示的仅是示意图，而非实物图，不能理解为对本专利的限制；为了更好地说明本技术的实施例，附图某些部件会有省略、放大或缩小，并不代表实际产品的尺寸；对本领域技术人员来说，附图中某些公知结构及其说明可能省略是可以理解的，本技术实施例的附图中相同或相似的标号对应相同或相似的部件；在本技术的描述中，需要理解的是，若出现术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此附图中描述位置关系的用语仅用于示例性说明，不能理解为对本专利的限制，对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语的具体含义。
[0029]实施例：
[0030]如图1
‑
图5所示，本技术的一种高纯锗谱仪样品支架，包括向上开口的内筒1，内筒1底部设置有可套接于探头3上的底座13；
[0031]上下均开口的外筒2，外筒2中具有伸入内筒1中的用于样品存放的容置腔20；
[0032]将样品放入容置腔20内，通过本支架插装在探头3上端，只需要很简单、轻松的操作步骤即可顺利地完成样品放置，方便将样品快速、准确地放置在探头3上，相对于在无支架固定情况下人工摆放待检样品，对探头3引入的误差较小，省去了繁琐地调节样品位置的工序，其结构简单，制造成本低；
[0033]凸起21，位于容置腔20与外筒2之间，且凸起21与外筒2内壁相连接；
[0034]引导槽10以及位于引导槽10侧部的多组锁定槽11，引导槽10、锁定槽11均开设有于内筒1的周壁上，多组锁定槽11沿引导槽10竖直开设方向等间距分布。
[0035]内筒1上端部开设有与凸起21相配合的缺口12，缺口12的设置以使凸起21进入引导槽10。
[0036]另外，凸起21可以为两个，需要相对设置，在凸起21位于引导槽10内，且外筒2与内筒1发生相对转动时，凸起21进入锁定槽11内，外筒2可套接在内筒1的外周，通过向下移动外筒2，使凸起21沿引导槽10设置方向移动，可使容置腔20靠近探头3处，达到调节支架高低的目的，进而使容置腔20内放入本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高纯锗谱仪样品支架，其特征在于，包括：向上开口的内筒，所述内筒底部设置有可套接于探头上的底座；上下均开口的外筒，所述外筒中具有伸入所述内筒中的用于样品存放的容置腔；凸起，位于所述容置腔与外筒之间，且所述凸起与外筒内壁相连接；引导槽以及位于所述引导槽侧部的多组锁定槽，所述引导槽、锁定槽均开设有于所述内筒的周壁上，多组所述锁定槽沿引导槽竖直开设方向等间距分布。2.如权利要求1所述的一种高纯锗谱仪样品支架，其特征在于：所述内筒上端部开设有与所述凸起相配合...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓洪，
申请(专利权)人：四川原子高通药业有限公司，
类型：新型
国别省市：