【技术实现步骤摘要】
低温等离子体射流阵列产生电极
[0001]本专利技术涉及等离子体
,特别涉及一种低温等离子体射流阵列产生电极。
技术介绍
[0002]低温等离子具有非常广阔的应用前景,在杀菌、消毒、表面处理等方面得到了广泛的应用。目前众多应用中存在两个显著需求:第一,低温等离子体能在不受电极结构制约的开放环境中产生。实际上等离子体的产生往往都在两个电极之间,击穿电压的大小决定了电极之间的距离不会太大,两电极之间空间有限往往影响了应用。第二,能产生大面积或大体积的稳定弥散低温等离子。实际在大气压空气中放电很容易由汤逊放电转化为流注放电,形成火花击穿通道,大面积或大体积的稳定弥散空气低温等离子的产生存在困难。
[0003]用稀有气体注入电极反应腔,并从一端高速喷出,在空气环境中产生等离子体射流可以解决第一个需求,但是射流呈现为细竖状等离子体,实际应用中无法满足第二个需求。如何进一步优化低温等离子体射流产生的电极结构,在空气中产生大面积或大体积的稳定弥散空气低温等离子,是本领域亟需研究的问题。
技术实现思路
[000 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种低温等离子体射流阵列产生电极,其特征在于:包括:针簇电极(1)、密封盖(2)及反应腔(3);所述密封盖(2)设置为底部敞开的半封闭式结构;所述密封盖(2)密封的顶部开设有贯穿内部的电极安装孔(5)及气管接口(4);所述反应腔(3)设置为顶部敞开的半封闭式结构,所述反应腔(3)的顶部经所述密封盖(2)的底部延伸至所述密封盖(2)的内侧并与所述密封盖(2)密闭连接;所述针簇电极(1)安装在所述电极安装孔(5)内,所述针簇电极(1)的放电端设置在所述反应腔(3)内;所述反应腔(3)的底部开设有等离子体溢出孔群,所述等离子体溢出孔群与所述针簇电极(1)相对设置。2.根据权利要求1所述的低温等离子体射流阵列产生电极,其特征在于:所述电极安装孔(5)的数量大于或等于1;所述针簇电极(1)的数量和所述电极安装孔(5)的数量一致。3.根据权利要求2所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员:郭啸龙,刘云龙,
申请(专利权)人:武汉芙丽雅电子科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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