一种氧化锡氧化镉超晶格日盲探测器结构及其制备方法技术

本发明专利技术属于光电探测技术领域，具体涉及一种氧化锡氧化镉超晶格日盲探测器结构及其制备方法。结构包括叉指电极，叉指电极之间为氧化锡氧化镉超晶格材料薄膜，厚度为100~200nm。制备方法包括如下步骤：步骤Ⅰ：通过光刻的方法，经过涂胶、曝光、显影和刻蚀后在硅片衬底上形成叉指电极；步骤Ⅱ：将所制备的氧化锡氧化镉超晶格材料分散于适量的乙醇溶液中，超声处理直至粘稠状，然后通过旋涂的方式涂抹于步骤Ⅰ中制备的叉指电极上，之后于80

【技术实现步骤摘要】
一种氧化锡氧化镉超晶格日盲探测器结构及其制备方法


[0001]本专利技术属于光电探测
，具体涉及一种氧化锡氧化镉超晶格日盲探测器结构及其制备方法。

技术介绍

[0002]由于大气层中臭氧层对紫外光的强吸收作用，使得地表空间少于300nm波长的紫外光很少，此波段范围的电磁波称为“日盲紫外区”。由于自然界中太阳光的干扰很小，因此利用紫外进行光通讯传输时背景噪声很少，使得日盲紫外探测器在军用和民用方面表现出巨大的应用价值。对于利用光电探测器进行日盲紫外探测，其中所需的半导体材料通常需要较大的带隙宽度来满足电子发生紫外跃迁的能级。随着半导体工艺的日益发展，一些第三代宽禁带半导体材料，如Ga2O3，金刚石等已用于制备日盲紫外探测器，然而这些材料的制备需要的工艺要求复杂，使得制备成本很高，且器件的应用场合有限。目前对利用不同材料周期分布的超晶格结构用于日盲紫外探测的研究从未报导。

技术实现思路

[0003]本专利技术提出了一种氧化锡氧化镉超晶格日盲探测器结构及其制备方法，其通过利用制备氧化锡氧化镉周期排列分布的周期性超晶格结构，具有较小的尺寸厚度。利用量子尺寸效应，实现了电子在紫外波段的能级跃迁方式，且制备的光电探测器具有较好的响应速度。
[0004]本专利技术采用如下技术方案：一种氧化锡氧化镉超晶格日盲探测器结构，包括金属电极，金属电极为叉指电极，叉指电极之间为氧化锡氧化镉超晶格材料薄膜，厚度为100~200nm；氧化锡氧化超晶格材料的制备方法包括如下步骤：步骤一：将醋酸锌，氢氧化钠，五水四氯化锡，四水硝酸镉粉末加入去离子水中混合均匀，将混合物在室温中不断搅拌直至完全溶解，获得所需前驱液；步骤二：将步骤一制备的前驱液转至反应釜中高温加热，等待反应釜冷却致室温后得到初始白色沉淀产物；步骤三：将步骤二中所得的初始白色沉淀产物通过酒精和去离子水洗涤离心后干燥得到氧化锡氧化镉纳米结构超晶格前驱物粉末；步骤四：将氧化锡氧化镉纳米结构超晶格前驱物粉末放置于管式炉中高温煅烧，得到目标产物。
[0005]进一步地，叉指电极的金属材料为金、银或铂。
[0006]进一步地，步骤一中，加入分析纯的醋酸锌，氢氧化钠，五水四氯化锡，四水硝酸镉的摩尔比为1：53~55：10~12：4~6。
[0007]进一步地，步骤四中，在管式炉中通入氮气，使氧化锡氧化镉纳米结构超晶格前驱物粉末在氮气环境下完成高温煅烧。
[0008]一种氧化锡氧化镉超晶格日盲探测器结构的制备方法，包括如下步骤：步骤Ⅰ：通过光刻的方法，经过涂胶、曝光、显影和刻蚀后在硅片衬底上形成叉指电极；步骤Ⅱ：将所制备的氧化锡氧化镉超晶格材料分散于适量的乙醇溶液中，超声处理直至粘稠状，然后通过旋涂的方式涂抹于步骤Ⅰ中制备的叉指电极上，之后于80
°
C的环境下老化0.5h，即制得目标器件。
[0009]进一步地，步骤Ⅰ中，叉指电极的叉指长度为500
µ
m，叉指间距与叉指宽度为10
µ
m。
[0010]本专利技术的有益效果体现在：1、本专利技术提供了利用制备周期性超晶格结构用于日盲紫外探测器的制备方法，实现了利用量子尺寸效应使得电子具有紫外波段的能级跃迁方式。
[0011]2、本专利技术提出的紫外探测器中所用的氧化锡氧化镉异质结制备方法成本低廉，制备方法简单高效。
[0012]3、本专利技术提出的一种氧化锡氧化镉超晶格日盲探测器结构及其制备方法，由于电子在量子阱中的束缚作用，使得在外界激发下具有较小的弛豫时间，因此所制备的紫外探测器件具有较好的响应速度及其较高的灵敏度。
附图说明
[0013]图1为本专利技术制备的氧化锡氧化镉超晶格材料的透射电子显微镜图；图2为本专利技术制备的氧化锡氧化镉超晶格材料的透射电子显微镜电子衍射图；图3为本专利技术制备的氧化锡氧化镉超晶格材料的紫外
‑
可见波段的吸收谱线；图4为本专利技术制备的氧化锡氧化镉超晶格日盲探测器在紫外光照射下的响应曲线。
具体实施方式
[0014]一种氧化锡氧化镉超晶格日盲探测器结构，所用金属电极为叉指电极，金属电极之间为氧化锡氧化镉超晶格材料薄膜，厚度为100~200nm。
[0015]氧化锡氧化镉超晶格材料的制备包括以下步骤：步骤一、前驱液制备：在量筒中称取去离子水，使用电子天平称取分析纯的醋酸锌，加入至去离子水中，室温下磁力搅拌至充分溶解。
[0016]使用电子天平称取分析纯氢氧化钠固体，加入至上述溶液，室温磁力搅拌至其完全溶解。
[0017]使用电子天平称取分析纯五水四氯化锡，加入至上述溶液，室温磁力搅拌至充分溶解。
[0018]使用电子天平称取分析纯四水硝酸镉，加入至上述溶液，室温下充分磁力搅拌至充分溶解。
[0019]称取的分析纯的醋酸锌，氢氧化钠，五水四氯化锡，四水硝酸镉的摩尔比为1：53~55：10~12：4~6。
[0020]将上述所得溶液超声10分钟，使得溶液分散均匀，得到反应所需的前驱液。
[0021]步骤二、自组装氧化锡氧化镉纳米结构超晶格前驱物粉末制备：将步骤一所制备的前驱液转移到100ml的聚四氟乙烯反应釜中，将反应釜放置于马弗炉中，之后设置马弗炉的升温速率为2℃/min至180℃下加热16h，等待水热反应釜冷却致室温后得到白色沉淀产物。
[0022]将上述所得的白色沉淀产物先通过去离子水洗涤离心三次，而后通过乙醇离心三次，离心时需在6000
‑
9000rpm/min的速度下保持5
‑
10min，后转移至烘箱中干燥2h，保持干燥的温度为60℃，得到自组装氧化锡氧化镉纳米结构超晶格前驱物粉末。
[0023]步骤三、自组装氧化锡氧化镉纳米结构超晶格制备：将前驱物粉末研磨后放置于坩埚中，将坩埚转移至管式炉中，向管式炉中通入氮气，设置管式炉升温速率为2℃/min至400℃后高温煅烧1h，后自然降温冷却至室温，得到自组装氧化锡氧化镉纳米结构超晶格。
[0024]氧化锡氧化镉超晶格日盲探测器结构的制备方法包括如下步骤：步骤Ⅰ：叉指电极的制备：使用气相沉积法在硅片上生长一层二氧化硅薄膜作为光刻的底层。
[0025]将PMMA光刻胶旋涂在二氧化硅薄膜上，旋转速度为2000
±
200rpm，时间为30
±
1秒，热板在160度下前烘10min，后将硅片放于紫外光刻机进行曝光，形成长度为500
µ
m，叉指间距与叉指宽度为10
µ
m的叉指电极光刻胶图案。
[0026]将曝光后的硅片放入显影液中，显影后可看出叉指电极轮廓，其长度为500
µ
m，叉指间距与叉指宽度为10
µ
m。
[0027]将硅片放入电子束蒸发镀膜设备中，在硅片表面沉积一层金电极层。
[0028]使用lift
‑
off工艺，通过有机溶剂，如丙酮，将光刻胶及光刻胶上的金属去掉，得出叉指电极的叉指长度本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种氧化锡氧化镉超晶格日盲探测器结构，包括金属电极，其特征在于，所述金属电极为叉指电极，所述叉指电极之间为氧化锡氧化镉超晶格材料薄膜，厚度为100~200nm；所述氧化锡氧化超晶格材料的制备方法包括如下步骤：步骤一：将醋酸锌，氢氧化钠，五水四氯化锡，四水硝酸镉粉末加入去离子水中混合均匀，将混合物在室温中不断搅拌直至完全溶解，获得所需前驱液；步骤二：将步骤一制备的前驱液转至反应釜中高温加热，等待反应釜冷却致室温后得到初始白色沉淀产物；步骤三：将步骤二中所得的初始白色沉淀产物通过酒精和去离子水洗涤离心后干燥得到氧化锡氧化镉纳米结构超晶格前驱物粉末；步骤四：将氧化锡氧化镉纳米结构超晶格前驱物粉末放置于管式炉中高温煅烧，得到目标产物。2.根据权利要求1所述的一种氧化锡氧化镉超晶格日盲探测器结构，其特征在于，所述叉指电极的金属材料为金、银或铂。3.根据权利要求1所述的一种氧化锡氧化镉超晶格日盲探测器结构，其特征在于，所述步骤一中，加入分析纯的醋酸锌，氢氧化钠，五水四...

【专利技术属性】
技术研发人员：王治洋，李金华，陈泽磊，
申请(专利权)人：长春理工大学，
类型：发明
国别省市：