【技术实现步骤摘要】
一种涂层原位大角度散射测试系统及其测试方法
[0001]本专利技术属于空间光学系统杂散光测试领域,涉及一种涂层原位大角度散射测试系统及其测试方法,特别是涉及一种基于点源透过率测试原理的涂层原位大角度散射测试系统与方法。
技术介绍
[0002]航天探测相机在进行暗弱目标探测时易受到视场外杂散光的影响,为了抑制其影响,提高系统的信噪比,需要对探测系统进行杂散光抑制处理。目前,常采用遮光罩对视场外的光线进行遮挡,并在遮光罩表面进行消光涂层处理以提升其杂散光抑制能力。因此,该涂层的关键指标在于其杂散光抑制性能,涂层对设计目标波段(紫外光波段、可见光波段、近红外波段)的吸收率越高,杂光抑制性能就越好。不仅如此,在涂层高吸收率的要求基础上,其应表现出良好的朗伯散射特性,即对作用其表面未被吸收的光线应形成漫反射并尽可能在大角度入射光作用下也接近朗伯散射,这样可以减少到达探测器的净反射通量,并减少镜面反射产生的水波纹、条纹等焦散现象,提升后期数据处理的准确性。因此为了掌握喷涂处理后遮光罩表面对杂光的抑制情况,除了测量涂层的表面吸收率,也应需 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种涂层原位大角度散射测试系统,其特征在于:包括实验室、双柱罐(4)、挡光屏(5)、平行光管(6)、光源集成系统(7)、三维平移台(11)、遮光罩(12)和转台(13),所述双柱罐(4)、挡光屏(5)、平行光管(6)和光源集成系统(7)均位于实验室内,所述光源集成系统(7)通过平行光管(6)发出光照向双柱罐(4),所述双柱罐(4)内设置有转台(13),所述转台(13)上设置有三维平移台(11),所述三维平移台(11)上设置有遮光罩(12),所述遮光罩(12)的内壁涂有待测涂层样品,所述遮光罩(12)的出口端安装有通光口调整板(17),所述遮光罩(12)的后方设置有探测器,所述光源集成系统(7)与双柱罐(4)间设置有挡光屏(5)。2.根据权利要求1所述的涂层原位大角度散射测试系统,其特征在于:所述实验室内设置有洁净设备间1和监控室3。3.根据权利要求1所述的涂层原位大角度散射测试系统,其特征在于:所述双柱罐(4)包括顶部桥架(8)、封板(9)和底板平台(10),所述顶部桥架(8)作为双柱罐(4)的结构支撑,所述封板(9)嵌于顶部桥架(8)之中与顶部桥架(8)共同连接成包围式罐体结构,所述底板平台(10)位于顶部桥架(8)下方。4.根据权利要求1所述的涂层原位大角度散射测试系统,其特征在于:所述遮光罩(12)为躺倒的圆筒形。5.根据权利要求1所述的涂层原位大角度散射测试系统,其特征在于:所述实验室的实验室顶棚贴黑色壁纸,光吸收率>90%,实验室地板为黑色哑光PVC,光吸收率>80%,洁净室洁净度不低于千级。6.根据权利要求1所述的涂层原位大角度散射测试系统,其特征在于:所述双柱罐(4)总体尺寸:4300mm
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3700mm
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2600mm,其上设置有黑色光陷阱(2),所述光陷阱(2)的口径>300mm,消光比高于0.1%,内壁的散射率<0.1%,吸收率>93%,双柱罐(4)的腔体通光口径为330mm。7.根据权利要求1所述的涂层原位大角度散射测试系统,其特征在于:所述转台(13)负载>80Kg,光轴高度为1200mm,台面尺寸>300mm
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1000mm,转动运动范围的方位角在0~
±
80
°
,定位精度:≤0.1
°
。8.根据权利要求1所述的涂层原位大角度散射测试系统,其特征在于:所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:吴晓宏,李杨,熊启阳,卢松涛,秦伟,洪杨,
申请(专利权)人:哈尔滨工业大学,
类型:发明
国别省市:
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