一种具有变形补偿功能的一体式PECVD加热盘制造技术

本实用新型专利技术揭示了一种具有变形补偿功能的一体式PECVD加热盘，包括加热盘，所述加热盘的上表面设置有环形凸起，所述环形凸起在加热盘的上表面形成有凹形工作面，所述凹形工作面位于加热盘上侧的中间位置，所述加热盘的上端设置有载置台，所述载置台的下表面与环形凸起的上表面紧密接触，所述加热盘的下端设置有挡环，所述加热盘和挡环一体成型。本实用新型专利技术通过将加热盘的工作面设置为凹形结构，可以补偿长期使用引起的表面变形，保证载置台在加热盘形变的情况下，仍能保持其平面不偏斜，平面相对位置不变动，延长其使用寿命；挡环与加热盘一体铸造成型，可有效阻隔设备中的等离子、腐蚀性气体等，整体结构强度高，拆装过程不易变形。形。形。

【技术实现步骤摘要】
一种具有变形补偿功能的一体式PECVD加热盘


[0001]本技术属于PECVD加热盘
，具体涉及一种具有变形补偿功能的一体式PECVD加热盘。

技术介绍

[0002]PECVD是借助微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。晶片在PECVD工艺的薄膜生产的过程中在加热盘的作用下进行成膜。
[0003]现有的加热盘工作面为一个平面，长期加热使用会出现工作面中间凸起，导致载置台偏斜和移动，直接影响工艺过程中的表面气体分布均匀性和载置台温度分布均匀性，导致产品质量不稳定；现有产品周边挡环为焊接形式，加热盘对应位置需要加工环形台阶，焊接过程需要专用工装，焊接易变形，挡环强度低，频繁拆卸情况下，容易变形；为减小焊接对加热盘的精度影响，只能采用间断焊接，挡环与加热盘连接部位会存在气隙，降低了其阻挡效果。
[0004]因此，针对上述技术问题，有必要提供一种具有变形补偿功能的一体式PECVD加热盘。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种具有变形补偿功能的一体式PECVD加热盘，以解决上述的问题。
[0006]为了实现上述目的，本技术一实施例提供的技术方案如下：
[0007]一种具有变形补偿功能的一体式PECVD加热盘，包括加热盘，所述加热盘的上表面设置有环形凸起，所述环形凸起在加热盘的上表面形成有凹形工作面，所述凹形工作面位于加热盘上侧的中间位置，所述加热盘的上端设置有载置台，所述载置台的下表面与环形凸起的上表面紧密接触，所述加热盘的下端设置有挡环，所述加热盘和挡环一体成型，所述加热盘上开设有电热管接口，所述电热管接口内设置有电热管，所述电热管远离加热盘的一端贯穿于挡环且置于挡环下端的外侧。
[0008]作为本技术的进一步改进，所述环形凸起的高度为D，所述D设置为2～2.5mm。
[0009]作为本技术的进一步改进，所述加热盘的上端外侧设置有一圈第一连接部，所述载置台的下端外侧边缘设置有一圈卡接部，所述卡接部的内径与第一连接部的外径相同。
[0010]作为本技术的进一步改进，所述加热盘的下端外边缘设置有一圈限位环，所述限位环的内侧与挡环的外侧相贴合。
[0011]作为本技术的进一步改进，所述加热盘的下端设置有第二连接部，所述挡环的上端开设有与第二连接部相匹配的第三连接部。
[0012]作为本技术的进一步改进，所述挡环上开设有通孔，所述电热管通过通孔贯
穿于挡环。
[0013]作为本技术的进一步改进，所述挡环的下端设置有支撑环，所述支撑环的下端固定连接有法兰。
[0014]与现有技术相比，本技术具有以下优点：
[0015]本技术通过将加热盘的工作面设置为凹形结构，可以补偿长期使用引起的表面变形，保证载置台在加热盘形变的情况下，仍能保持其平面不偏斜，平面相对位置不变动，延长其使用寿命；挡环与加热盘一体铸造成型，可有效阻隔设备中的等离子、腐蚀性气体等，整体结构强度高，拆装过程不易变形。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0017]图1为本技术一实施例中一种具有变形补偿功能的一体式PECVD加热盘的正视图；
[0018]图2为本技术一实施例中一种具有变形补偿功能的一体式PECVD加热盘的立体图；
[0019]图3为本技术一实施例中一种具有变形补偿功能的一体式PECVD加热盘的爆炸图一；
[0020]图4为本技术一实施例中一种具有变形补偿功能的一体式PECVD加热盘的爆炸图二；
[0021]图5为本技术一实施例中一种具有变形补偿功能的一体式PECVD加热盘的爆炸图三；
[0022]图6为本技术一实施例中一种具有变形补偿功能的一体式PECVD加热盘的爆炸图四；
[0023]图7为本技术一实施例中一种具有变形补偿功能的一体式PECVD加热盘的剖面图；
[0024]图8为本技术一实施例图7中A处的放大图。
[0025]图中：1.加热盘、2.环形凸起、3.凹形工作面、4.第一连接部、5.限位环、6.第二连接部、7.电热管接口、8.载置台、9.卡接部、10.挡环、11.第三连接部、12.通孔、13.支撑环、14.法兰、15.电热管。
具体实施方式
[0026]以下将结合附图所示的各实施方式对本技术进行详细描述。但该等实施方式并不限制本技术，本领域的普通技术人员根据该等实施方式所做出的结构、方法、或功能上的变换均包含在本技术的保护范围内。
[0027]本技术一实施例公开的一种具有变形补偿功能的一体式PECVD加热盘，参图1～图7所示，包括加热盘1，晶片通过PECVD工艺进行镀膜时，需要通过加热进行成膜，加热盘
1是PECVD工艺进行加热的组件。
[0028]参图3和图7所示，加热盘1的上端设置有载置台8，载置台8是晶片进行PECVD工艺镀膜时晶片放置的位置。由于加热盘1为铸造结构，其重量支撑位于中间，当加热盘1长期加热使用时，在高温状态下，会使得加热盘1中间的位置鼓起，从而使得加热盘1的工作面不平整，会导致载置台8偏斜和移动，直接影响工艺过程中的表面气体分布均匀性和加热盘1上温度分布的均匀性，导致PECVD工艺进行镀膜的产品质量不稳定。
[0029]参图3和图7所示，加热盘1的上表面设置有环形凸起2，环形凸起2在加热盘1的上表面形成有凹形工作面3，凹形工作面3位于加热盘1上侧的中间位置。
[0030]优选的，为了解决加热盘1在长期使用时由于高温导致的中间位置鼓起的问题，将加热盘1的工作面设置为凹形工作面3，凹形工作面3是由于加热盘1的上端一体成型有环形凸起2，通过环形凸起2在加热盘1的上表面形成有凹形工作面3。通过将加热盘1的工作面设置为凹形工作面3，载置台8放置于加热盘1上时与环形凸起2紧密接触。当加热盘1在高温下使用时，由于高温使得凹形工作面3变形凸起，由于凹形工作面3留有形变的空间，使得凹形工作面3变形凸起后，环形凸起2依然可以与载置台8紧密接触，从而使得凹形工作面3的形变不会影响加热盘1的传热效率。
[0031]优选的，参图8所示，环形凸起2的高度为D，D设置为2～2.5mm。为了使得加热盘1在长期使用时，在高温状态下凹形工作面3的形变量小于环形凸起2的高度，以便凹形工作面3达到最大形变量时其上表面的高度低于环形凸起2的上表面，可以补偿长期使用引起的表面变形，这样就可以确保加热盘1在使用时环形凸起2与载置台8一直处于紧密接触的状态，不会影响加热盘1的传热本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有变形补偿功能的一体式PECVD加热盘，包括加热盘，其特征在于，所述加热盘的上表面设置有环形凸起，所述环形凸起在加热盘的上表面形成有凹形工作面，所述凹形工作面位于加热盘上侧的中间位置，所述加热盘的上端设置有载置台，所述载置台的下表面与环形凸起的上表面紧密接触，所述加热盘的下端设置有挡环，所述加热盘和挡环一体成型，所述加热盘上开设有电热管接口，所述电热管接口内设置有电热管，所述电热管远离加热盘的一端贯穿于挡环且置于挡环下端的外侧。2.根据权利要求1所述的一种具有变形补偿功能的一体式PECVD加热盘，其特征在于，所述环形凸起的高度为D，所述D设置为2～2.5mm。3.根据权利要求1所述的一种具有变形补偿功能的一体式PECVD加热盘，其特征在于，所述加热盘的上端外侧设置有一圈第一连接部...

【专利技术属性】
技术研发人员：丁海登，黎静，
申请(专利权)人：江苏实为半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：