一种利用磁控溅射制备纳米级非晶超导薄膜的方法及产品技术

本发明专利技术提出了一种利用磁控溅射制备纳米级非晶超导薄膜的方法及产品，属于超导薄膜技术领域，该方法包括以下步骤：在氩气环境下，利用磁控溅射，以30

【技术实现步骤摘要】
一种利用磁控溅射制备纳米级非晶超导薄膜的方法及产品


[0001]本专利技术属于超导薄膜
，尤其涉及一种利用磁控溅射制备纳米级非晶超导薄膜的方法及产品。

技术介绍

[0002]“量子信息技术”已经成为未来科技的制高点，随着集成电路的发展，导体电阻率的研究已经达到了尺寸效应机制，要制造“超导量子芯片”并将其推广应用，基础材料的研究至关重要，其中超导材料是突破重点。超导技术的突破性进展和广泛应用，将对科技、经济、军事乃至社会发展产生不可估量的影响。在输电、电机、航天、微电子、电子计算机、通信等领域具有不可限量的应用前景。超导材料的应用不仅能提高工作效率，还能使能源得到大大节约，减少大量的污染。
[0003]金属玻璃，又称非晶合金，原子结构长程无序，短程有序，具有优异的力学、化学以及物理性能。1954年，用真空蒸发法在液氦冷却板上获得了铋和镓的非晶态超导薄膜，之后陆续发现了Pd
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Zr、Zr
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Ni
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Cu、Nb
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Ge等条带或薄片的非晶态超导体。现有技术中还发现，随本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种利用磁控溅射制备纳米级非晶超导薄膜的方法，其特征在于，包括以下步骤：在氩气环境下，利用磁控溅射，以30
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60W的溅射功率溅射10min
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3h，将靶材MoNb沉积至Si衬底，得到所述纳米级非晶超导薄膜。2.根据权利要求1所述的一种利用磁控溅射制备纳米级非晶超导薄膜的方法，其特征在于，所述靶材Mo80Nb20纯度高于99.95％，所述衬底为Si(100)。3.根据权利要求1所述的一种利用磁控溅射制备纳米级非晶超导薄膜的方法，其特征在于，所述磁控溅射前还包括靶材预处理和衬底预处理。4.根据权利要求3所述的一种利用磁控溅射制备纳米级非晶超导薄膜的方法，其特征在于，所述靶材预处理包括以下步骤：打磨所述靶材表面氧化层，再置于无水乙醇和去离子水中超声清洗后干燥。5.根据权利要求3所述的一种利用磁控溅射制备纳米级非晶超导薄膜的方法，其特征在于，所述衬底预处理包括以下步骤：将所述衬底在无水乙醇和去离子水中超声清洗后干燥。6.根据权利要求1所述的一种利用磁控溅射制备纳米级非晶超导薄膜的方法，其特征在于，所述真空条件为：先利用机械泵抽真空...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄波，吕慧，易军，王庆，王刚，
申请(专利权)人：上海大学，
类型：发明
国别省市：