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本发明提出了一种利用磁控溅射制备纳米级非晶超导薄膜的方法及产品，属于超导薄膜技术领域，该方法包括以下步骤：在氩气环境下，利用磁控溅射，以30
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该专利属于上海大学所有，仅供学习研究参考，未经过上海大学授权不得商用。

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