在陶瓷表面进行紫外超快激光精密标刻的方法和系统技术方案

本发明专利技术提供一种在陶瓷表面进行紫外超快激光精密标刻的方法和系统，包括步骤：1)将陶瓷工件置于工作台上；2)将激光器设于工作台的一侧；3)锁定发射频率为10KHz

【技术实现步骤摘要】
在陶瓷表面进行紫外超快激光精密标刻的方法和系统


[0001]本专利技术涉及激光标刻
，具体涉及一种在陶瓷表面进行紫外超快激光精密标刻的方法和系统。

技术介绍

[0002]陶瓷是以粘土为主要原料以及各种天然矿物经过粉碎混炼、成型和煅烧制得到的材料。陶瓷装饰与器物的用途、造型、社会审美取向等方面有着密切的联系。
[0003]陶瓷装饰，是指利用具有美感的图文对陶瓷器进行艺术加工。传统的陶瓷装饰工艺复杂，效率低。而随着技术的进步，出现了激光标刻陶瓷工艺，典型的代表是基于CO2激光或者纳秒激光的标刻机，其原理是利用激光的热效应烧蚀掉物体最外层表面，留下印迹的技术。然而，对于陶瓷材料采用典型的激光标刻技术有一定难度，是因为陶瓷材料对激光的吸收很弱，会发生漫反射，甚至接近全反射，导致典型的激光很难在陶瓷表面直接打出永久痕迹，因此一般在标刻工艺中利用颜料、涂料或者染色纸作用在陶瓷材料表面位置，通过激光产生局部的高温，再和颜料实现热诱导效应来标刻。因此，在陶瓷上进行激光标刻，不光很难直接刻出永久精细的标记，而且由于纳秒激光热效应导致分辨率低，热影响本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种在陶瓷表面进行紫外超快激光精密标刻的方法，其特征在于，包括步骤：1)将陶瓷置于工作台上；2)将激光器设于工作台的一侧；所述激光器为能够在高重复频率下发射高能量单脉冲且单脉冲能量一致性高的紫外超快激光器，所述高重复频率为10KHz
‑
200KHz，所述高能量单脉冲能量为50uJ
‑
1000uJ,所述单脉冲间能量差异≤
±
5％；3)锁定发射频率为10KHz
‑
200KHz之间的一定值；4)所述激光器发射的超快激光，经过整形光路放大光束尺寸、再经过光束传输光路输入到振镜、再经过场镜后聚焦在工作台上的陶瓷工件表面；5)在软硬件控制器的控制下，设置激光参数和加工参数，控制激光束X、Y、Z轴的移动，完成陶瓷表面图案的激光标刻。2.根据权利要求1所述的紫外超快激光精密标刻方法，其特征在于，所述经过光束传输光路的激光经光隔离器后输入到振镜。3.根据权利要求1所述的紫外超快激光精密标刻方法，其特征在于，所述单脉冲为单脉冲光子尖峰波，所述单脉冲宽度为1
‑
15ps。4.根据权利要求1所述的紫外超快激光精密标刻方法，其特征在于，所述激光器为全固态皮秒激光器，所述激光波长为355
±
5nm。5.根据权利要求1所述的紫外超快激光精密标刻方法，其特征在于，所述激光器窗口光斑为1
‑

【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，
申请(专利权)人：北京赢圣科技有限公司，
类型：发明
国别省市：