一种抛光垫清洁设备制造技术

本发明专利技术涉及一种抛光垫清洁设备，抛光垫清洁设备包括工作台、设于工作台上的抛光垫固定台和清洁组件；抛光垫固定台上设有用于放置抛光垫的承载面，承载面上分布有多个气孔，气孔用于与真空泵连通，抛光垫固定台与工作台转动连接，使抛光垫固定台能够绕自身中心轴线转动；清洁组件与抛光垫固定台相对设置，用于清洁抛光垫。与现有技术相比，本发明专利技术在抛光垫固定台上设有气孔，气孔可以与真空泵连通，通过吸力将抛光垫紧密固定在承载面上，因此当抛光垫固定台绕工作台转动时，可以带动抛光垫相对于清洁组件转动，使得清洁组件可以对抛光垫上各个位置的碎渣进行清洁，有效提高了抛光垫清洁效率。洁效率。洁效率。

【技术实现步骤摘要】
一种抛光垫清洁设备


[0001]本专利技术涉及一种抛光垫清洁领域，尤其是涉及一种抛光垫清洁设备。

技术介绍

[0002]电子晶圆是由沉积不同层化材料而形成，如硅圆片即是层化材料的基材之一，当每一个新的材料层被沉积上时，常需要使用研磨或抛光的步骤，以去除多余的沉积层材料，以使晶圆平坦化，因此该抛光的过程常被称为化学机械抛光平坦化(Chemical Mechanical Polishing，CMP)。由于晶圆是由各种不同的薄膜材料层所堆积形成，因此必须经过多次的CMP抛光步骤，才能将材料层从晶圆的表面均匀去除，达到平坦化的目的。
[0003]在进行化学机械抛光作业时，会于晶圆与抛光垫之间导入化学抛光液，沉积的薄膜材料层通过与化学抛光液所产生的化学作用，或通过与化学抛光液中的颗粒发生机械作用，实现移除晶圆表面多余的薄膜层。一般会在抛光垫的抛光面上刻设沟槽，一方面沟槽可增加抛光垫与晶圆之间的摩擦力，另一方面可确保抛光液均匀分布于抛光垫的表面上，同时使得悬浮于抛光液中的研磨颗粒和抛光碎屑经顺着沟槽流出抛光垫表面。
[0004]在抛光垫刻槽后，刻槽留下的碎屑分布在抛光垫的抛光面和凹槽上，一方面凹槽内的碎屑会堵塞沟槽，影响后续抛光液在沟槽中的分布及流动，降低平坦化效果；另一方面抛光面上的碎屑会与晶圆摩擦，损伤晶圆表面。因此需要专门的装置对刻槽后的抛光垫进行深度清洁。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的就是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种抛光垫清洁设备，用于提高抛光垫的清洁设备。/>[0006]本专利技术的目的可以通过以下技术方案来实现：
[0007]一种抛光垫清洁设备，所述抛光垫清洁设备包括：
[0008]工作台；
[0009]设于所述工作台上的抛光垫固定台，所述抛光垫固定台上设有用于放置抛光垫的承载面，所述承载面上分布有多个气孔，所述气孔用于与真空泵连通，所述抛光垫固定台与所述工作台转动连接，使所述抛光垫固定台能够绕自身中心轴线转动；
[0010]清洁组件，所述清洁组件与所述抛光垫固定台相对设置，用于清洁所述抛光垫。
[0011]在其中一个实施例中，所述工作台上设有水平滑轨，所述清洁组件与所述水平滑轨滑动配合，所述水平滑轨的导向方向与所述承载面平行。
[0012]在其中一个实施例中，所述水平滑轨包括滑轨支架、第一水平滑轨和第二水平滑轨，所述第一水平滑轨设于所述滑轨支架上，所述滑轨支架与所述第二水平滑轨滑动配合，所述第二水平滑轨的导向方向与所述承载面平行，且与所述第一水平滑轨的导向方向垂直。
[0013]在其中一个实施例中，所述第二水平滑轨包括驱动电机、传动丝杆和滑动杆，所述
传动丝杆和所述滑动杆分别设于所述抛光垫固定台的两侧，所述传动丝杆的一端与所述驱动电机连接，所述滑轨支架的两端分别与所述传动丝杆、所述滑动杆滑动配合。
[0014]在其中一个实施例中，所述抛光垫清洁设备包括丝杆保护壳和传动块，所述驱动电机、所述传动丝杆均设于所述丝杆保护壳内，所述传动块与所述传动丝杆传动连接，且所述传动块穿过所述丝杆保护壳与所述滑轨支架连接。
[0015]在其中一个实施例中，所述抛光垫清洁设备包括多个可压缩防护罩和滑动块，所述滑动块与所述滑轨支架连接，且与所述滑动杆滑动配合，多个所述可压缩防护罩套设于所述滑动杆上，且分布于所述滑动块的两侧。
[0016]在其中一个实施例中，所述工作台上设有与所述第一水平滑轨并列设置的第一电线收纳盒和与所述第二水平滑轨并列设置的第二电线收纳盒，所述第一电线收纳盒、所述第二电线收纳盒均包括多个沿长度方向依次铰接的收纳节，所述驱动电机的电线依次穿过所述第一电线收纳盒、所述第二电线收纳盒与电源连接。
[0017]在其中一个实施例中，所述第一水平滑轨上设有垂直滑轨，所述垂直滑轨与所述第一水平滑轨滑动配合，所述清洁组件与所述垂直滑轨滑动配合，所述垂直滑轨的导向方向与所述承载面垂直。
[0018]在其中一个实施例中，所述工作台上设有限位台，所述清洁组件上设有可位置调节的限位杆，所述限位杆的一端指向所述限位台，当所述清洁组件沿着所述垂直滑轨滑动靠近所述承载面，所述限位杆与所述限位台抵接后，能够限制所述清洁组件和所述承载面之间的最小距离。
[0019]在其中一个实施例中，所述清洁组件上设有测厚规，所述测厚规上设有用于与所述限位台抵压的测量头，所述测量头与所述限位台的距离小于所述限位杆与所述限位台的距离。
[0020]在其中一个实施例中，所述抛光垫清洁设备包括旋转传感器，所述旋转传感器与所述抛光垫固定台连接，用于监测所述抛光垫固定台的旋转圈数。
[0021]在其中一个实施例中，所述抛光垫清洁设备包括信号发生器和信号接收器，所述信号接收器设于所述工作台上，所述信号发生器设于所述抛光垫固定台上，所述信号发生器和所述信号接收器相对设置，用于确定所述抛光垫固定台的旋转起点。
[0022]在其中一个实施例中，所述清洁组件包括清洁支架和清洁刷，所述清洁刷包括滚刷，所述滚刷与所述清洁支架转动连接，所述滚刷能够绕自身轴线转动，所述滚刷的轴线与所述承载面平行。
[0023]在其中一个实施例中，所述滚刷的两端设有连接部，所述清洁支架上位于所述滚刷轴向的两端设有条形槽，所述连接部与所述条形槽转动连接，且所述连接部与所述条形槽的顶壁之间设有弹性件。
[0024]在其中一个实施例中，所述清洁组件包括吸尘头，所述清洁支架的两端分别与所述工作台和所述吸尘头连接，所述清洁刷位于所述吸尘头内，所述吸尘头的吸尘口面向所述抛光垫固定台，所述清洁刷的清洁面凸出于所述吸尘口所处的平面。
[0025]在其中一个实施例中，所述吸尘头内设有隔板，所述隔板将所述吸尘头内部空间分割为第一空间和第二空间，所述隔板上设有多个贯穿的第一吸尘孔，所述第一吸尘孔沿所述滚刷的轴向设置多列，所述第一空间与所述吸尘泵连通，所述第二空间内设有所述滚
刷。
[0026]在其中一个实施例中，所述清洁组件包括静电除尘棒，所述静电除尘棒与所述清洁支架连接，且与所述抛光垫固定台相对设置。
[0027]在其中一个实施例中，所述滚刷的轴线与所述静电除尘棒的轴线平行，所述清洁刷的清洁面与所述承载面的距离不大于所述静电除尘棒与所述承载面的距离。
[0028]与现有技术相比，本专利技术具有如下优点：
[0029]1、上述的抛光垫清洁设备在抛光垫固定台上设有气孔，气孔可以与真空泵连通，通过吸力将抛光垫紧密固定在承载面上，因此当抛光垫固定台绕工作台转动时，可以带动抛光垫相对于清洁组件转动，使得清洁组件可以对抛光垫上各个位置的碎渣进行清洁，有效提高了抛光垫清洁效率。
[0030]2、该抛光垫清洁设备设置相互垂直的第一水平滑轨和第二水平滑轨，使得清洁组件可以沿第一水平滑轨和第二水平滑轨到达承载面上的任意位置，因此通过移动清洁组件可以对抛光垫上任意位置进行清洁，有效提高清洁效率和清洁效果。
[0031]3、第二本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种抛光垫清洁设备，其特征在于，所述抛光垫清洁设备(100)包括：工作台(10)；设于所述工作台(10)上的抛光垫固定台(20)，所述抛光垫固定台(20)上设有用于放置抛光垫(25)的承载面，所述承载面上分布有多个气孔(21)，所述气孔(21)用于与真空泵连通，所述抛光垫固定台(20)与所述工作台(10)转动连接，使所述抛光垫固定台(20)能够绕自身中心轴线转动；清洁组件(30)，所述清洁组件(30)与所述抛光垫固定台(20)相对设置，用于清洁所述抛光垫(25)。2.根据权利要求1所述的一种抛光垫清洁设备，其特征在于，所述工作台(10)上设有水平滑轨(50)，所述清洁组件(30)与所述水平滑轨(50)滑动配合，所述水平滑轨(50)的导向方向与所述承载面平行。3.根据权利要求2所述的一种抛光垫清洁设备，其特征在于，所述水平滑轨(50)包括滑轨支架(54)、第一水平滑轨(51)和第二水平滑轨(52)，所述第一水平滑轨(51)设于所述滑轨支架(54)上，所述滑轨支架(54)与所述第二水平滑轨(52)滑动配合，所述第二水平滑轨(52)的导向方向与所述承载面平行，且与所述第一水平滑轨(51)的导向方向垂直。4.根据权利要求3所述的一种抛光垫清洁设备，其特征在于，所述第二水平滑轨(52)包括驱动电机(53)、传动丝杆和滑动杆，所述传动丝杆和所述滑动杆分别设于所述抛光垫固定台(20)的两侧，所述传动丝杆的一端与所述驱动电机(53)连接，所述滑轨支架(54)的两端分别与所述传动丝杆、所述滑动杆滑动配合。5.根据权利要求4所述的一种抛光垫清洁设备，其特征在于，所述抛光垫清洁设备(100)包括丝杆保护壳(523)和传动块(521)，所述驱动电机(53)、所述传动丝杆均设于所述丝杆保护壳(523)内，所述传动块(521)与所述传动丝杆传动连接，且所述传动块(521)穿过所述丝杆保护壳(523)与所述滑轨支架(54)连接。6.根据权利要求4所述的一种抛光垫清洁设备，其特征在于，所述抛光垫清洁设备(100)包括多个可压缩防护罩(524)和滑动块(522)，所述滑动块(522)与所述滑轨支架(54)连接，且与所述滑动杆滑动配合，多个所述可压缩防护罩(524)套设于所述滑动杆上，且分布于所述滑动块(522)的两侧。7.根据权利要求4所述的一种抛光垫清洁设备，其特征在于，所述工作台(10)上设有与所述第一水平滑轨(51)并列设置的第一电线收纳盒(83)和与所述第二水平滑轨(52)并列设置的第二电线收纳盒(84)，所述第一电线收纳盒(83)、所述第二电线收纳盒(84)均包括多个沿长度方向依次铰接的收纳节(81)，所述驱动电机的电线(85)依次穿过所述第一电线收纳盒(83)、所述第二电线收纳盒(84)与电源连接。8.根据权利要求3所述的一种抛光垫清洁设备，其特征在于，所述第一水平滑轨(51)上设有垂直滑轨(90)，所述垂直滑轨(90)与所述第一水平滑轨(51)滑动配合，所述清洁组件(30)与所述垂直滑轨(90)滑动配合，所述垂直滑轨(90)的导向方向与所述承载面垂直。9.根据权利要求7所述的一种抛光垫清洁设备，其特征在于，所述工作台(10)上设有限位台(92)，所述清洁组件(30)上设有可位置调节的限位杆(93)，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：张莉娟，
申请(专利权)人：上海芯谦集成电路有限公司，
类型：发明
国别省市：