一种具有吸附固定功能的抛光垫清洁设备制造技术

本实用新型专利技术涉及一种具有吸附固定功能的抛光垫清洁设备，抛光垫清洁设备包括工作台、设于工作台上的抛光垫固定台和清洁组件；抛光垫固定台上设有用于放置抛光垫的承载面，承载面上分布有多个气孔，气孔用于与真空泵连通；清洁组件包括清洁支架和清洁刷，清洁支架分别与工作台、清洁刷连接，清洁刷与抛光垫固定台相对设置，用于与抛光垫抵接摩擦。与现有技术相比，该抛光垫清洁设备由于抛光垫固定台上设有气孔，气孔可以与真空泵连通，通过吸力将抛光垫紧密固定在承载面上，避免清洁刷的摩擦力带动抛光垫移动，使清洁刷与抛光垫充分摩擦接触，带走抛光垫表面和凹槽中碎渣，有效提高清洁效率。洁效率。洁效率。

【技术实现步骤摘要】
一种具有吸附固定功能的抛光垫清洁设备


[0001]本技术涉及一种抛光垫清洁领域，尤其是涉及一种具有吸附固定功能的抛光垫清洁设备。

技术介绍

[0002]电子晶圆是由沉积不同层化材料而形成，如硅圆片即是层化材料的基材之一，当每一个新的材料层被沉积上时，常需要使用研磨或抛光的步骤，以去除多余的沉积层材料，以使晶圆平坦化，因此该抛光的过程常被称为化学机械抛光平坦化(Chemical Mechanical Polishing，CMP)。由于晶圆是由各种不同的薄膜材料层所堆积形成，因此必须经过多次的CMP抛光步骤，才能将材料层从晶圆的表面均匀去除，达到平坦化的目的。
[0003]在进行化学机械抛光作业时，会于晶圆与抛光垫之间导入化学抛光液，沉积的薄膜材料层通过与化学抛光液所产生的化学作用，或通过与化学抛光液中的颗粒发生机械作用，实现移除晶圆表面多余的薄膜层。一般会在抛光垫的抛光面上刻设沟槽，一方面沟槽可增加抛光垫与晶圆之间的摩擦力，另一方面可确保抛光液均匀分布于抛光垫的表面上，同时使得悬浮于抛光液中的研磨颗粒和抛光碎屑经顺着沟槽流出抛光垫表面。
[0004]在抛光垫刻槽后，刻槽留下的碎屑分布在抛光垫的抛光面和凹槽上，一方面凹槽内的碎屑会堵塞沟槽，影响后续抛光液在沟槽中的分布及流动，降低平坦化效果；另一方面抛光面上的碎屑会与晶圆摩擦，损伤晶圆表面。因此需要专门的装置对刻槽后的抛光垫进行深度清洁。由于抛光垫半径大、厚度小，当抛光垫放置在台面上进行清洁时，清洁件与抛光垫之间的摩擦或吸力会带动抛光垫随意移动，从而影响抛光垫的清洁效率

技术实现思路

[0005]本技术的目的就是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种具有吸附固定功能的抛光垫清洁设备，通过吸附固定抛光垫，提高抛光垫的清洁效率。
[0006]本技术的目的可以通过以下技术方案来实现：
[0007]一种具有吸附固定功能的抛光垫清洁设备，所述抛光垫清洁设备包括：
[0008]工作台；
[0009]设于所述工作台的抛光垫固定台，所述抛光垫固定台上设有用于放置抛光垫的承载面，所述承载面上分布有多个气孔，所述气孔用于与真空泵连通；
[0010]清洁组件，所述清洁组件包括清洁支架和清洁刷，所述清洁支架分别与所述工作台、所述清洁刷连接，所述清洁刷与所述抛光垫固定台相对设置，用于与所述抛光垫抵接摩擦。
[0011]在其中一个实施例中，所述清洁刷包括滚刷，所述滚刷与所述清洁支架转动连接，所述滚刷能够绕自身轴线转动，所述滚刷的轴线与所述承载面平行。
[0012]在其中一个实施例中，所述滚刷的两端设有连接部，所述清洁支架上位于所述滚刷轴向的两端设有条形槽，所述连接部与所述条形槽转动连接，且所述连接部与所述条形
槽的顶壁之间设有弹性件。
[0013]在其中一个实施例中，所述滚刷的轴向长度大于所述抛光垫的直径。
[0014]在其中一个实施例中，所述清洁刷包括盘状刷，所述盘状刷与所述清洁支架转动连接，所述盘状刷能够绕竖直轴转动。
[0015]在其中一个实施例中，所述盘状刷的直径大于所述抛光垫的半径，所述盘状刷的中心轴线与所述抛光垫固定台的中心轴线之间的距离小于所述盘状刷的半径。
[0016]在其中一个实施例中，所述抛光垫固定台与所述工作台转动连接，使所述抛光垫固定台能够绕其中心轴线转动，所述抛光垫清洁设备包括旋转传感器，所述旋转传感器与所述抛光垫固定台连接，用于监测所述抛光垫固定台的旋转圈数。
[0017]在其中一个实施例中，所述抛光垫清洁设备包括信号发生器和信号接收器，所述信号接收器设于所述工作台上，所述信号发生器设于所述抛光垫固定台上，所述信号发生器和所述信号接收器相对设置，用于确定所述抛光垫固定台的旋转起点。
[0018]在其中一个实施例中，所述工作台上设有垂直滑轨，所述垂直滑轨与所述清洁支架滑动连接，所述垂直滑轨的滑动方向与所述抛光垫固定台的承载面垂直。
[0019]在其中一个实施例中，所述抛光垫清洁设备包括液压驱动，所述液压驱动与所述清洁支架连接，用于驱动所述清洁支架沿所述垂直滑轨移动。
[0020]与现有技术相比，本技术具有如下优点：
[0021]1、该抛光垫清洁设备在工作台上设置抛光垫固定台和清洁组件，抛光垫固定台用于放置抛光垫，清洁组件通过抵接摩擦去除抛光垫表面的碎渣，由于抛光垫固定台上设有气孔，气孔可以与真空泵连通，通过吸力将抛光垫紧密固定在承载面上，避免清洁刷的摩擦力带动抛光垫移动，使清洁刷与抛光垫充分摩擦接触，带走抛光垫表面和凹槽中碎渣，有效提高清洁效率。
[0022]2、该抛光垫清洁设备采用滚刷对抛光垫表面进行滚动摩擦，同时在滚刷的连接部与清洁支架之间设置弹性件，使得滚刷与抛光垫之间距离具有可适应性，滚刷可分别与抛光垫表面、凹槽进行紧密贴合摩擦，避免滚刷与抛光垫表面摩擦过大从而磨损抛光垫表面，并增大滚刷与抛光垫凹槽摩擦力，提高对抛光垫凹槽的清洁能力。
[0023]3、该抛光垫清洁设备上抛光垫固定台能够绕其中心轴线转动，带动抛光垫转动，使抛光垫与清洁刷转动摩擦，从而去除整个抛光垫上的碎渣。同时设置旋转传感器监测抛光垫固定台的旋转圈数，因此可以通过监测抛光垫固定台的旋转圈数预估抛光垫的清洁度，或通过控制抛光垫固定台的旋转圈数控制抛光垫的清洁度。
[0024]4、信号发生器和信号接收器用于确定所述抛光垫固定台的旋转起点，当信号发生器和信号接收器正对设置时，信号接收器能够接收到信号发生器的信号，表示抛光垫固定台位于旋转起点，可以启动抛光垫固定台进行转动清洁，避免抛光垫固定台异常启动。
附图说明
[0025]图1为一实施例中抛光垫清洁设备的立体图。
[0026]图2为一实施例中清洁组件与抛光垫固定台的侧视图。
[0027]图3为一实施例中清洁组件与抛光垫固定台的俯视图。
[0028]图4为另一实施例中清洁组件与抛光垫固定台的俯视图。
[0029]图5为一实施例中清洁组件的主视图。
[0030]图6为一实施例中清洁组件与垂直滑轨的主视图。
[0031]附图说明：100、抛光垫清洁设备；10、工作台；20、抛光垫固定台；21、气孔；22、旋转传感器；23、信号发生器；24、信号接收器；30、清洁组件；31、清洁支架；32、盘状刷；33、滚刷；331、连接部；332、弹性件；40、垂直滑轨；50、液压驱动。
具体实施方式
[0032]下面结合附图和具体实施例对本技术进行详细说明。本实施例以本技术技术方案为前提进行实施，给出了详细的实施方式和具体的操作过程，但本技术的保护范围不限于下述的实施例。
[0033]下面结合附图对一些实施例中具有吸附固定功能的抛光垫清洁设备100进行具体描述。
[0034]如图1至图6所示，在一实施例中，提供了一种具有吸附固定功能的抛光垫清洁设备100，抛光垫清洁设备100包括工作台10、本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有吸附固定功能的抛光垫清洁设备，其特征在于，所述抛光垫清洁设备(100)包括：工作台(10)；设于所述工作台(10)上的抛光垫固定台(20)，所述抛光垫固定台(20)上设有用于放置抛光垫的承载面，所述承载面上分布有多个气孔(21)，所述气孔(21)用于与真空泵连通；清洁组件(30)，所述清洁组件(30)包括清洁支架(31)和清洁刷，所述清洁支架(31)分别与所述工作台(10)、所述清洁刷连接，所述清洁刷与所述抛光垫固定台(20)相对设置，用于与所述抛光垫抵接摩擦。2.根据权利要求1所述的一种具有吸附固定功能的抛光垫清洁设备，其特征在于，所述清洁刷包括滚刷(33)，所述滚刷(33)与所述清洁支架(31)转动连接，所述滚刷(33)能够绕自身轴线转动，所述滚刷(33)的轴线与所述承载面平行。3.根据权利要求2所述的一种具有吸附固定功能的抛光垫清洁设备，其特征在于，所述滚刷(33)的两端设有连接部(331)，所述清洁支架(31)上位于所述滚刷(33)轴向的两端设有条形槽，所述连接部(331)与所述条形槽转动连接，且所述连接部(331)与所述条形槽的顶壁之间设有弹性件(332)。4.根据权利要求2所述的一种具有吸附固定功能的抛光垫清洁设备，其特征在于，所述滚刷(33)的轴向长度大于所述抛光垫的直径。5.根据权利要求1所述的一种具有吸附固定功能的抛光垫清洁设备，其特征在于，所述清洁刷包括盘状刷(32)，所述盘状刷(32)与所述清洁支架(31)转动连接，所述盘状刷(32)能够绕竖直轴转动。6.根据权利要求5所述的一种具有吸附固...

【专利技术属性】
技术研发人员：张莉娟，
申请(专利权)人：上海芯谦集成电路有限公司，
类型：新型
国别省市：