一种硅锰合金冶炼用还原剂配比装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种硅锰合金冶炼用还原剂配比装置，涉及冶炼技术领域。本实用新型专利技术包括搅拌组件、盛料组件、转动组件和下料组件，盛料组件内侧连接有下料组件，下料组件下侧连接有搅拌组件，盛料组件左右两侧方对称连接有转动组件。本实用新型专利技术通过设置搅拌组件和转动组件对盛料组件内部用于制作硅锰合金冶炼用还原剂的原材料进行充分且均匀的混合，以及通过设置下料组件，便于使用者彻底清理盛料组件内部的硅锰合金冶炼用还原剂，降低了硅锰合金冶炼用还原剂的浪费。冶炼用还原剂的浪费。冶炼用还原剂的浪费。

【技术实现步骤摘要】
一种硅锰合金冶炼用还原剂配比装置


[0001]本技术属于冶炼
，特别是涉及一种硅锰合金冶炼用还原剂配比装置。

技术介绍

[0002]冶金是指研究从矿石中提取有价金属或其化合物并进行加工成材料的过程中，工作人员在进行硅锰合金冶炼时需要使用到硅锰合金冶炼还原剂，硅锰合金冶炼还原剂使用的是焦粒，通过研究在焦粒中配比碳化硅炉渣冶炼硅锰合金，解决冶炼反应对炉温正向作用小以及炉温升温慢的问题，通过放热反应使炉温提前达标，提高反应速度，实现利用低附加值的碳化硅炉渣，降低产品冶炼电耗及焦耗，提高碳化硅炉渣的高价值利用，制作硅锰合金冶炼还原剂工艺一般用焦粉原料，利用还原剂筛下物、除尘灰、梦矿粉按照移动比例加入特制粘结剂混合后通过对筒式成球机制出的新型还原剂，目前，工作人员通过操控还原剂配比装置进行硅锰合金冶炼用还原剂制作。
[0003]但它在实际使用中仍存在以下弊端：
[0004]1、现有的还原剂配比装置在工作的过程中，仅仅通过搅拌杆对制作原材料进行搅拌混合，使得制作原材料不能够均匀充分的混合；
[0005]2、现有的还原剂配比装置在工作的过程中，由于出料口小，造成现有的还原剂配比装置内部的硅锰合金冶炼用还原剂无法彻底的排出，造成硅锰合金冶炼用还原剂的浪费。
[0006]因此，现有的还原剂配比装置，无法满足实际使用中的需求，所以市面上迫切需要能改进的技术，以解决上述问题。

技术实现思路

[0007]本技术的目的在于提供一种硅锰合金冶炼用还原剂配比装置，通过设置搅拌组件、转动组件和排料组件，解决了现有的还原剂配比装置存在的制作原材料混合不充分，以及无法彻底排出还原剂的问题。
[0008]为解决上述技术问题，本技术是通过以下技术方案实现的：
[0009]本技术为一种硅锰合金冶炼用还原剂配比装置，包括搅拌组件、盛料组件、转动组件和下料组件，盛料组件内侧连接有下料组件，下料组件下侧连接有搅拌组件，盛料组件左右两侧方对称连接有转动组件。
[0010]进一步地，盛料组件包含有空心桶和U形板；空心桶外周左右两侧中部均连接有U形板，空心桶内侧壁呈环形阵列开设有U形通槽。
[0011]进一步地，下料组件包含有液压缸、下圆形密封板和上圆形密封板；下圆形密封板位于空心桶内部下侧，上圆形密封板位于空心桶内部上侧，下圆形密封板外周呈环形阵列分布有下凸块，上圆形密封板外周呈环形阵列分布有上凸块，下凸块上侧连接有工形杆，工形杆上侧与上凸块下侧连接，上圆形密封板左右两侧方均有液压缸，液压缸上下两侧分别
连接有Z形座和安装座，Z形座下侧与上凸块上侧连接，安装座内侧与空心桶外周下侧连接。
[0012]进一步地，上凸块与U形通槽滑动连接，工形杆与U形通槽滑动连接，下凸块与U形通槽滑动连接。
[0013]进一步地，搅拌组件包含有第一电机和第一转轴；第一电机位于下圆形密封板正下方，第一电机上侧第一转轴贯穿下圆形密封板，第一转轴外周呈环形阵列分布有搅拌杆，第一电机下侧机座与下圆形密封板下侧连接。
[0014]进一步地，转动组件包含有第二电机和第二转轴；两个第二电机均位于U形板正外侧方，第二电机下侧连接有L形支座，第二电机内侧连接有第二转轴，第二转轴内侧与U形板外侧中部连接。
[0015]进一步地，盛料组件外周上侧呈环形阵列分布有进料组件，进料组件包含有T形外螺纹塞和进料管；进料管一端与空心桶外周上侧连通，进料管另一端内部螺纹连接有T形外螺纹塞。
[0016]进一步地，盛料组件正下方有底部组件，底部组件包含有沉头螺栓和底板；底板位于空心桶正下方，底板上部前后两侧均等间距螺纹连接有沉头螺栓，底板上部左右两侧分别与L形支座下侧连接。
[0017]本技术具有以下有益效果：
[0018]1、本技术通过设置搅拌组件和转动组件，对盛料组件内部的制作硅锰合金冶炼用还原剂的相关原材料进行搅拌和扰动混合，使得盛料组件内部的制作硅锰合金冶炼用还原剂的相关原材料混合更加均与充分，提升了硅锰合金冶炼用还原剂的质量。
[0019]2、本技术通过设置排料组件，便于彻底的清理盛料组件内部的硅锰合金冶炼用还原剂，减少了盛料组件内部残留的硅锰合金冶炼用还原剂的量，使得硅锰合金冶炼用还原剂得到充分使用。
附图说明
[0020]为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0021]图1为一种硅锰合金冶炼用还原剂配比装置的结构示意图；
[0022]图2为底部组件的结构示意图；
[0023]图3为底板、转动组件和盛料组件的连接示意图；
[0024]图4为盛料组件和进料组件的连接示意图；
[0025]图5为下料组件的结构示意图；
[0026]图6为下圆形密封板和搅拌组件的连接示意图。
[0027]附图中，各标号所代表的部件列表如下：
[0028]1、底部组件；11、沉头螺栓；12、底板；2、搅拌组件；21、机座；22、第一电机；23、搅拌杆；24、第一转轴；3、盛料组件；31、空心桶；32、U形通槽；33、U形板；4、转动组件；41、第二电机；42、第二转轴；43、L形支座；5、下料组件；51、上凸块；52、Z形座；53、液压缸；54、安装座；55、下圆形密封板；56、下凸块；57、工形杆；58、上圆形密封板；6、进料组件；61、T形外螺纹
塞；62、进料管。
具体实施方式
[0029]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
[0030]请参阅图1至6所示，本技术为一种硅锰合金冶炼用还原剂配比装置，包括搅拌组件2、盛料组件3、转动组件4和下料组件5，盛料组件3内侧连接有下料组件5，下料组件5下侧连接有搅拌组件2，盛料组件3左右两侧方对称连接有转动组件4；
[0031]使用者将底部组件1锁定连接在工作面上，该还原剂配比装置锁定连接在工作面上，使用者从进料组件6向盛料组件3内部导入制作硅锰合金冶炼用还原剂的相关原材料，使用者操控搅拌组件2对盛料组件3内部的制作硅锰合金冶炼用还原剂的相关原材料进行搅拌混合，使用者操控转动组件4，带动盛料组件3转动，盛料组件3内部的制作硅锰合金冶炼用还原剂的相关原材料流动混合；
[0032]使用者操控转动组件4将盛料组件3调整至与水面平行的状态，使用者操控下料组件5，使得液压缸53伸张，下圆形密封板55上的硅锰合金冶炼用还原剂向盛料组件3的一端移动，下圆形密封板55逐渐移动的将盛料组件3内部的硅锰合金冶炼用还原剂排出，最终，硅锰合金冶炼用还原剂掉落在外界收集箱的内部。
[0033]其中如图5所示，下料组件5包含有液压缸53、下圆形密封板55和上圆形密封板58；本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种硅锰合金冶炼用还原剂配比装置，包括搅拌组件(2)、盛料组件(3)、转动组件(4)和下料组件(5)，其特征在于：所述盛料组件(3)内侧连接有所述下料组件(5)，所述下料组件(5)下侧连接有所述搅拌组件(2)，所述盛料组件(3)左右两侧方对称连接有所述转动组件(4)。2.根据权利要求1所述的一种硅锰合金冶炼用还原剂配比装置，其特征在于：所述盛料组件(3)包含有空心桶(31)和U形板(33)；所述空心桶(31)外周左右两侧中部均连接有所述U形板(33)，所述空心桶(31)内侧壁呈环形阵列开设有U形通槽(32)。3.根据权利要求1所述的一种硅锰合金冶炼用还原剂配比装置，其特征在于：所述下料组件(5)包含有液压缸(53)、下圆形密封板(55)和上圆形密封板(58)；所述下圆形密封板(55)位于空心桶(31)内部下侧，所述上圆形密封板(58)位于空心桶(31)内部上侧，所述下圆形密封板(55)外周呈环形阵列分布有下凸块(56)，所述上圆形密封板(58)外周呈环形阵列分布有上凸块(51)，所述下凸块(56)上侧连接有工形杆(57)，所述工形杆(57)上侧与上凸块(51)下侧连接，所述上圆形密封板(58)左右两侧方均有所述液压缸(53)，所述液压缸(53)上下两侧分别连接有Z形座(52)和安装座(54)，所述Z形座(52)下侧与所述上凸块(51)上侧连接，所述安装座(54)内侧与空心桶(31)外周下侧连接。4.根据权利要求3所述的一种硅锰合金冶炼用还原剂配比装置，其特征在于：所述上凸块(51)与U形通槽(32)滑动连接，工形杆(57)与U形通槽(32)滑动连接，所述下凸块(56)与U形通...

【专利技术属性】
技术研发人员：张海涛，朱永东，
申请(专利权)人：宁夏昆仑高科硅制品有限公司，
类型：新型
国别省市：