一种平面研磨抛光机制造技术

技术编号:38153580 阅读:12 留言:0更新日期:2023-07-13 09:19
本发明专利技术公开了一种平面研磨抛光机,包括平台本体和平台本体一侧的操控箱,所述平台本体的表面设有圆形缺口,圆形缺口内设有能够转动的抛光盘,所述抛光盘的周围在平台本体的表面设有多个挡杆和限位环,所述挡杆和限位环一一对应,工件放入限位环内后由挡杆阻挡,并通过下方抛光盘转动打磨抛光;该平面研磨抛光机在使用时能够对工件底面持续打磨抛光,抛光力度大,效率高,且抛光盘面磨损后易修复,提高整体使用寿命,适合推广使用。适合推广使用。适合推广使用。

【技术实现步骤摘要】
一种平面研磨抛光机


[0001]本专利技术涉及抛光设备
,尤其涉及一种平面研磨抛光机。

技术介绍

[0002]研磨抛光是金属制作工艺中重要的步骤,通过设备的研磨抛光将去除金属工件表面原有的划痕、污渍等,使得工件具有光泽和亮度,进一步提高产品质量。
[0003]公告号为CN209477971U的中国技术专利公开了一种抛光机磨盘,由盘座和打磨盘构成,所述盘座与打磨盘之间设有盘垫,所述打磨盘内部设有金属盘,所述打磨盘盘体上设有嵌合柱,所述嵌合柱的一端贯穿打磨盘与打磨盘内的金属盘固定连接,所述嵌合柱另一端设有锁紧螺孔,所述盘座座体上设有打磨机衔接头和固定孔,所述盘座内部设有磁盘,所述盘垫上设有通孔;解决了打磨盘不便于更换和锁定效果不佳的技术问题。
[0004]公开号为CN112405269A的中国专利技术专利公开了一种打磨抛光装置,包括固定底座,所述固定底座顶部一侧固定连接有支架,所述支架底部固定连接有驱动电机,所述驱动电机的驱动轴固定连接有伸缩杆,所述伸缩杆远离驱动电机的一端固定连接有控制盘,所述控制盘侧面固定连接有支杆,所述支杆远离控制盘的一端顶部开设有滑孔,所述滑孔内壁开设有滑道,所述滑道内壁两侧均开设有滑槽,所述滑槽内壁滑动连接有双头滑轮,所述双头滑轮底部一侧贯穿滑槽并延伸至滑道内部,所述双头滑轮位于滑道内部的部分固定连接有齿链;解决了砂纸利用率低和抛光效率不佳的技术问题。
[0005]但是上述公开的打磨盘和抛光装置在使用时,一旦打磨盘磨损严重将无法修复,只能对其进行更换,使用成本较高;且整体打磨抛光力度无法调节,影响抛光效率,使用不便。

技术实现思路

[0006]本专利技术的目的是解决上述问题而提供一种在使用时能够对工件底面持续打磨抛光,抛光力度大,效率高,且抛光盘面磨损后易修复,提高整体使用寿命的平面研磨抛光机。
[0007]为实现上述目的,本专利技术的技术方案为:一种平面研磨抛光机,包括平台本体和平台本体一侧的操控箱,所述平台本体的表面设有圆形缺口,圆形缺口内设有能够转动的抛光盘,所述抛光盘的周围在平台本体的表面设有多个挡杆和限位环,所述挡杆和限位环一一对应,工件放入限位环内后由挡杆阻挡,并通过下方抛光盘转动打磨抛光。
[0008]优选的,所述平台本体的表面设有固定盘,固定盘上设有固定杆,所述固定杆的一侧设有L形板,L形板上设有压板,所述挡杆的一端通过压板固定在L形板上,所述固定杆在远离L形板的一侧设有滑槽,所述L形板通过滑槽能够沿着固定杆上下移动,所述挡杆包括弧形缺口和两个限位轮,两个所述限位轮设在弧形缺口的两端且置于挡杆的下方,所述限位环设在弧形缺口内,所述限位环的外壁与限位轮相接触。
[0009]优选的,所述平台本体的一侧还设有固定框和固定框内的伸缩体,所述伸缩体通过电机能够在固定框内向抛光盘方向移动,所述伸缩体在靠近抛光盘的一侧设有盘面修复
机构,所述盘面修复机构包括固定板、夹板、滑板和车刀,所述固定板固定在伸缩体的端部,所述夹板、滑板和车刀依次设在固定板上,其中车刀的两侧通过滑板夹持,所述滑板两侧通过夹板夹持,所述夹板通过螺栓横向移动将滑板和车刀夹紧固定。
[0010]优选的,所述滑板能够在夹板内上下移动,所述固定板的上方设有支撑板,所述支撑板上设有用于查看车刀伸出长度的千分尺,所述千分尺穿过支撑板抵在滑板的表面,所述千分尺的伸出带动滑板和千分尺向下移动。
[0011]优选的,所述抛光盘的中心处设有圆形凹陷,所述伸缩体伸出带动车刀修复抛光盘时,所述车刀落至圆形凹陷内。
[0012]优选的,所述限位环的两侧设有固定夹,所述固定夹上设有向上延伸的立杆,所述立杆内设有槽孔,所述槽孔内设有与立杆铰接的铰接杆,所述铰接杆的端部设有垂直设立的连杆,所述连杆的端部设万向球,所述万向球始终与限位环内的工件接触。
[0013]优选的,所述立杆的顶部设有顶杆,所述顶杆的中心处设有向下延伸的弹性伸缩杆,所述弹性伸缩杆的端部设有压盘,所述压盘的底面设有限位槽,所述压盘在限位槽处始终压持铰接杆或连杆。
[0014]优选的,所述平台本体内设有内置电机,内置电机带动抛光盘在圆形缺口内转动,所述抛光盘的表面突出平台本体。
[0015]本专利技术公开的一种平面研磨抛光机与现有技术相比具有以下有益效果:1、抛光盘转动时,工件被限位环和挡杆阻挡停留在抛光盘上,避免工件随着抛光盘转动无法研磨抛光,满足对工件底部持续打磨;2、挡杆的高度与伸出长度便于调节,可根据限位环的高度实时调节;3、伸缩体带动车刀移动,对抛光盘表面的磨损进行车削修复,保证后续继续使用;4、不论工件高度的高低,压盘始终在限位槽处压持铰接杆或连杆,增大压持力度,提高工件底面与抛光盘的接触力度,提高抛光效率。
附图说明
[0016]图1为本专利技术一种平面研磨抛光机的结构示意图一。
[0017]图2为本专利技术一种平面研磨抛光机的结构示意图二。
[0018]图3为本专利技术一种平面研磨抛光机的结构示意图三。
[0019]图4为本专利技术一种平面研磨抛光机的结构示意图四。
[0020]图5为本专利技术一种平面研磨抛光机中限位盘的结构示意图。
[0021]图6为本专利技术图1中A处的放大结构示意图。
[0022]图7为本专利技术图2中B处的放大结构示意图。
[0023]图8为本专利技术图5中C处的放大结构示意图。
[0024]图9为本专利技术中限位盘的使用状态示意图一。
[0025]图10为本专利技术中限位盘的使用状态示意图二。
[0026]图中:1、平台本体;2、操控箱;3、圆形缺口;4、抛光盘;41、圆形凹陷;5、伸缩体;51、固定板;52、夹板;53、滑板;54、车刀;55、支撑板;56、千分尺;6、固定框;7、电机;8、限位环;81、固定夹;82、立杆;83、槽孔;831、铰接杆;832、连杆;833、万向球;84、顶杆;85、弹性伸缩杆;86、压盘;861、限位槽;9、固定杆;91、固定盘;92、L形板;93、压板;94、滑槽;10、挡杆;101、弧形缺口;102、限位轮。
具体实施方式
[0027]现在结合附图对本专利技术作进一步详细的说明。附图为简化的示意图,仅以示意方式说明本专利技术的基本结构,因此其仅显示与本专利技术有关的构成。
[0028]请参照图1

4,一种平面研磨抛光机,包括平台本体1和平台本体1一侧的操控箱2,所述平台本体1的表面设有圆形缺口3,圆形缺口3内设有能够转动的抛光盘4,所述抛光盘4的周围在平台本体1的表面设有多个挡杆10和限位环8,所述挡杆10和限位环8一一对应,在使用时工件放入限位环8内后由挡杆10阻挡,并通过下方抛光盘4转动打磨抛光,所述平台本体1内设有内置电机,内置电机带动抛光盘4在圆形缺口3内转动,所述抛光盘4的表面突出平台本体,抛光盘4转动时,工件由于限位环8和挡杆10将停留在抛光盘4上,避免工件随着抛光盘4转动无法研磨抛光,此时工件不动、底部的抛光盘4转动,将对工件底面本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种平面研磨抛光机,包括平台本体和平台本体一侧的操控箱,其特征在于,所述平台本体的表面设有圆形缺口,圆形缺口内设有能够转动的抛光盘,所述抛光盘的周围在平台本体的表面设有多个挡杆和限位环,所述挡杆和限位环一一对应,工件放入限位环内后由挡杆阻挡,并通过下方抛光盘转动打磨抛光。2.根据权利要求1所述的平面研磨抛光机,其特征在于,所述平台本体的表面设有固定盘,固定盘上设有固定杆,所述固定杆的一侧设有L形板,L形板上设有压板,所述挡杆的一端通过压板固定在L形板上,所述固定杆在远离L形板的一侧设有滑槽,所述L形板通过滑槽能够沿着固定杆上下移动,所述挡杆包括弧形缺口和两个限位轮,两个所述限位轮设在弧形缺口的两端且置于挡杆的下方,所述限位环设在弧形缺口内,所述限位环的外壁与限位轮相接触。3.根据权利要求1所述的平面研磨抛光机,其特征在于,所述平台本体的一侧还设有固定框和固定框内的伸缩体,所述伸缩体通过电机能够在固定框内向抛光盘方向移动,所述伸缩体在靠近抛光盘的一侧设有盘面修复机构,所述盘面修复机构包括固定板、夹板、滑板和车刀,所述固定板固定在伸缩体的端部,所述夹板、滑板和车刀依次设在固定板上,其中车刀的两侧通过滑板夹持,所述滑板两侧通过夹板夹持,所述夹板通过螺栓横向移...

【专利技术属性】
技术研发人员:柴景余王志龙林小东
申请(专利权)人:中国黄金集团三门峡中原金银制品有限公司
类型:发明
国别省市:

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