光阻组合物、硬化物及基质图案、着色分散液、以及光阻组合物的制造方法技术

技术编号:38098735 阅读:11 留言:0更新日期:2023-07-06 09:15
本发明专利技术涉及光阻组合物、硬化物及基质图案、着色分散液、以及光阻组合物的制造方法。本发明专利技术提供一种光阻组合物,其适合于即使在进行低温硬化的情况中,也可形成硬化性与图案化性优异的硬化物(硬化膜)的用途。本发明专利技术的光阻组合物含有:(A)环氧树脂的一部分经(甲基)丙烯酸酯化的部分(甲基)丙烯酸酯化环氧树脂、(B)溶剂、(C)含有聚合性不饱和基的碱可溶性树脂、及(D)光聚合引发剂。及(D)光聚合引发剂。

【技术实现步骤摘要】
光阻组合物、硬化物及基质图案、着色分散液、以及光阻组合物的制造方法


[0001]本专利技术有关一种适合于获得低温硬化性及图案化性优异的基质图案的光阻组合物。

技术介绍

[0002]近年,对于以往的液晶显示元件,受瞩目并已被实用化的是有利于薄型化、可挠性化,且光利用效率高的有机EL显示元件(OLED)。
[0003]如此的OLED为了防止因外光的反射等所致的辨识性降低,而具备圆偏光板作为抗反射膜。然而,具备圆偏光板时,不仅截断外光,也截断有机EL发出的光,故光的利用效率大幅地降低。因此,期盼开发出一种即使不使用圆偏光板,辨识性也良好且可以低消耗电力使用的OLED。
[0004]在此,利用彩色滤光片(CF)与光的共振效果,不仅不会截断有机EL发出的光,更使光谱形成陡峭且高强度,并提升亮度与色纯度,故有助于提升OLED的穿透率提升/消耗电力改善。与圆偏光板比较,CF为膜厚较薄,装置可薄膜化,另外,黑色基质为遮光性高,且经通过CF而入射的外光经反射时,具有设为吸收反射光的抗反射功能,故尝试以CF替代圆偏光板。此时,在CF中,例如,在形成所使用的黑色基质的光阻(黑色光阻)、透明光阻、或RGB光阻中,除了熟知的功能以外,与玻璃基板比较,尚必须在耐热性低的OLED元件上形成图案,因而尤其是强烈地要求低温硬化性能。
[0005]目前为止,就对黑色光阻等的感光性树脂组合物赋予低温硬化特性的例而言,在专利文献1为了在耐热性高达140℃的塑胶基板等形成树脂膜图案,已提案在感光性树脂组合物中调配环氧化合物的同时,必须调配环氧化合物的硬化剂和/或硬化促进剂,尚且,使这些环氧化合物及其硬化剂和/或硬化促进剂的合计量设为特定的范围。然而,即使添加如此的环氧化合物或与其同等的硬化赋予成分,也不具有紫外线硬化性,故有无法与组合物中的具有紫外线硬化性的其它的成分形成共价键的交联,当经硬化时,交联会不均匀,且作为硬化膜的低温硬化性/膜强度不会提升的忧。
[0006][现有技术文献][0007][专利文献][0008][专利文献1]日本特开2019

070720号公报
[0009][专利文献2]日本特开2019

52273号公报。

技术实现思路

[0010][专利技术所要解决的课题][0011]本专利技术是有鉴于上述的课题而成,发现在黑色光阻等光阻组合物中,替代自以往所使用的环氧化合物或与如此的环氧化合物并用,而调配环氧化合物的环氧基的一部分被丙烯酸酯化和/或甲基丙烯酸酯化(有将这些统整记载为“(甲基)丙烯酸酯化”的情形,对于

(甲基)丙烯酸”等也相同)的特定的环氧化合物(环氧树脂)。崭新地发现如此的特定的环氧化合物可赋予以环氧基所产生的热硬化性(低温硬化性),并且与光阻组合物中调配不少的具有聚合性不饱和基的成分具有紫外线硬化性,故即使在低温硬化时,交联仍成为均匀,另外,也可提升涂膜强度等,并且例如在形成未达20μm的线宽的图案时,也可得到显像密合性优异的硬化物。
[0012]此外,一部分的环氧基经(甲基)丙烯酸酯化的部分酯化环氧树脂虽然为已知(例如,参照专利文献2),但未知为了赋予低温硬化性的目的,而将此调配于光阻组合物中。另外,如此的部分酯化环氧树脂,虽然有被评估作为液晶显示装置的密封剂的例,但尚未研究有关对使用溶剂的印墨材料的适用、在显像中的图案化性、对黑色基质的适用。
[0013]因此,本专利技术是依据上述的见识而专利技术,其目的为提供一种即使在进行低温硬化的情况中,也适合于形成硬化性与图案化性优异的硬化物(硬化膜)的用途的光阻组合物。
[0014]另外,本申请的另一目的是提供一种将如此的光阻组合物硬化而成的硬化物,另外,提供一种使用该硬化物所制作成的基质图案。
[0015]进一步,本申请的另一目的是提供一种可使用于如此的光阻组合物的制造的着色分散液,并提供一种使用该着色分散液而制造光阻组合物的方法。
[0016][解决课题的手段][0017]也就是,本专利技术的要旨如下述。
[0018][1]一种光阻组合物,含有:
[0019](A)环氧树脂的一部分经(甲基)丙烯酸酯化的部分(甲基)丙烯酸酯化环氧树脂、
[0020](B)溶剂、
[0021](C)含有聚合性不饱和基的碱可溶性树脂、及
[0022](D)光聚合引发剂。
[0023][2]如[1]所述的光阻组合物,其中,前述(A)成分为下述式(1)所示的化合物。
[0024][0025][式(1)中,Cy为碳数6至12的芳香族烃基或碳数3至12的脂环式烃基,
[0026]Y为碳数1至20的2价的烃基,
[0027]R
11
独立地为碳数1至10的烃基。R
12
独立地表示下式(*)和/或式(**)所示的基,且至少包含(*)及(**)各一个。R
17
为氢原子或甲基。
[0028]a、m、n分别独立地表示重复单元数,且a为1以上,m为1或2,n为0至7][0029][0030][3]如[1]所述的光阻组合物,其中,前述(A)成分为下述式(2)所示的化合物。
[0031][0032][式(2)中,R
14
表示具有d个活性氢基的有机化合物的残基。R
12
独立地表示下式(*)和/或式(**),且在一分子内至少包含(*)及(**)各一个。R
17
为氢原子或甲基。
[0033]d为1至100的整数。c分别独立为0至100的整数,且各c的和为2至100][0034][0035][4]如[1]所述的光阻组合物,其中,前述(A)成分为下述式(3)所示的化合物。
[0036][0037][在式(3)中,f、g、h、i分别独立为0或1,且为f+g+h+i=1至3。
[0038]R
13
独立地表示下式(***)和/或式(****),且至少包含(***)及(****)各一个。R
17
为氢原子或甲基][0039][0040][0041][5]如[1]所述的光阻组合物,其中,前述(A)成分为下述式(4)所示的化合物。
[0042]R
13

W

R
13
(4)
[0043][在式(4)中,W表示单键或在内部可包含杂元素的碳数1至20的2价的有机基。R
13
独立地表示下式(***)和/或式(****),且至少包含(***)及(****)各一个。R
17
为氢原子或甲基][0044][0045][6]如[1]所述的光阻组合物,其中,前述(A)成分为下述式(5)所示的化合物。
[0046][0047][式(5)中,Z表示

CO



SO2‑


C(CF3)2‑

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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光阻组合物,含有:(A)环氧树脂的一部分经(甲基)丙烯酸酯化的部分(甲基)丙烯酸酯化环氧树脂、(B)溶剂、(C)含有聚合性不饱和基的碱可溶性树脂、及(D)光聚合引发剂。2.根据权利要求1所述的光阻组合物,其中,前述(A)成分为下述式(1)所示的化合物,式(1)中,Cy为碳数6至12的芳香族烃基或碳数3至12的脂环式烃基,Y为碳数1至20的2价的烃基,R
11
独立地为碳数1至10的烃基,R
12
独立地表示下式(*)和/或式(**)所示的基,且至少包含(*)及(**)各一个,R
17
为氢原子或甲基,a、m、n分别独立地表示重复单元数,a为1以上,m为1或2,n为0至7;3.根据权利要求1所述的光阻组合物,其中,前述(A)成分为下述式(2)所示的化合物,式(2)中,R
14
表示具有d个活性氢基的有机化合物的残基,R
12
独立地表示下式(*)和/或式(**),在一分子内至少包含(*)及(**)各一个,R
17
为氢原子或甲基,d1至100的整数,c分别独立为0至100的整数,各c的和为2至100;各c的和为2至100;4.根据权利要求1所述的光阻组合物,其中,前述(A)成分为下述式(3)所示的化合物,
在式(3)中,f、g、h、i分别独立为0或1,且f+g+h+i=1至3,R
13
独立地表示下式(***)和/或式(****),至少包含(***)及(****)各一个,R
17
为氢原子或甲基;或甲基;5.根据权利要求1所述的光阻组合物,其中,前述(A)成分为下述式(4)所示的化合物,R
13

W

R
13
(4)在式(4)中,W表示单键或在内部可包含杂元素的碳数1至20的2价的有机基,R
13
独立地表示下式(***)和/或式(****),且至少包含(***)及(****)各一个,R
17
为氢原子或甲基,为氢原子或甲基,6.根据权利要求1所述的光阻组合物,其中,前述(A)成分为下述式(5)所示的化合物,在式(5)中,Z表示

【专利技术属性】
技术研发人员:小野悠树岩井航平
申请(专利权)人:日铁化学材料株式会社
类型:发明
国别省市:

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