【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种测量系统，且特别涉及一种光刻设备的垂向测量系统。
技术介绍
随着大规模和超大规模集成电路制造工艺的发展，作为这一行业发展驱动器的光刻机也越来越先进。提高光刻机垂向测量系统的测量精度是优化曝光质量的前提条件。但提高垂向测量精度的同时却导致测量范围在不断减小。 在光刻机中由于热漂移及装配误差等因素使得垂向测量系统零平面位置和投影物镜最佳焦面之间的偏差比较大，该偏差量对于垂向测量系统来讲，必将引入测量误差。 专利号为4866262的美国专利公开了一种垂向测量系统，在测量光路中加入偏置平板。通过调整偏置平板来改变测量光束的位置，进而消除上述偏差。但由于该专利技术仅在一侧光路中引入偏置平板，在偏置平板转动后，反射光路中的光束偏移量不可控制。当偏移量过大时，对垂向测量系统带来成像误差，且该系统对反射光路中光学器件的安装精度提出了很高的要求。 专利号为5461237的美国专利提出了一种全新的测量方案，利用高频振动的扫描反射镜来产生高频光学探测信号，可以消除硅片表面形貌不规则所引起的系统测量误差。但该方案自身零平面位置不可调，不能消除由于投影物镜最佳...
【技术保护点】
一种可调整零平面位置的垂向测量系统，包括光源发出入射光束，该入射光束到达被测试的硅片后，反射光束由该硅片反射至光电探测器，其特征是，该垂向测量系统包括： 双光楔机构，放置于垂向测量系统的光路中，用于改变光路中光束的偏移量，其特征是，沿 光路依次包括： 第一楔形块，包括入射面和第一斜面；以及 第二楔形块，该第二楔形块的楔角与折射率与该第一楔形块相同，该第二楔形块包括出射面和第二斜面，该出射面平行于该入射面，该第二斜面与该第一斜面相对且相互平行， 其中该第一 楔形块和该第二楔形块沿水平方向和垂直方向相对移动时，改变光束的偏移量。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：金小兵，李志丹，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]
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