一种汝瓷篆刻陶印制作工艺制造技术

技术编号:38040338 阅读:18 留言:0更新日期:2023-06-30 11:06
本发明专利技术涉及陶印技术领域,更具体的说是涉及一种汝瓷篆刻陶印制作工艺包括以下步骤:(1)对专用泥进行加工;(2)以注浆法进行坯体的成型;(3)陶印的刻制;(4)素烧阶段;(5)打磨修整;(6)上釉;(7)釉烧。本发明专利技术通过对泥浆进行生物陈腐4年,以提升泥的柔韧性;通过增加一定质量的铝矾土,来增加其高温塑性,防止篆刻笔画在高温下泥土收缩变形;通过加入一定质量的有机物,来提升常温下泥料的柔韧性和粘结度,避免用篆刻刀在行刀时泥料出现崩口影响陶印的艺术效果;同时加入有机物在高温下消失,可以使陶印的质量减轻,增加其成品的品质和价值,以解决现有的淘印会在行刀时出现崩口,导致塑造效果不好的问题;再有就是淘印过重影响把玩性,品质不好;以匣钵隔焰烧方式保证汽碳窑烧效果受热均匀,成品率高,釉面发色沉稳。釉面发色沉稳。

【技术实现步骤摘要】
一种汝瓷篆刻陶印制作工艺


[0001]本专利技术涉及陶印
,更具体的说是涉及一种汝瓷篆刻陶印制作工艺。

技术介绍

[0002]中国是陶瓷古国,说起陶瓷,外国人就想到中国。陶艺是一种人工形态。陶瓷形态的基本材料是土、水、火。人只有掌握了水土揉合的可塑性,流变性,以及成型方法和烧结规律,才能促成陶艺形态的产生和演化,使陶瓷器物产生美的形式。同时注重造型与装饰的有机结合,通过人们敏锐的灵感和创新意识,捕捉并揭示泥土的塑性美、柔韧美以及表现活力,这样就出现了全新的陶艺形态,为智慧的人所掌握、发展、创新。任何艺术发展到一定阶段,都会形成完整的技巧。
[0003]汝瓷是中国五大名瓷之一,因产于汝州而得名,始烧于唐朝中期,盛名于北宋,兴盛时期被列为五大名瓷之首。因其造型古朴大方,其釉如“雨过天晴云破处”,“千峰碧波翠色来”,其土质细润,坯体如侗体,其釉厚而声如擎,明亮而不刺目,具有“梨皮、蟹爪、芝麻花”之特点,被世人赞为“似玉、非玉、而胜玉”,曾被钦定为宫廷御用瓷。汝瓷制作工艺精湛,用料考究,配方独特,烧成技艺高超,由于铁还原达到了最佳效果,使其超越了当时所有的窑口,是中国青瓷发展史上划时代的创举;但由于战乱,北宋灭亡,官窑被毁,汝瓷也随之失传,之后历代仿制均难还原。
[0004]陶印,自古有之,始于商周,盛于秦汉。华夏先民以土为材,挖穴为窑,施凿于垩土陶坯之上,烧制出精美的低温陶器。制陶技艺代代相传,至隋代,予之家乡中原便有了立窑烧陶之历史,其居中原腹地,接黄河文脉,与唐三彩产地洛阳为邻,中原文化的三彩刻花陶器由之问世。历经千年,三彩刻花陶已逐渐演变为今日之中原文化刻画彩釉陶。但现有的陶印存在成品率低的问题。

技术实现思路

[0005]为了解决上述问题,本专利技术提供了一种汝瓷篆刻陶印制作工艺,该工艺方法制备的汝瓷篆刻陶印不仅质轻,而且外形美观耐看。
[0006]为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:
[0007]一种汝瓷篆刻陶印制作工艺,其特征在于,包括以下步骤:
[0008]步骤1:将球磨后泥料、水、球按照1:0.8:1.8~2的质量比混合后得到浆料,然后过100~80目筛,将泥料调制浓度为52~53度,通过泥池对浆料进行密闭生物陈腐1~4年;
[0009]其中,所述泥料由以下质量百分比的组分组成:风穴寺土65%~75%、唐沟土15%~25%、严和店坩8%~15%;为增加其泥料的高温塑性,加入煅烧铝矾土,使其高温烧制时陶印笔画不变形;同时,加入羧甲基纤维素,提高泥浆的韧性,避免用篆刻刀在行刀时泥料出现崩口影响陶印的艺术效果;
[0010]步骤2:模具制作:首先,用泥塑造形状,以制作的泥稿翻制石膏模具;其次,用上述石膏模具制作石膏模种,然后对石膏模种进行精修打磨和局部造型泥稿修改;最后,用制作
精良的石膏模种制作出最终石膏模具以供后期注浆制坯用;
[0011]步骤3:用模具注浆出来的干泥坯进行素烧,增加泥坯的强度;首先,空窑室把温度升到300℃进行烘窑,再利用窑车把制作好泥坯推进烘好的空窑室进行排湿烘干;3h温度降到室内常温后,再次点火2个火喷头进行烧制6h,在0

500℃时,窑门开一道1cm的缝,使其升温缓慢,方便泥坯进行二次排湿,提高成品率;最后,紧闭窑门,点4个火喷头3h升温850℃,得到素烧陶印坯体;
[0012]步骤4:素坯的刻制:首先时把陶印刻字的平面进行涂抹黑色墨水,便于看清刻刀刻划的笔画线条;然后用篆刻笔进行标记创造;最后根据黑色面积的对比,微调篆刻笔字体笔画和图案,得到最终效果;
[0013]步骤5:施釉:先用可撕胶对篆刻的字体和图案进行涂抹保护;然后把涂抹好的保护层向立面上方延伸2mm;进行施汝瓷釉浸釉,再用海绵沾水轻扫瓷釉后的坯体边线,使其线条部分釉层变薄,便于后期烧制后显露线条;对放置阴干施过釉的素坯检查是否出现的釉泡、脱釉现象,并用毛笔进行补釉,避免釉烧出现滚釉的效果;
[0014]步骤6:釉烧:为增加汝瓷釉面的润度,本专利技术采用汽碳烧:首先,在窑里面放置碳块,让碳参与反应,挥发二氧化硫、一氧化碳和氢气,加强窑炉里的还原气氛,使还原更加彻底;同时,碳在窑炉里会产生灰尘影响釉面干净,所以上釉后的陶印放在匣钵罩上采用隔焰烧;烧制1280℃完成釉烧;
[0015]优选的,在上述一种汝瓷篆刻陶印制作工艺中,所述步骤1中采用行星球磨进行球磨,球磨自转转速为1100

1400r/min,球磨时间为13

16h。
[0016]优选的,在上述一种汝瓷篆刻陶印制作工艺中,所述步骤1中煅烧铝矾土是把10%~15%铝矾土煅烧900℃后,泥料、水、球按照1:0.8:1.8球磨80目筛后进行配置。
[0017]优选的,在上述一种汝瓷篆刻陶印制作工艺中,所述步骤1中羧甲基纤维素的配比为5%~10%。
[0018]优选的,在上述一种汝瓷篆刻陶印制作工艺中,所述步骤2泥稿所用泥料为粘性强的目结土,细度为800目;模具的用料为成型强度高和成型表面光洁度优的ks石膏粉,水和石膏粉比例为25:100。
[0019]优选的,在上述一种汝瓷篆刻陶印制作工艺中,所述步骤3素烧阶段的具体步骤为:500

850℃的升温曲线为2~3℃/min的升温速率升温,素烧完毕,保温20~30min后冷却,素烧温度为900

1000℃。
[0020]优选的,在上述一种汝瓷篆刻陶印制作工艺中,所述步骤5中施釉陶瓷素坯的釉层厚度为1.0

1.5mm。
[0021]优选的,在上述一种汝瓷篆刻陶印制作工艺中,所述步骤6的升温曲线:1)弱氧化性气氛中经5

6h烧制到950

1000℃;2)还原气氛经1

2h烧制到1100

1280℃;3)快速冷却使釉面封闭,在1280℃时,打开窑门并迅速关闭窑门,使空气中氧气进去,防止窑内产品二次氧化,使其釉面发灰;4)自然冷却至室温,开窑即可。
[0022]经由上述的技术方案可知,与现有技术相比,本专利技术的有益效果在于:
[0023](1)现有的技术多为不上釉色的紫砂陶印、磁州窑和界首的民间陶印,缺少中国礼器的元素,中国礼器材质多为玉器、铜器,汝窑为五大名瓷,以玛瑙入釉,玉质感、乳浊感较强,增加了汝瓷陶印的“礼器”的文化属性。
[0024](2)通过在泥料中加入一定质量的有机物(羧甲基纤维素),来提升常温下泥料的柔韧性和粘结度,避免用篆刻刀在行刀时泥料出现崩口影响陶印的艺术效果,导致塑造效果不好的问题;
[0025](3)通过增加一定质量的铝矾土,来增加其高温塑性,防止篆刻笔画在高温下泥土收缩变形;
[0026](4)在烧制中泥料中加入有机物(羧甲基纤维素)在高温下烧失,可以使陶印的质量减轻,轻薄的陶印增加其陶印文玩的把玩性和成品价值;
[0027](5)用可撕胶本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种汝瓷篆刻陶印制作工艺,其特征在于,包括以下步骤:步骤1:将球磨后泥料、水、球按照1:0.8:1.8~2的质量比混合后得到浆料,然后过100~80目筛,将泥料调制浓度为52~53度,通过泥池对浆料进行密闭生物陈腐1~4年;其中,所述泥料由以下质量百分比的组分组成:风穴寺土65%~75%、唐沟土15%~25%、严和店坩8%~15%;为增加其泥料的高温塑性,加入煅烧铝矾土,使其高温烧制时陶印笔画不变形;同时,加入羧甲基纤维素,提高泥浆的韧性,避免用篆刻刀在行刀时泥料出现崩口影响陶印的艺术效果;步骤2:模具制作:首先,用泥塑造形状,以制作的泥稿翻制石膏模具;其次,用上述石膏模具制作石膏模种,然后对石膏模种进行精修打磨和局部造型泥稿修改;最后,用制作精良的石膏模种制作出最终石膏模具以供后期注浆制坯用;步骤3:用模具注浆出来的干泥坯进行素烧,增加泥坯的强度;首先,空窑室把温度升到300℃进行烘窑,再利用窑车把制作好泥坯推进烘好的空窑室进行排湿烘干;3h温度降到室内常温后,再次点火2个火喷头进行烧制6h,在0

500℃时,窑门开一道1cm的缝,使其升温缓慢,方便泥坯进行二次排湿,提高成品率;最后,紧闭窑门,点4个火喷头3h升温850℃,得到素烧陶印坯体;步骤4:素坯的刻制:首先时把陶印刻字的平面进行涂抹黑色墨水,便于看清刻刀刻划的笔画线条;然后用篆刻笔进行标记创造;最后根据黑色面积的对比,微调篆刻笔字体笔画和图案,得到最终效果;步骤5:施釉:先用可撕胶对篆刻的字体和图案进行涂抹保护;然后把涂抹好的保护层向立面上方延伸2mm;进行施汝瓷釉浸釉,再用海绵沾水轻扫瓷釉后的坯体边线,使其线条部分釉层变薄,便于后期烧制后显露线条;对放置阴干施过釉的素坯检查是否出现的釉泡、脱釉现象,并用毛笔进行补釉,避免釉烧出现滚釉的效果;步骤6:釉烧:为增加汝瓷釉面的润度,本发明采用汽碳烧:首先,在窑里面放置碳块,让碳参与反应,挥发二氧化硫、一氧化碳和氢气,加强窑炉里的还原气氛,使还原更加彻底...

【专利技术属性】
技术研发人员:上官弘文常爽刘志钧郭君健晋文龙亓会锁
申请(专利权)人:许昌市工艺美术学会
类型:发明
国别省市:

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