一种抛光垫浇注模具制造技术

本发明专利技术涉及一种抛光垫浇注模具，模具包括模具本体，模具本体内设有原料容纳腔，模具本体的顶部设有与原料容纳腔连通的浇注孔，模具本体的底部设有至少三个支脚，支脚与模具本体之间设有高度调节结构。与现有技术相比，该抛光垫浇注模具在使用过程中，可以通过浇注孔向原料容纳腔内浇注抛光垫原料，并依次控制多个高度调节结构调节支脚与模具本体，使得模具本体底部的每一个位置与模具放置台面的距离相等，即模具底部与模具放置台面完全平行，从而保证模具整体水平度良好，进而提高抛光垫浇注体厚度均一性；也可以在浇筑前调整模具本体的水平度，避免模具本体内的原料在水平度调好前凝固。凝固。凝固。

【技术实现步骤摘要】
一种抛光垫浇注模具


[0001]本专利技术涉及抛光垫制造工具领域，尤其是涉及一种抛光垫浇注模具。

技术介绍

[0002]抛光垫是集成电路制造中不可或缺的抛光耗材，其中聚氨酯抛光垫的硬度、弹性及压缩率可根据抛光垫的生产工艺和参数进行定制，得到特定的表面去除速率，因此广泛应用于集成电路化学机械抛光(CMP)过程中。
[0003]聚氨酯抛光垫制备一般分为几个步骤，先将聚氨酯和固化剂等原料混合均匀；再将混合的原料浇注到抛光垫模具中，直接在模具中固化成型形成抛光垫浇注体，最后将较厚的抛光垫浇注体切割为多个抛光垫薄片。在制备过程中，抛光垫质量、密度和厚度的均一性，不仅取决于原料混合配比和固化温度，也取决于模具的水平度。因此有必要提高浇注过程中模具的水平度，从而提高抛光垫浇注体厚度均匀度，进而提高切割均一性。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的就是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种抛光垫浇注模具，用于提高抛光垫厚度的均一性。
[0005]本专利技术的目的可以通过以下技术方案来实现：
[0006]一种抛光垫浇注模具，所述模具包括模具本体，所述模具本体内设有原料容纳腔，所述模具本体的顶部设有与所述原料容纳腔连通的浇注孔，所述模具本体的底部设有至少三个支脚，所述支脚与所述模具本体之间设有高度调节结构。
[0007]在其中一个实施例中，所述高度调节结构包括螺钉，所述模具本体上设有螺纹孔，所述螺柱的一端与所述螺纹孔螺纹连接，所述螺柱的另一端与所述支脚连接。
[0008]在其中一个实施例中，所述螺柱与所述支脚之间设有转动轴承，使所述螺柱可以绕其轴线转动。
[0009]在其中一个实施例中，所述支脚上远离所述高度调节结构的一端设有球形弧面。
[0010]在其中一个实施例中，所述模具外壁上设有水平仪，用于显示所述模具的水平状态。
[0011]在其中一个实施例中，所述模具设置夹层结构，所述夹层结构内设有加热件和温度传感器，所述加热件和所述温度传感器电连接。
[0012]在其中一个实施例中，所述加热件为环状加热丝，位于所述模具本体底部的多个所述加热件呈同心圆分布。
[0013]在其中一个实施例中，所述加热件为环状加热丝，位于所述模具本体40侧周的多个所述加热件围绕其中心轴线依次设置。
[0014]在其中一个实施例中，所述模具的顶部设有多个与所述原料容纳腔连通的透气孔，所述透气孔内设有与之可拆卸连接的密封件。
[0015]在其中一个实施例中，所述模具包括底板、环状侧壁和盖体，所述底板上设有环状
凹槽，所述环状侧壁的一端插入所述环状凹槽，所述环状侧壁的另一端与所述盖体连接，所述高度调节结构设于所述底板上，所述浇注孔设于所述盖体上。
[0016]与现有技术相比，本专利技术具有如下优点：
[0017]1、该抛光垫浇注模具在使用过程中，可以通过浇注孔向原料容纳腔内浇注抛光垫原料，并依次控制多个高度调节结构调节支脚与模具本体，使得模具本体底部的每一个位置与台面的距离相等，即模具底部与台面完全平行，从而保证模具整体水平度良好，进而提高抛光垫浇注体厚度均一性；也可以在浇筑前调整模具本体的水平度，避免模具本体内的原料在水平度调好前凝固。
[0018]2、高度调节结构的一端与模具本体螺纹连接，通过控制螺柱旋入螺纹孔的深度调节支脚与模具本体的距离，依次调节至少三个支脚与模具本体的距离，可以实现模具本体水平度，操作简单。
[0019]3、模具放置在台面上，调节距离时应相对于模具本体旋转螺柱，由于螺柱的一端与支脚转动连接，支脚相对于台面静止，因此可以避免模具失衡，保证距离调节时模具整体的稳定性。
[0020]4、支脚底部设置球形弧面，具有球形弧面的支脚可以在粗糙或凹凸不平的台面上保持稳定，并提高模具水平度调节的精确性。
[0021]5、该抛光垫浇注模具上设有水平仪，可以对模具的水平度进行可视化调整，水平仪与高度调节结构相互配合，有利于提高水平度调整的效率和准确性。
[0022]6、该抛光垫浇注模具在夹层结构内设置加热件和温度传感器，因此温度传感器可以实时监测模具内的固化温度，并通过控制加热件的加热速率来准确调节模具内的温度，有利于提高抛光垫质量和密度的均一性。
附图说明
[0023]图1为本专利技术中抛光垫浇注模具的立体图。
[0024]图2为本专利技术中抛光垫浇注模具的侧视图。
[0025]图3为本专利技术中抛光垫浇注模具的仰视图。
[0026]图4为图2中抛光垫浇注模具A
‑
A处的剖视图。
[0027]图5为图3中抛光垫浇注模具B
‑
B处的剖视图。
[0028]图6为本专利技术中高度调节结构和支脚的结构示意图。
[0029]附图说明：100、模具；10、盖体；11、浇注孔；12、透气孔；13、浇注密封盖；14、密封件；20、环状侧壁；21、原料容纳腔；30、底板；31、环状凹槽；32、螺纹孔；40、模具本体；50、水平仪；60、加热件；70、高度调节结构；71、辅助环；80、支脚。
具体实施方式
[0030]下面结合附图和具体实施例对本专利技术进行详细说明。本实施例以本专利技术技术方案为前提进行实施，给出了详细的实施方式和具体的操作过程，但本专利技术的保护范围不限于下述的实施例。
[0031]下面结合附图对一些实施例中的抛光垫浇注模具100进行详细描述。
[0032]如图1至图6所示，在一实施例中，提供了一种抛光垫浇注模具100，模具本体40内
设有原料容纳腔21，模具本体40的顶部设有与原料容纳腔21连通的浇注孔11，模具本体40的底部设有至少三个支脚80，支脚80与模具本体40之间设有高度调节结构70。
[0033]该抛光垫浇注模具100在使用过程中，可以通过浇注孔11向原料容纳腔21内浇注抛光垫原料，并依次控制多个高度调节结构70调节支脚80与模具本体40，使得模具100底部的每一个位置与台面的距离相等，即模具100底部与台面完全平行，从而保证模具100整体水平度良好，进而提高抛光垫浇注体厚度均一性；也可以在浇筑前调整模具本体40的水平度，避免模具本体40内的原料在水平度调好前凝固。
[0034]具体地，如图1、图2和图5所示，在一实施例中，模具本体40包括底板30、环状侧壁20和盖体10，底板30上设有环状凹槽31，环状侧壁20的一端插入环状凹槽31，环状侧壁20的另一端与盖体10连接，高度调节结构70设于底板30上，浇注孔11设于盖体10上。
[0035]具体地，如图2、图3、图5和图6所示，在一实施例中，高度调节结构70包括螺钉，模具本体40上设有螺纹孔32，螺柱的一端与螺纹孔32螺纹连接，螺柱的另一端与支脚80连接模具100。即模具100的底板30上设有螺纹孔32，螺钉的一端插入螺纹孔32，因此螺钉可以通过旋入旋出螺纹孔32，控制螺钉凸出于底板30的长度，即支脚80与底板30的距离，从而本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种抛光垫浇注模具，其特征在于，所述模具(100)包括模具本体(40)，所述模具本体(40)内设有原料容纳腔(21)，所述模具本体(40)的顶部设有与所述原料容纳腔(21)连通的浇注孔(11)，所述模具本体(40)的底部设有至少三个支脚(80)，所述支脚(80)与所述模具本体(40)之间设有高度调节结构(70)。2.根据权利要求1所述的一种抛光垫浇注模具，其特征在于，所述高度调节结构(70)包括螺柱，所述模具本体(40)上设有螺纹孔(32)，所述螺柱的一端与所述螺纹孔(32)螺纹连接，所述螺柱的另一端与所述支脚(80)连接。3.根据权利要求2所述的一种抛光垫浇注模具，其特征在于，所述螺柱与所述支脚(80)之间设有转动轴承，使所述螺柱可以绕其轴线转动。4.根据权利要求1所述的一种抛光垫浇注模具，其特征在于，所述支脚(80)上远离所述高度调节结构(70)的一端设有球形弧面。5.根据权利要求1所述的一种抛光垫浇注模具，其特征在于，所述模具本体(40)外部设有水平仪(50)，用于显示所述模具(100)的水平状态。6.根据权利要求1所述的一种抛光垫浇注模具，其特征在于，所述模具本体(...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨波，张莉娟，
申请(专利权)人：上海芯谦集成电路有限公司，
类型：发明
国别省市：