防指纹涂层的修复方法技术

一种防指纹涂层的修复方法，包括：提供一待修复基板，待修复基板包括基材以及位于基材表面的防指纹涂层，防指纹涂层背离基材的表面具有破损区域，防指纹涂层含有硅氧键；在破损区域先涂覆氢溴酸，再在涂覆完氢溴酸的破损区域涂覆修补液，修补液中包含烷氧基硅烷聚合物，烷氧基硅烷聚合物含有硅氧键；采用激光照射破损区域，以使氢溴酸在激光的照射下催化防指纹涂层中的硅氧键断键以及烷氧基硅烷聚合物中的硅氧键断键，并使断键后的防指纹涂层中的硅氧键与断键后的烷氧基硅烷聚合物中的硅氧键结合，以使修补液修补破损区域。以使修补液修补破损区域。以使修补液修补破损区域。

【技术实现步骤摘要】
防指纹涂层的修复方法


[0001]本申请涉及涂层修复
，尤其涉及一种防指纹涂层的修复方法。

技术介绍

[0002]消费电子产品一般采用玻璃作为显示屏，为提升显示屏的性能，通常会在基材上涂覆有防指纹涂层(AF涂层)，以防止人的指纹对显示屏显示效果的影响。但AF涂层若有破损时，在光线下AF涂层的光泽度会出现不一致的情况，从而导致玻璃显示屏的异色现象。

技术实现思路

[0003]鉴于以上情况，本申请提供一种防指纹涂层的修复方法，以解决玻璃显示屏的异色问题。
[0004]一种防指纹涂层的修复方法，包括：提供一待修复基板，待修复基板包括基材以及位于基材表面的防指纹涂层，防指纹涂层背离基材的表面具有破损区域，防指纹涂层含有硅氧键；在破损区域先涂覆氢溴酸，再在涂覆完氢溴酸的破损区域涂覆修补液，修补液中包含烷氧基硅烷聚合物，烷氧基硅烷聚合物含有硅氧键；采用激光照射破损区域，以使氢溴酸在激光的照射下催化防指纹涂层中的硅氧键断键以及烷氧基硅烷聚合物中的硅氧键断键，并使断键后的防指纹涂层中的硅氧键与断键后的烷氧基硅烷聚合物中的硅氧键结合，以使修补液修补破损区域。
[0005]在本申请一些实施方式中，修补液中还包括二氧化钛颗粒，二氧化钛颗粒分散于修补液中。
[0006]在本申请一些实施方式中，二氧化钛颗粒的表面连接有偶联剂。
[0007]在本申请一些实施方式中，在破损区域先涂覆氢溴酸，再在涂覆完氢溴酸的破损区域涂覆修补液的步骤之前，修复方法还包括：采用扫描非接触式平面度仪扫描防指纹涂层，以确定破损区域。
[0008]在本申请一些实施方式中，采用扫描非接触式平面度仪扫描防指纹涂层的步骤还包括：测量破损区域的表面与防指纹涂层未破损的表面的高度差值，根据高度差值，确定氢溴酸的涂覆量和修补液的涂覆量。
[0009]在本申请一些实施方式中，在采用激光照射破损区域的步骤中，激光的功率为0.2kW
‑
0.3kW。
[0010]在本申请一些实施方式中，在采用激光照射破损区域的步骤中，激光照射时的扫描速率为50mm/s
‑
70mm/s。
[0011]在本申请一些实施方式中，在采用激光照射破损区域的步骤中，激光为脉冲激光。
[0012]在本申请一些实施方式中，在采用激光照射破损区域的步骤之后，修复方法还包括静置，以使修补液固化。
[0013]在本申请一些实施方式中，修补液中还包括溶剂以及硅烷偶联剂。
[0014]本申请实施例提供的防指纹涂层的修复方法，通过在破损区域依次涂覆氢溴酸以
及修补液，再采用激光照射破损区域，从而形成与防指纹涂层结合性能好的修补涂层。其中，氢溴酸起到了电子转移媒介的作用，促进防指纹涂层中的硅氧键的断裂，降低硅氧键断键时需要的激光能量；防指纹涂层中的硅氧键断裂后与修补液中的烷氧基硅烷重新键合，从而形成稳定的结构，改善光学异色现象。
附图说明
[0015]图1为本申请实施例提供的防指纹涂层的修复方法的流程图。
[0016]图2为本申请实施例提供的防指纹涂层的修复方法的结构示意图。
[0017]图3为本申请实施例提供的二氧化钛颗粒被偶联剂改性前后的结构示意图。
[0018]主要元件符号说明
[0019]待修复基板10基材12防指纹涂层14破损区域16氢溴酸20修补液25激光30修补涂层40
具体实施方式
[0020]为了能够更清楚地理解本申请的上述目的、特征和优点，下面结合附图和具体实施方式对本申请进行详细描述。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施方式及实施方式中的特征可以相互组合。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本申请，所描述的实施方式仅仅是本申请一部分实施方式，而不是全部的实施方式。
[0021]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的
的技术人员通常理解的含义相同。本文的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本申请。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的所有的和任意的组合。
[0022]请参阅图1以及图2，本申请实施例提供一种防指纹涂层14的修复方法，包括以下步骤：
[0023]步骤S1：提供一待修复基板10，待修复基板10包括基材12以及位于基材12表面的防指纹涂层14，防指纹涂层14背离基材12的表面具有破损区域16，防指纹涂层14含有硅氧键。
[0024]防指纹涂层14通常是一种由包含具有活性硅烷基团与氟改性有机基团防指纹液反应之后在基材12表面形成的含有硅氧键的涂层。防指纹涂层14的厚度可以为10nm
‑
20nm。在一些实施例中，基材12可以为玻璃基材、金属基材、塑料基材以及陶瓷基材中的一种。
[0025]当防指纹涂层14破损后，防指纹涂层14的表面光泽度不一致从而出现异色问题。
[0026]步骤S2：采用扫描非接触式平面度仪扫描防指纹涂层14，以确定破损区域16。
[0027]在一些实施例中，可以通过激光干涉仪发射单一频率的光束对待修复基板10的整
个表面进行扫描，光束射入线性干涉镜后分成两道光束射向反射镜，这两道光束再反射回到分光镜，反射后重新汇聚返回激光干涉仪。若光程差没有变化时，会在相长性和相消性干涉的两极之间找到稳定的信号；若光程差有变化时，这些变化会被计算并用来测量两个光程之间的差异变化。通过激光干涉仪对待修复基板10的平面度进行检测，找出破损区域16，分析破损区域16与表面的差值，以便于后续修补。
[0028]当破损区域16较小且深浅不一时，肉眼难以发现破损区域16，可以采用上述激光扫描的方式寻找破损区域16，从而可以实现全自动化检测以及修补。在其他实施例中，寻找破损区域16的方式并不限于上述方法。
[0029]采用扫描非接触式平面度仪扫描防指纹涂层14的步骤还包括：测量破损区域16的表面与防指纹涂层14未破损的表面的高度差值，根据高度差值，确定氢溴酸20的涂覆量和修补液25的涂覆量。
[0030]步骤S3：在破损区域16先涂覆氢溴酸20，再在涂覆完氢溴酸的破损区域16涂覆修补液25，修补液25中包含烷氧基硅烷聚合物，烷氧基硅烷聚合物含有硅氧键。
[0031]氢溴酸20至少需要覆盖破损区域16。修补液25中的烷氧基硅烷聚合物在一定条件下能够发生聚合反应，从而形成透明的修补涂层40。在本实施例中，修补液25中的烷氧基硅烷聚合物为全氟聚醚烷氧基硅烷。修补液25还包含溶剂，溶剂为氢氟醚。修补液25中还包括硅烷偶联剂，可以起到催化键结作用。
[0032]步骤S4：采用激光30照射破损区域16，以使氢溴酸20在激光的照射下催化防指纹涂层14中的硅氧键断键，并使断键后的防指纹涂层14中的硅氧键与断键后的烷氧基硅烷聚合物中的硅氧键结合，以使修补液修补破损区域16。
[0033]防指纹涂层14中的硅氧键通过共价键结合，在激光处本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种防指纹涂层的修复方法，包括：提供一待修复基板，所述待修复基板包括基材以及位于所述基材表面的防指纹涂层，所述防指纹涂层背离所述基材的表面具有破损区域，所述防指纹涂层含有硅氧键；在所述破损区域先涂覆氢溴酸，再在涂覆完所述氢溴酸的所述破损区域涂覆修补液，所述修补液中包含烷氧基硅烷聚合物，所述烷氧基硅烷聚合物含有硅氧键；以及采用激光照射所述破损区域，以使所述氢溴酸在所述激光的照射下催化所述防指纹涂层中的所述硅氧键断键以及所述烷氧基硅烷聚合物中的所述硅氧键断键，并使断键后的所述防指纹涂层中的所述硅氧键与断键后的所述烷氧基硅烷聚合物中的所述硅氧键结合，以使所述修补液修补所述破损区域。2.根据权利要求1所述的防指纹涂层的修复方法，其中，所述修补液中还包括二氧化钛颗粒，所述二氧化钛颗粒分散于所述修补液中。3.根据权利要求2所述的防指纹涂层的修复方法，其中，所述二氧化钛颗粒的表面连接有偶联剂。4.根据权利要求1所述的防指纹涂层的修复方法，其中，在所述破损区域先涂覆氢溴酸，再在涂覆完所述氢溴酸的所述破损区域涂覆修补液的步骤之前，所述修复方法还包括：采用扫描非接触式平面...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴楚辉，王仲培，曾伟伦，覃仕辉，
申请(专利权)人：富联裕展科技深圳有限公司，
类型：发明
国别省市：