用于真空镀膜设备的阴极组件及其真空镀膜设备制造技术

本发明专利技术涉及离子体增强化学气相沉积设备领域，具体涉及用于真空镀膜设备的阴极组件及其真空镀膜设备，阴极组件具有电极板，电极板绕中心圆周连接有多个铜棒，多个铜棒之间连接有多点馈入铜片，多点馈入铜片连接有铜片，铜片连接有电源适配器。本发明专利技术提供的真空镀膜设备使用上述阴极组件，通过在电极板上面使用多点馈入方式，改变电磁波馈入点，电磁波路径改变，避开电磁波相长干涉，消除驻波效应。消除驻波效应。消除驻波效应。

【技术实现步骤摘要】
用于真空镀膜设备的阴极组件及其真空镀膜设备


[0001]本专利技术涉及离子体增强化学气相沉积设备领域，具体涉及一种用于真空镀膜设备的阴极组件及其真空镀膜设备。

技术介绍

[0002]等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备，以太阳能电池镀膜为例，载板装载硅片在主机工艺腔室内完成镀膜工艺。随着技术的进步，及新工艺的开发，对设备量产产能的需求不断提高，导致工艺腔面积不断增大。对于平板电容耦合(CCP)结构设备，面临一大问题，设备尺寸增加，配套的阴极组件电极板尺寸也同时增加，当阴极组件电极板对角线尺寸接近1/4波长，腔室内会电磁波产生驻波效应，导致电场不均匀，影响镀膜效果。不同频率电源波长，13.56MHz电源，1/4波长5.53米。40MHz电源，1/4波长1.875米。60MHz电源，1/4波长1.25米。80MHz电源，1/4波长0.9375米。80MHz电源，1/4波长0.9375米。80MHz电源，1/4波长0.75米。应用材料ATK10.5G设备，阴极组件电极板尺寸约3.53
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3.1米，对角线长度接近4.7米，已经接本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于真空镀膜设备的阴极组件，其特征在于：包括第一金属导电件(3)，与至少一个电源配电器(5)连接，所述第一金属导电件(3)为呈散射状的金属片，包括均匀分布的多个分片(34)，任一所述分片(34)上至少设有一个连接点，用于与第二金属导电件(2)连接，所述第二金属导电件(2)远离所述分片(34)的一端均连接电极板(1)，以实现多点功率馈入所述电极板(1)。2.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜设备的阴极组件，其特征在于：还包括第三金属导电片(4)和弹性导电件(11)，所述第一金属导电件(3)通过所述第三金属导电件(4)与所述电源配电器(5)连接，所述第二金属导电件(2)通过所述弹性导电件(11)连接于所述电极板(1)。3.根据权利要求2所述的一种用于真空镀膜设备的阴极组件，其特征在于：所述第一金属导电件(3)和所述第三金属导电件(4)为铜片，所述第二金属导电件(2)为铜杆件，所述铜片和所述铜杆件表面涂有防氧化层。4.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜设备的阴极组件，其特征在于：所述第二金属导电件(2)环绕所述第一金属导电件(3)的中心均匀布设，任一所述分片(34)上还设有U型结构(33)。5.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜设备的阴极组件，其特征在于：所述电源配电器(5)设有两个，使用的电源频率为高频电源范围3～3...

【专利技术属性】
技术研发人员：左国军，候岳明，宋广华，朱海剑，
申请(专利权)人：常州捷佳创精密机械有限公司，
类型：发明
国别省市：