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本发明涉及离子体增强化学气相沉积设备领域，具体涉及用于真空镀膜设备的阴极组件及其真空镀膜设备，阴极组件具有电极板，电极板绕中心圆周连接有多个铜棒，多个铜棒之间连接有多点馈入铜片，多点馈入铜片连接有铜片，铜片连接有电源适配器。本发明提供的真空...
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