废气的无害化装置制造方法及图纸

提供可用比以往少的湿式处理装置处理废气的无害化装置。无害化装置具备：前段湿式处理装置(5)；燃烧式处理装置(6)；与成膜装置(1)的工艺腔室(2A～2D)连接的气体导入线路(7A～7D)；与气体导入线路分别连接的第一流路切换装置(8A～8D)；从第一流路切换装置延伸至前段湿式处理装置的第一气体输送线路(9A～9D)；从第一流路切换装置延伸至燃烧式处理装置的第二气体输送线路(10A～10D)；以及动作控制部(15)，其控制第一流路切换装置的动作，向前段湿式处理装置输送工艺气体，并向燃烧式处理装置输送清洁气体。前段湿式处理装置的数量比多个工艺腔室少。个工艺腔室少。个工艺腔室少。

【技术实现步骤摘要】
废气的无害化装置


[0001]本专利技术涉及一种用于对半导体设备制造中所使用的CVD装置等成膜装置排出的工艺气体和清洁气体进行处理的无害化装置。

技术介绍

[0002]在半导体设备的制造中，使用用于在晶片上生成膜的CVD装置。CVD装置将二氯硅烷(DCS)、氨(NH3)等工艺气体导入工艺腔室内，在晶片上形成膜(成膜工序)。在成膜工序之后，向工艺腔室供给氮气等吹扫气体，从工艺腔室排除工艺气体(吹扫工序)。进而，向工艺腔室内供给氟气(F2)、氟化氢气体(HF)等清洁气体来清洁工艺腔室的内部(清洁工序)。
[0003]像这样，在CVD装置中反复进行成膜工序、吹扫工序、清洁工序。由于工艺气体和清洁气体是有害气体，因此，两气体都需要通过无害化装置进行处理。通常，CVD装置为了提高生产性而具备多个工艺腔室。无害化装置与这些多个工艺腔室连接，处理从各个工艺腔室排出的工艺气体和清洁气体。
[0004]图9是表示以往的无害化装置的示意图。如图9所示，无害化装置具备多个湿式处理装置501和燃烧式处理装置502。多个湿式处理装置501分别与多个工艺腔室500连接，燃烧式处理装置502与湿式处理装置501连接。湿式处理装置501具有用水除去工艺气体和清洁气体中含有的水溶性成分，并防止副生成物生成的功能。燃烧式处理装置502具有对工艺气体和清洁气体进行燃烧处理而将这些气体无害化的功能。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1：日本专利第5977419号说明书
[0008]专利技术要解决的技术问题
[0009]成膜工序中所使用的二氯硅烷(DCS)、氨(NH3)等工艺气体是可燃性气体，清洁工序中所使用的氟气(F2)、氟化氢气体(HF)等清洁气体是助燃性气体。如果将工艺气体和清洁气体混合，则存在混合后的气体爆炸的担忧。因此，如图9所示，多个工艺腔室500分别与多个湿式处理装置501连接。根据这样的结构，从各工艺腔室500排出的工艺气体、吹扫气体以及清洁气体被依次输送至对应的湿式处理装置501，因此，不会有工艺气体与清洁气体在湿式处理装置501内混合的情况。
[0010]然而，图9所示的以往的无害化装置需要设置与多个工艺腔室500分别对应的多个湿式处理装置501，因此，存在无害化装置整体的成本上升，而且无害化装置的所占空间量增大的问题。

技术实现思路

[0011]于是，本专利技术提供一种能够用比以往少的湿式处理装置处理废气的无害化装置。
[0012]用于解决技术问题的技术手段
[0013]在一个方式中，提供一种无害化装置，是包含工艺气体和清洁气体的废气的无害
化装置，具备：至少一个前段湿式处理装置；燃烧式处理装置；与成膜装置的多个工艺腔室连接的多个气体导入线路；与所述多个气体导入线路分别连接的多个第一流路切换装置；从所述多个第一流路切换装置延伸至所述前段湿式处理装置的第一气体输送线路；从所述多个第一流路切换装置延伸至所述燃烧式处理装置的第二气体输送线路；以及动作控制部，该动作控制部控制所述多个第一流路切换装置的动作，向所述前段湿式处理装置输送所述工艺气体，并向所述燃烧式处理装置输送所述清洁气体，所述至少一个前段湿式处理装置的数量比所述多个工艺腔室的数量少。
[0014]在一个方式中，所述动作控制部构成为，在从所述成膜装置接收到表示从所述多个工艺腔室中的任意一个排出工艺气体的工艺气体排出信号时，操作对应的第一流路切换装置而使所述多个气体导入线路中的对应的一个气体导入线路与所述第一气体输送线路连通，并切断对应所述的气体导入线路与所述第二气体输送线路的连通，在从所述成膜装置接收到表示从所述多个工艺腔室中的任意一个排出清洁气体的清洁气体排出信号时，操作对应的第一流路切换装置而使所述多个气体导入线路中的对应的一个气体导入线路与所述第二气体输送线路连通，并切断对应的所述气体导入线路与所述第一气体输送线路的连通。
[0015]在一个方式中，所述多个第一流路切换装置是多个三通阀。
[0016]在一个方式中，所述动作控制部构成为，在检测出所述湿式处理装置的封闭时，操作所述多个第一流路切换装置而使所述多个气体导入线路与所述第二气体输送线路连通，并切断所述多个气体导入线路与所述第一气体输送线路的连通。
[0017]在一个方式中，所述无害化装置还具备：安装于所述第二气体输送线路的至少一个第二流路切换装置；以及与所述第二流路切换装置连接的旁通线路，所述动作控制部构成为，操作所述第二流路切换装置。
[0018]在一个方式中，所述动作控制部构成为，在检测出所述燃烧式处理装置的封闭时，操作所述多个第一流路切换装置而使所述多个气体导入线路与所述第二气体输送线路连通，并切断所述多个气体导入线路与所述第一气体输送线路的连通，操作所述多个第二流路切换装置而使所述第二气体输送线路与所述旁通线路连通，并切断所述多个第一流路切换装置与所述燃烧式处理装置的连通。
[0019]在一个方式中，所述无害化装置还具备：设置于所述燃烧式处理装置的下游的后段湿式处理装置；以及与所述后段湿式处理装置连接的排气线路，所述旁通线路与所述排气线路连接。
[0020]在一个方式中，所述前段湿式处理装置是单一的前段湿式处理装置。
[0021]专利技术效果
[0022]动作控制部通过分别操作多个第一流路切换装置，能够向前段湿式处理装置输送工艺气体，另一方面，向燃烧式处理装置输送清洁气体。由于不向前段湿式处理装置输送清洁气体，因此，不会产生清洁气体与工艺气体在前段湿式处理装置内混合的情况。因此，不需要设置与工艺腔室的数量相当数量的湿式处理装置。作为结果，能够降低无害化装置的成本和所占空间量。
附图说明
[0023]图1是表示用于对包含工艺气体和清洁气体的废气进行处理的无害化装置的一个实施方式的示意图。
[0024]图2是说明工艺气体绕过前段湿式处理装置被输送至燃烧式处理装置的运转状态的示意图。
[0025]图3是表示前段湿式处理装置、燃烧式处理装置、后段湿式处理装置的详细结构的一个实施方式的剖视图。
[0026]图4是无害化装置的另一实施方式的示意图。
[0027]图5是说明在燃烧式处理装置发生严重故障发生时工艺气体和清洁气体的流动的图。
[0028]图6是表示无害化装置的又一实施方式的示意图。
[0029]图7是表示无害化装置的又一实施方式的示意图。
[0030]图8是表示无害化装置的又一实施方式的示意图。
[0031]图9是表示以往的无害化装置的示意图。
[0032]符号说明
[0033]1成膜装置
[0034]2A、2B、2C、2D工艺腔室
[0035]5前段湿式处理装置
[0036]6燃烧式处理装置
[0037]7A、7B、7C、7D气体导入线路
[0038]8A、8B、8C、8D第一流路切换装置
[0039]9A、9本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种无害化装置，是包含工艺气体和清洁气体的废气的无害化装置，其特征在于，具备：至少一个前段湿式处理装置；燃烧式处理装置；与成膜装置的多个工艺腔室连接的多个气体导入线路；与所述多个气体导入线路分别连接的多个第一流路切换装置；从所述多个第一流路切换装置延伸至所述前段湿式处理装置的第一气体输送线路；从所述多个第一流路切换装置延伸至所述燃烧式处理装置的第二气体输送线路；以及动作控制部，该动作控制部控制所述多个第一流路切换装置的动作，向所述前段湿式处理装置输送所述工艺气体，并向所述燃烧式处理装置输送所述清洁气体，所述至少一个前段湿式处理装置的数量比所述多个工艺腔室的数量少。2.根据权利要求1所述的无害化装置，其特征在于，所述动作控制部构成为，在从所述成膜装置接收到表示从所述多个工艺腔室中的任意一个排出工艺气体的工艺气体排出信号时，操作对应的第一流路切换装置而使所述多个气体导入线路中的对应的一个气体导入线路与所述第一气体输送线路连通，并切断对应的所述气体导入线路与所述第二气体输送线路的连通，在从所述成膜装置接收到表示从所述多个工艺腔室中的任意一个排出清洁气体的清洁气体排出信号时，操作对应的第一流路切换装置而使所述多个气体导入线路中的对应的一个气体导入线路与所述第二气体输送线路连通，并切断对应的所述气体导入线路与所述第一气体输送线路的连通。3.根据权利要求1或2所述的无害化装置，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：中村谕，宫崎一知，江田健，
申请(专利权)人：株式会社荏原制作所，
类型：发明
国别省市：