印制线路板生产用NaPS微蚀液的分析方法技术

技术编号:3793435 阅读:325 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种印制线路板生产用NaPS微蚀液的分析方法,按如下步骤进行:a.移取1ml微蚀液置于250ml锥形瓶中,加入50ml去离子(DI)水、5ml浓度20%的H2SO4和30ml0.1M的EDTA溶液,再加入3~5g?KI后摇匀,放暗处存放15min;b.用0.1N?Na2S2O3标准溶液滴定至谈黄色时,加入2ml浓度1%的淀粉溶液后呈蓝色,继续用0.1N?Na2S2O3标准溶液滴定至蓝色消失为止,记录0.1N?Na2S2O3标准溶液消耗的体积;c.通过如下公式计算出微蚀液中NaPS的含量:NaPS(g/L)=119×N×V,其中:N为Na2S2O3标准溶液的当量浓度数;V为Na2S2O3标准溶液消耗的体积。本发明专利技术在NaPS与KI反应之前,用EDTA与Cu2+络合,克服了分析时印制线路板生产用NaPS微蚀液中Cu2+的干扰,NaPS与KI反应后产生I2,用Na2S2O3滴定I2,从而测定NaPS含量,分析方法简便,分析结果真实准确。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及溶液分析领域,尤其是一种印制线路板生产用NaPS微蚀液的分析方 法。
技术介绍
在印制线路板(PCB)的生产过程中,许多工序要对印制板图形表面进行微蚀处 理。在NaPS微蚀液的配方中,NaPS的含量高低对微蚀速率影响很大,直接影响产品的加工 质量。因此,必须找到一种分析准确的方法来测定槽液中NaPS的含量。
技术实现思路
本专利技术提供了一种,可有效分析出印 制线路板生产用NaPS微蚀液中NaPS的含量高低。本专利技术为了解决其技术问题所采用的技术方案是一种,按如下步骤进行a.移取1ml微蚀液置于250ml锥形瓶中,加入50ml去离子(DI)水、5ml浓度20% 的H2S04和30ml0. 1M的EDTA溶液(GBZ3-2002职业性慢性锰中毒诊断标准,附录B,B2. 2试 剂中摘录0. 1M的EDTA溶液依地酸钠(EDTA-2Na) 3. 7g溶于蒸馏水100ml),再加入3 5gKI后摇勻,放暗处存放15min ;b.用0. IN Na2S203标准溶液滴定至谈黄色时,加入2ml浓度1 %的淀粉溶液后呈 蓝色,继续用0. IN Na2S203 #准溶液滴定至蓝色消失为止,记录0. IN Na2S203标准溶液消耗 的体积(ml);c.通过如下公式计算出微蚀液中NaPS的含量NaPS (g/L) = 119XNXV,其中:N为Na2S203标准溶液的当量浓度数;V为Na2S203标准溶液消耗的体积(ml)。本专利技术的有益效果是本专利技术在NaPS与KI反应之前,用EDTA与Cu2+络合,从而 克服了分析时印制线路板生产用NaPS微蚀液中Cu2+的干扰,NaPS与KI反应后产生12,用 Na2S203滴定12,从而测定NaPS含量,本专利技术所用分析方法简便,又消除了 Cu2+对分析结果的 影响,使分析结果真实准确。具体实施例方式实施例一种,按如下步骤进行a.移取1ml微蚀液置于250ml锥形瓶中,加入50ml去离子(DI)水、5ml浓度20% 的H2S04和30ml0. 1M的EDTA溶液(GBZ3-2002职业性慢性锰中毒诊断标准,附录B,B2. 2试 剂中摘录0. 1M的EDTA溶液依地酸钠(EDTA-2Na) 3. 7g溶于蒸馏水100ml),再加入3 5g KI后摇勻,放暗处存放15min ;b.用0. IN Na2S2O3标准溶液滴定至谈黄色时,加入2ml浓度1 %的淀粉溶液后呈 蓝色,继续用0. IN Na2S2O3S准溶液滴定至蓝色消失为止,记录0. IN Na2S2O3标准溶液消耗 的体积(ml);c.通过如下公式计算出微蚀液中NaPS的含量NaPS (g/L) = 119 XNX V,其中:N为Na2S2O3标准溶液的当量浓度数(本例为0. 1);V为Na2S2O3标准溶液消耗的体积(ml)。本专利技术的原理分析如下NaPS是氧化剂,它与KI反应产生I2,用Na2S2O3滴定I2,从而测定NaPS含量,上述 方法称为间接碘量法。在PCB生产操作过程中,溶液中会产生Cu2+,而Cu2+也是氧化剂,它 也与KI反应产生Cu2I2和12,从而干扰分析。本专利技术在NaPS与KI反应之前,用EDTA与Cu2+络合,从而克服了分析时Cu2+的干 扰,使间接碘量法测定印制线路板生产用NaPS微蚀液成为现实。本专利技术所用分析方法简便,又消除了 Cu2+对分析结果的影响,使分析结果真实准 确。权利要求一种,其特征在于按如下步骤进行a.移取1ml微蚀液置于250ml锥形瓶中,加入50ml去离子(DI)水、5ml浓度20%的H2SO4和30ml0.1M的EDTA溶液,再加入3~5g KI后摇匀,放暗处存放15min;b.用0.1N Na2S2O3标准溶液滴定至谈黄色时,加入2ml浓度1%的淀粉溶液后呈蓝色,继续用0.1N Na2S2O3标准溶液滴定至蓝色消失为止,记录0.1N Na2S2O3标准溶液消耗的体积;c.通过如下公式计算出微蚀液中NaPS的含量NaPS(g/L)=119×N×V,其中N为Na2S2O3标准溶液的当量浓度数;V为Na2S2O3标准溶液消耗的体积。全文摘要本专利技术公开了一种,按如下步骤进行a.移取1ml微蚀液置于250ml锥形瓶中,加入50ml去离子(DI)水、5ml浓度20%的H2SO4和30ml0.1M的EDTA溶液,再加入3~5g KI后摇匀,放暗处存放15min;b.用0.1N Na2S2O3标准溶液滴定至谈黄色时,加入2ml浓度1%的淀粉溶液后呈蓝色,继续用0.1N Na2S2O3标准溶液滴定至蓝色消失为止,记录0.1N Na2S2O3标准溶液消耗的体积;c.通过如下公式计算出微蚀液中NaPS的含量NaPS(g/L)=119×N×V,其中N为Na2S2O3标准溶液的当量浓度数;V为Na2S2O3标准溶液消耗的体积。本专利技术在NaPS与KI反应之前,用EDTA与Cu2+络合,克服了分析时印制线路板生产用NaPS微蚀液中Cu2+的干扰,NaPS与KI反应后产生I2,用Na2S2O3滴定I2,从而测定NaPS含量,分析方法简便,分析结果真实准确。文档编号G01N31/16GK101865900SQ20091003062公开日2010年10月20日 申请日期2009年4月17日 优先权日2009年4月17日专利技术者杨雪林 申请人:江苏苏杭电子有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种印制线路板生产用NaPS微蚀液的分析方法,其特征在于:按如下步骤进行:a.移取1ml微蚀液置于250ml锥形瓶中,加入50ml去离子(DI)水、5ml浓度20%的H↓[2]SO↓[4]和30ml0.1M的EDTA溶液,再加入3~5gKI后摇匀,放暗处存放15min;b.用0.1NNa↓[2]S↓[2]O↓[3]标准溶液滴定至谈黄色时,加入2ml浓度1%的淀粉溶液后呈蓝色,继续用0.1NNa↓[2]S↓[2]O↓[3]标准溶液滴定至蓝色消失为止,记录0.1NNa↓[2]S↓[2]O↓[3]标准溶液消耗的体积;c.通过如下公式计算出微蚀液中NaPS的含量:NaPS(g/L)=119×N×V,其中:N为Na↓[2]S↓[2]O↓[3]标准溶液的当量浓度数;V为Na↓[2]S↓[2]O↓[3]标准溶液消耗的体积。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:杨雪林
申请(专利权)人:江苏苏杭电子有限公司
类型:发明
国别省市:32[中国|江苏]

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