一种气相沉积真空离子镀膜机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种气相沉积真空离子镀膜机，包括镀膜机主体、箱门、镀膜架和驱动结构，箱门的形状与镀膜机主体形状相同，箱门的一侧与镀膜机主体的对应一侧转动连接，箱门内侧的底部设有支撑杆和限位密封块，箱门内侧的顶部设有固定卡块，固定卡块上设有开口的适配滑槽，支撑杆顶部设有限位滑杆，镀膜架的底部中间固定设有第一齿轮，第一齿轮的轴心处设有适配孔，镀膜架的顶部中间设有旋转卡杆，旋转卡杆的顶部设有适配卡块，旋转卡杆与适配滑槽卡接，适配孔与限位滑杆卡接，限位密封块的顶部设有第二齿轮，第一齿轮和第二齿轮啮合，第二齿轮啮合与驱动结构连接。本实用新型专利技术的气相沉积真空离子镀膜机方便对镀膜机内部清洗。沉积真空离子镀膜机方便对镀膜机内部清洗。沉积真空离子镀膜机方便对镀膜机内部清洗。

【技术实现步骤摘要】
一种气相沉积真空离子镀膜机


[0001]本技术涉及一种气相沉积真空离子镀膜机，属于镀膜机领域。

技术介绍

[0002]真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空电阻加热蒸发，电子枪加热蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积，离子束溅射等很多种，蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构
‑
迷走结构
‑
层状生长）形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜，而镀膜机在长期使用过程中需要定期对镀膜机内部进行清洗，现有的设备在进行清洗时对内部镀膜架拆卸较为麻烦，清洗较为麻烦。

技术实现思路

[0003]本技术要解决的技术问题是提供一种方便对镀膜机内部清洗进行调整的气相沉积真空离子镀膜机。
[0004]本技术为解决上述技术问题提出的一种技术方案是：一种气相沉积真空离子镀膜机，包括镀膜机主体、箱门、镀膜架和驱动结构，所述镀膜机主体的一侧开口，所述箱门的形状与镀膜机主体形状相同，所述箱门的一侧开口，所述箱门的开口一侧与所述镀膜机主体的开口一侧相对设置，所述箱门的一侧与所述镀膜机主体的对应一侧转动连接，所述箱门内侧的底部设有支撑杆和限位密封块，所述箱门内侧的顶部设有固定卡块，所述固定卡块上设有开口的适配滑槽，所述支撑杆顶部设有限位滑杆，所述镀膜架的底部中间固定设有第一齿轮，所述第一齿轮的轴心处设有适配孔，所述镀膜架的顶部中间设有旋转卡杆，所述旋转卡杆的顶部设有适配卡块，所述旋转卡杆与适配滑槽卡接，所述适配孔与限位滑杆卡接，所述限位密封块的顶部设有第二齿轮，所述第一齿轮和所述第二齿轮啮合，所述第二齿轮的中部设有适配杆，所述适配杆从限位密封块中部穿过且延伸至箱门外，所述驱动结构与所述适配杆延伸至箱门外的一端连接。
[0005]所述箱门的一侧与所述镀膜机主体的对应一侧的转动连接处设有连接转杆，所述镀膜机主体远离连接转杆的一侧设有固定块，所述箱门远离连接转杆的一侧设有锁紧块，所述固定块的中部设有旋转块，所述旋转块与固定块转动连接，所述旋转块上设有螺纹杆。
[0006]所述螺纹杆的一端与旋转块固定连接，所述螺纹杆的另一端设有锁紧螺套，所述锁紧块上开设有锁紧凹槽，所述螺纹杆可通过旋转块转动使螺纹杆远离旋转块的一端与锁紧凹槽卡接，所述锁紧螺套与锁紧块远离旋转块一端相抵。
[0007]所述固定卡块在侧视方向为L形状设置。
[0008]所述镀膜架的高度小于所述支撑杆与固定卡块之间的距离。
[0009]本技术的气相沉积真空离子镀膜机还包括固定底板、所述固定底板的顶部设
有支撑块，所述支撑块的顶部固定连接镀膜机主体底部。
[0010]所述箱门的外表面上设有把手和观察窗。
[0011]本技术具有积极的效果：
[0012]本技术的气相沉积真空离子镀膜机在实际使用中，通过设置的锁紧螺套、固定块、旋转块和螺纹杆的对应设置状态下能够方便镀膜机主体与箱门进行连接锁紧，同时通过设置的第一齿轮、支撑杆、限位滑杆、适配孔、旋转卡杆、适配卡块、固定卡块和适配滑槽的对应设置状态下能够方便镀膜架进行安装和固定，同时能够方便将其进行拆卸，从而方便对镀膜机主体和箱门的内侧进行清洗。
附图说明
[0013]下面结合附图对本技术的气相沉积真空离子镀膜机作进一步说明。
[0014]图1为本实施例的整体结构示意图。
[0015]图2为本实施例的整体侧视结构示意图
[0016]图3为本实施例的箱门内部结构示意图。
[0017]图4为本实施例的镀膜架安装结构示意图。
[0018]上述附图标记如下：
[0019]固定底板1，支撑块2，镀膜机主体3，箱门4，把手5，观察窗6，锁紧螺套7，固定块8，旋转块9，螺纹杆10，驱动结构11，连接转杆12，镀膜架13，旋转卡杆14，适配卡块15，固定卡块16，第二齿轮17，第一齿轮18，支撑杆19，限位滑杆20，限位密封块21，适配滑槽22，适配孔23。
具体实施方式
[0020]实施例
[0021]见图1至图4，本实施例的气相沉积真空离子镀膜机，一种气相沉积真空离子镀膜机，包括镀膜机主体3、箱门4、镀膜架13和驱动结构11，镀膜机主体3的一侧开口，箱门4的形状与镀膜机主体3形状相同，箱门4的一侧开口，箱门4的开口一侧与镀膜机主体3的开口一侧相对设置，箱门4的一侧与镀膜机主体3的对应一侧转动连接，箱门4的外表面上设有把手5和观察窗6。
[0022]箱门4内侧的底部设有支撑杆19和限位密封块21，箱门4内侧的顶部设有固定卡块16，固定卡块16上设有开口的适配滑槽22，固定卡块16在侧视方向为L形状设置。
[0023]支撑杆19顶部设有限位滑杆20，镀膜架13的底部中间固定设有第一齿轮18，第一齿轮18的轴心处设有适配孔23，镀膜架13的顶部中间设有旋转卡杆14，旋转卡杆14的顶部设有适配卡块15。
[0024]镀膜架13的高度小于支撑杆19与固定卡块16之间的距离，旋转卡杆14与适配滑槽22卡接，适配孔23与限位滑杆20卡接，能够方便镀膜架13进行拆卸，从而方便后期对镀膜机主体3和箱门4内部进行清洗。
[0025]限位密封块21的顶部设有第二齿轮17，第一齿轮18和第二齿轮17啮合，第二齿轮17的中部设有适配杆，适配杆从限位密封块21中部穿过且延伸至箱门4外，驱动结构11与适配杆延伸至箱门4外的一端连接。
[0026]箱门4的一侧与镀膜机主体3的对应一侧的转动连接处设有连接转杆12，镀膜机主体3远离连接转杆12的一侧设有固定块8，箱门4远离连接转杆12的一侧设有锁紧块24，固定块8的中部设有旋转块9，旋转块9与固定块8转动连接，旋转块9上设有螺纹杆10。
[0027]螺纹杆10的一端与旋转块9固定连接，螺纹杆10的另一端设有锁紧螺套7，锁紧块24上开设有锁紧凹槽，螺纹杆10可通过旋转块9转动使螺纹杆10远离旋转块9的一端与锁紧凹槽卡接，锁紧螺套7与锁紧块24远离旋转块9一端相抵。
[0028]本实施例的气相沉积真空离子镀膜机还包括固定底板1、固定底板1的顶部设有支撑块2，支撑块2的顶部固定连接镀膜机主体3底部。
[0029]本实施例的气相沉积真空离子镀膜机，在使用时，将镀膜架13下端的适配孔23与限位滑杆20对齐，随后将旋转卡杆14卡在适配滑槽22的内部，随后将适配孔23与限位滑杆20卡接在一起，设置的适配卡块15会贴合在适配滑槽22上端的凹槽内部，随后即可将需要镀膜的物品放置在镀膜架13的上端，随后即可将箱门4关闭，通过设置的锁紧螺套7、固定块8、旋转块9和螺纹杆10的对应设置状态下将箱门4与镀膜机主体1进行锁紧，随后通过外部设备控制驱动结构11带动第二本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种气相沉积真空离子镀膜机，其特征在于：包括镀膜机主体（3）、箱门（4）、镀膜架（13）和驱动结构（11），所述镀膜机主体（3）的一侧开口，所述箱门（4）的形状与镀膜机主体（3）形状相同，所述箱门（4）的一侧开口，所述箱门（4）的开口一侧与所述镀膜机主体（3）的开口一侧相对设置，所述箱门（4）的一侧与所述镀膜机主体（3）的对应一侧转动连接，所述箱门（4）内侧的底部设有支撑杆（19）和限位密封块（21），所述箱门（4）内侧的顶部设有固定卡块（16），所述固定卡块（16）上设有开口的适配滑槽（22），所述支撑杆（19）顶部设有限位滑杆（20），所述镀膜架（13）的底部中间固定设有第一齿轮（18），所述第一齿轮（18）的轴心处设有适配孔（23），所述镀膜架（13）的顶部中间设有旋转卡杆（14），所述旋转卡杆（14）的顶部设有适配卡块（15），所述旋转卡杆（14）与适配滑槽（22）卡接，所述适配孔（23）与限位滑杆（20）卡接，所述限位密封块（21）的顶部设有第二齿轮（17），所述第一齿轮（18）和所述第二齿轮（17）啮合，所述第二齿轮（17）的中部设有适配杆，所述适配杆从限位密封块（21）中部穿过且延伸至箱门（4）外，所述驱动结构（11）与所述适配杆延伸至箱门（4）外的一端连接。2.根据权利要求1所述的一种气相沉积真空离子镀膜机，其特征在于：所述箱门（4）的一侧与所述镀膜机主体（3）的对应一...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘畅，杨兵，徐勇斌，王俊见，
申请(专利权)人：常州市迈瑞廷涂层科技有限公司，
类型：新型
国别省市：