一种用于PVD真空镀膜机的离化源制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于PVD真空镀膜机的离化源，包括引弧组件、安装座、靶材，靶材设于安装座的一侧，引弧组件穿过安装座，安装座的另一侧设有强力磁铁组件，强力磁铁组件包括外强力磁铁组件和内强力磁铁组件，外强力磁铁组件包括磁钢挡板和若干第一强力磁铁，内强力磁铁组件包括内外螺纹套和设于内外螺纹套内的第二强力磁铁，内强力磁铁组件设在外强力磁铁组件中部，第一强力磁铁的磁极和第二强力磁铁的磁极相对于安装座相反设置，引弧组件触发靶材产生大量金属蒸汽，金属蒸汽在强力磁铁组件的作用下集中。本实用新型专利技术提供的离化源，能够在引弧针触发靶材的瞬间，产生大量的金属蒸汽，并在强力磁铁组件的作用下集中，镀膜更均匀。匀。匀。

【技术实现步骤摘要】
一种用于PVD真空镀膜机的离化源


[0001]本技术涉及离化源，尤其涉及一种用于PVD真空镀膜机的离化源。

技术介绍

[0002]真空阴极电弧离子镀(Vacuum Cathode Arc Ion Plating)简称真空电弧沉积(Vacuum Arc Deposition，VAD)，国内亦称多弧离子镀技术，是利用真空腔室内阴极靶材与阳极间的弧光放电，使靶材蒸发并离化，形成空间等离子体，从而将镀膜材料沉积在工件表面的过程。我们通常所说的PVD镀膜，指的是真空磁控溅射镀膜，通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空磁控溅射镀膜机。
[0003]磁控溅射法是利用平行于靶材表面的磁场控制下的电场或电磁场产生辉光放电，以磁场束缚和延长电子的运动路径，改变电子的运动方向，在引弧针和靶材的作用下，金属材料蒸发形成蒸汽，电离出大量离子，在磁场和电场的交互作用下，使金属离子沉积到基片或真空室内壁或靶源阳极上，但是存在金属离子沉积时不集中，导致镀膜不均匀，影响产品质量。

技术实现思路

[0004]鉴于目前离化源存在的上述不足，本技术提供一种用于PV本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于PVD真空镀膜机的离化源，包括引弧组件(5)、安装座(1)、靶材(2)，所述靶材(2)设于安装座(1)的一侧，所述引弧组件(5)穿过所述安装座(1)，其特征在于，所述安装座(1)的另一侧设有强力磁铁组件，所述强力磁铁组件包括外强力磁铁组件(3)和内强力磁铁组件(4)，所述外强力磁铁组件(3)包括磁钢挡板(31)和若干第一强力磁铁(33)，所述内强力磁铁组件(4)包括内外螺纹套(41)和设于内外螺纹套(41)内的第二强力磁铁(43)，所述内强力磁铁组件(4)设在所述外强力磁铁组件(3)中部，所述第一强力磁铁(33)的磁极和所述第二强力磁铁(43)的磁极相对于安装座(1)相反设置，所述引弧组件(5)触发所述靶材(2)产生大量金属蒸汽，金属蒸汽在强力磁铁组件的作用下集中。2.根据权利要求1所述的一种用于PVD真空镀膜机的离化源，其特征在于，所述外强力磁铁组件(3)还包括设在所述磁钢挡板(31)内的若干磁钢座(32)，所述第一强力磁铁(33)设于磁钢座(32)之间。3.根据权利要求1所述的一种用于PVD真空镀膜机的离化源，其特征在于，所述内强力磁铁组件(4)还包括设在所述内外螺纹套(41)内的中心磁钢座(42)，所述第二强力磁铁(43)设于所述中心磁钢座(42)内。4.根据权利要求1所述的一种用于PVD真空镀膜机的离化源，其特征在于，所述引弧组件(5)包括线圈单元和引弧单元，所述线圈单元包括线圈套筒(51)、设在线圈套筒(51)内的线圈骨架(52)以及套设在线圈套筒(51)上的线圈套筒盖(53)，...

【专利技术属性】
技术研发人员：王军，陈辉，刘静怡，高英，
申请(专利权)人：上海百雅信息科技发展有限公司，
类型：新型
国别省市：