气管固定工具制造技术

本申请提供一种气管固定工具，通过支撑部件中的成对设置的、位于同一水平面的第一支撑部及第二支撑部，以分别承载气管的相对两端，使得气管的底端与底部件之间具有间距，从而气管固定工具可便捷的承载气管，使气管的相对两端保持水平，以在后续对气管进行清洁的过程中，保障气管内部均匀浸泡，便于清理，提高气管维护的成功率，且可降低气管维护过程中清洁液的外溢概率，避免人为手持操作，降低气管变形的风险，且可增加气管使用寿命，减少人力，降低成本。成本。成本。

【技术实现步骤摘要】
气管固定工具


[0001]本申请属于半导体设备领域，涉及一种气管固定工具。

技术介绍

[0002]刻蚀，是半导体制造工艺中的一种相当重要的步骤，是与光刻相联系的图形化(pattern)处理的一种主要工艺。所谓刻蚀，实际上狭义理解就是光刻腐蚀，先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理，然后通过腐蚀处理掉所需除去的部分。
[0003]刻蚀工艺包括干法刻蚀和湿法刻蚀，其中，湿法刻蚀的优点是：选择性好、重复性好、生产效率高、设备简单、成本低，缺点是：钻刻严重、对图形的控制性较差、不能用于小的特征尺寸、会产生大量的化学废液；干法刻蚀的优点是：各向异性好、选择比高、可控性灵活性及重复性好、适用于较小的特征尺寸，缺点是：成本高、设备复杂。
[0004]干法刻蚀是用等离子体进行薄膜刻蚀的技术，当气体以等离子体形式存在时，它具备两个特点：一方面等离子体中的这些气体化学活性比常态下时要强很多，根据被刻蚀材料的不同，选择合适的气体，就可以更快地与材料进行反应，实现刻蚀去除的目的；另一方面，还可以利用电场对等离子体进行引导和加速，使其具备一定能量，当其轰击被刻蚀物的表面时，会将被刻蚀物材料的原子击出，从而达到利用物理上的能量转移来实现刻蚀的目的。因此，干法刻蚀是晶圆片表面物理和化学两种过程平衡的结果。
[0005]半导体刻蚀设备中通常具有用以输送刻蚀气体的气管，但根据设备的设置需求，该气管通常不具有规则形貌，气管两端往往具有高度差，然而工程师在对设备进行日常维护过程中，通常需使用清洁液对气管管道内部进行浸泡清洁，该操作过程一个方面需人为手持气管10分钟左右，以通过往气管中注入清洁液进行浸泡清洁，造成人力的浪费，且易将清洁液溢出，无法保证气管内部均匀浸泡，造成后续无法吹扫干净，使得生产过程中影响产品制程，另一方面由于手持受力不均，易造成气管形变，缩短气管使用寿命，增加费用。
[0006]因此，提供一种气管固定工具，实属必要。

技术实现思路

[0007]鉴于以上所述现有技术的缺点，本申请的目的在于提供一种气管固定工具，用于解决现有技术中在对气管进行清洁的过程中所遇到的上述一系列清洁问题。
[0008]为实现上述目的及其他相关目的，本申请提供一种气管固定工具，所述气管固定工具包括：
[0009]底部件；
[0010]支撑部件，所述支撑部件与所述底部件固定连接，所述支撑部件具有成对设置的第一支撑部及第二支撑部，所述第一支撑部与所述第二支撑部件间隔设置，且所述第一支撑部与所述第二支撑部位于同一水平面，通过所述第一支撑部及所述第二支撑部分别承载气管的相对两端，且位于支撑部上的所述气管延申至由所述底部件与所述支撑部件形成的腔体内，且所述气管的底端与所述底部件之间具有间距。
[0011]可选地，所述气管固定工具一体成型制成。
[0012]可选地，所述第一支撑部及所述第二支撑部朝内一侧设置有与所述气管对应设置的凹槽。
[0013]可选地，所述凹槽内壁设有硅胶垫。
[0014]可选地，成对设置的所述第一支撑部及第二支撑部的对数包括1对～5对。
[0015]可选地，位于所述支撑部上的所述气管的底端与所述底部件之间的间距的范围为50mm以上。
[0016]可选地，所述气管固定工具由氟龙气制成。
[0017]可选地，所述支撑部与所述支撑部件为活动连接。
[0018]可选地，所述支撑部为调节式支撑部，且调节方式包括水平位移调节、高度调节及旋转角度调节中的一种或组合。
[0019]可选地，所述气管固定工具还包括与所述支撑部相连接的水平仪。
[0020]如上所述，本申请的气管固定工具，通过支撑部件中的成对设置的、位于同一水平面的第一支撑部及第二支撑部，以分别承载气管的相对两端，使得气管的底端与底部件之间具有间距，从而气管固定工具可便捷的承载气管，使气管的相对两端保持水平，以在后续对气管进行清洁的过程中，保障气管内部均匀浸泡，便于清理，提高气管维护的成功率，且可降低气管维护过程中清洁液的外溢概率，避免人为手持操作，降低气管变形的风险，且可增加气管使用寿命，减少人力，降低成本。
附图说明
[0021]图1显示为本申请实施例中气管的主视图。
[0022]图2显示为本申请实施例中气管的俯视图。
[0023]图3显示为本申请实施例中气管固定工具的俯视图。
[0024]图4显示为本申请实施例中气管固定工具承载气管后的状态示意图。
[0025]元件标号说明
[0026]100气管
[0027]101气管管道
[0028]102气管固定部
[0029]200气管固定工具
[0030]201底部件
[0031]202支撑部件
[0032]203支撑部
[0033]A、B间距
具体实施方式
[0034]以下通过特定的具体实例说明本申请的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本申请的其他优点与功效。本申请还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本申请的精神下进行各种修饰或改变。
[0035]请参阅图1
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图4。需要说明的是，本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本申请的基本构想，遂图式中仅显示与本申请中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。
[0036]本实施例提供一种气管固定工具，所述气管固定工具包括底部件及支撑部件，所述支撑部件与所述底部件固定连接，所述支撑部件具有成对设置的第一支撑部及第二支撑部，所述第一支撑部与所述第二支撑部件间隔设置，且所述第一支撑部与所述第二支撑部位于同一水平面，通过所述第一支撑部及所述第二支撑部分别承载气管的相对两端，且位于支撑部上的所述气管延申至由所述底部件与所述支撑部件形成的腔体内，且所述气管的底端与所述底部件之间具有间距。
[0037]本实施例通过所述支撑部件中的成对设置的、位于同一水平面的所述第一支撑部及所述第二支撑部，以分别承载所述气管的相对两端，使得所述气管的底端与底部件之间具有间距，从而所述气管固定工具可便捷的承载所述气管，使所述气管的相对两端保持水平，以在后续对所述气管进行清洁的过程中，保障所述气管内部均匀浸泡，便于清理，提高所述气管维护的成功率，且可降低所述气管维护过程中清洁液的外溢概率，避免人为手持操作，降低所述气管变形的风险，且可增加所述气管使用寿命，减少人力，降低成本。
[0038]本实施中，如图1
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图4，提供一种一体成型的气管固定工具200，以便于应用，但并非局限于此，所述气管固定工具200也可采用各部件可拆卸式的气管固定工具，以提高操作便捷性，此处不作过分限制。
[0039]具体的，参阅图3及图4，本实施例中，所述气管固定工具包括底本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种气管固定工具(200)，其特征在于，所述气管固定工具(200)包括：底部件(201)；支撑部件(202)，所述支撑部件(202)与所述底部件(201)固定连接，所述支撑部件(202)具有成对设置的第一支撑部及第二支撑部，所述第一支撑部与所述第二支撑部件间隔设置，且所述第一支撑部与所述第二支撑部位于同一水平面，通过所述第一支撑部及所述第二支撑部分别承载气管(100)的相对两端，且位于支撑部(203)上的所述气管(100)延申至由所述底部件(201)与所述支撑部件(202)形成的腔体内，且所述气管(100)的底端与所述底部件(201)之间具有间距。2.根据权利要求1所述的气管固定工具(200)，其特征在于：所述气管固定工具(200)一体成型制成。3.根据权利要求1所述的气管固定工具(200)，其特征在于：所述第一支撑部及所述第二支撑部朝内一侧设置有与所述气管(100)对应设置的凹槽。4.根据权利要求3所述的气管固定工具(200)...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴胜发，
申请(专利权)人：杭州富芯半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：