一种沉铜漂洗槽制造技术

本实用新型专利技术公开了一种沉铜漂洗槽，包括壳体，壳体上安装有漂洗结构，其特征在于，漂洗结构包括漂洗槽，漂洗槽设置于壳体内部，在壳体的上方通过电动推杆安装有限位架，限位架为开口向左的匡形架，在限位架的左侧安装有连接板，在连接板的顶面通过第一驱动件安装有转盘，第一驱动件带动转盘转动，滑动板滑动连接在限位架内，连接杆一端与转盘偏心连接，另一端与滑动板连接，转动板转动安装在滑动板下方，且通过安装于滑动板上的第二驱动件带动转动，若干用于夹取电路板的固定组件安装于转动板上，在壳体上安装有水箱，在漂洗槽的侧壁竖向安装有喷淋管，喷淋管上分布有若干喷头，喷淋管与水箱内的泵机相连。清洗效果好。淋管与水箱内的泵机相连。清洗效果好。淋管与水箱内的泵机相连。清洗效果好。

【技术实现步骤摘要】
一种沉铜漂洗槽


[0001]本技术涉及沉铜
，具体为一种沉铜漂洗槽。

技术介绍

[0002]沉铜是化学镀铜的简称,简写为PTH,是指在已钻孔的不导电的孔壁基材上,用化学的方法沉积上一层薄薄的化学铜,以作为后面电镀铜的基底，在电路板进行沉铜操作前，需要对电路板进行漂洗操作，进而去除板面油污、指印、氧化物、孔内粉尘等物质。
[0003]目前，漂洗结构包括漂洗槽，使用时，将电路板夹取后，放入漂洗槽中漂洗，这样漂洗效果较差。需要多次漂洗。

技术实现思路

[0004]为了解决上述技术问题，本技术提供了一种沉铜漂洗槽，提高一次清洗效果，从而提高清洗效率。
[0005]本技术通过以下技术方案予以实现：一种沉铜漂洗槽，包括壳体，所述壳体上安装有漂洗结构，其特征在于，所述漂洗结构包括漂洗槽，所述漂洗槽设置于壳体内部，在壳体的上方通过电动推杆安装有限位架，所述限位架为开口向左的匡形架，在限位架的左侧安装有连接板，在连接板的顶面通过第一驱动件安装有转盘，第一驱动件带动转盘转动，滑动板滑动连接在限位架内，连接杆一端与转盘偏心连接，另一本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种沉铜漂洗槽，包括壳体，所述壳体上安装有漂洗结构，其特征在于，所述漂洗结构包括漂洗槽，所述漂洗槽设置于壳体内部，在壳体的上方通过电动推杆安装有限位架，所述限位架为开口向左的匡形架，在限位架的左侧安装有连接板，在连接板的顶面通过第一驱动件安装有转盘，第一驱动件带动转盘转动，滑动板滑动连接在限位架内，连接杆一端与转盘偏心连接，另一端与滑动板连接，转动板转动安装在滑动板下方，且通过安装于滑动板上的第二驱动件带动转动，若干用于夹取电路板的固定组件安装于转动板上，在壳体上安装有水箱，在漂洗槽的...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭红樟，杨海燕，唐雷，陈明德，熊紫竹，张洪平，郭燕，何小兰，
申请(专利权)人：四川易莱腾电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：