一种具有预热机构的真空镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种具有预热机构的真空镀膜设备，包括真空室本体，所述真空室本体前端上部开有槽口，所述真空室本体前端左部通过合页活动连接有盖板，所述真空室本体右端固定连接有控制面板，所述真空室本体下端四角均固定连接有支撑腿，所述槽口上槽壁固定连接有加热源，所述槽口下槽壁左部穿插活动连接有预热装置，所述槽口内设置有托架机构，所述托架机构位置与加热源位置相对应，所述托架机构位于加热源下部，通过在托架机构上设置四个插杆，由于四个插杆均与真空室本体穿插活动连接在一起，从而可以使插杆可以进行拔插。本实用新型专利技术所述的一种具有预热机构的真空镀膜设备，镀膜效率高，加热效果好，稳定性高，适合真空镀膜的使用。膜的使用。膜的使用。

【技术实现步骤摘要】
一种具有预热机构的真空镀膜设备


[0001]本技术涉及真空镀膜设备
，特别涉及一种具有预热机构的
[0002]真空镀膜设备。

技术介绍

[0003]真空镀膜设备，主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括
[0004]很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE 分子束外延，PLD 激光溅射沉
[0005]积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种，在现有的真空镀膜设备使用
[0006]过程中至少有以下弊端：1、现有的真空镀膜设备大多都是将被镀件放入真空
[0007]室内再进行加热镀膜，由于缺少预热，会使被镀件的温度会缓慢升高，从而
[0008]影响镀膜效率；2、现有的真空镀膜设备内会设置托架来将被镀件进行摆放，
[0009]但是托架往往是固定设置，导致被镀件的拿取较为不便，影响操作，故此，
[0010]我们推出一种具有预热机构的真空镀膜设备。

技术实现思路

[0011]本技术的主要目的在于提供一种具有预热机构的真空镀膜设备，可
>[0012]以有效本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有预热机构的真空镀膜设备，包括真空室本体（1），其特征在于：所述真空室本体（1）前端上部开有槽口（7），所述真空室本体（1）前端左部通过合页活动连接有盖板（6），所述真空室本体（1）右端固定连接有控制面板（3），所述真空室本体（1）下端四角均固定连接有支撑腿（4），所述槽口（7）上槽壁固定连接有加热源（8），所述槽口（7）下槽壁左部穿插活动连接有预热装置（5），所述槽口（7）内设置有托架机构（2），所述托架机构（2）位置与加热源（8）位置相对应，所述托架机构（2）位于加热源（8）下部。2.根据权利要求1 所述的一种具有预热机构的真空镀膜设备，其特征在于：所述托架机构（2）包括圆板（21），所述圆板（21）上端穿插活动连接有四个插杆（22），四个所述插杆（22）外表面均外凸，四个所述插杆（22）上端均固定连接有限位板（23），四个所述限位板（23）上端均固定连接有圆杆（24），四个所述圆杆（24）外表面均固定连接有若干个横杆（2...

【专利技术属性】
技术研发人员：李贤兵，
申请(专利权)人：成都友臻科技有限公司，
类型：新型
国别省市：