【技术实现步骤摘要】
本技术涉及真空镀膜，具体涉及一种具有冷却机构的环形坩埚。
技术介绍
1、真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术，在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上，真空镀膜的功能是多方面的，这也决定了其应用场合非常丰富，总体来说，真空镀膜的主要功能包括改变被镀件表面物理特性，在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能，或提供所需的光学性能。
2、坩埚是真空镀膜技术中必不可少的，它主要用于盛放镀膜材料，通过对镀膜材料高温蒸发达到镀膜的目的，对于不同的镀膜材料加热的温度不同，镀膜过程中需要对坩埚进行降温。而普通坩埚的水冷方式无法保证冷却效果均匀，容易出现空穴现象，最终会影响蒸镀过程进而破坏产品性能。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种具有冷却机构的环形坩埚，解决普通坩埚容易出现空穴现象的问题。
2、为解决上述的技术问题，本技术采用以下技术方案：
3、一种具有冷却机构的环形坩埚，包括环形的底座和环形坩埚本体，在所述底座的顶部设有环形的放置槽，所述环...
【技术保护点】
1.一种具有冷却机构的环形坩埚，其特征在于：包括环形的底座（1）和环形坩埚本体（2），在所述底座（1）的顶部设有环形的放置槽（3），所述环形坩埚本体（2）的底部与放置槽（3）配合，在底座（1）的内环中设有固定块（4），所述固定块（4）通过连接臂（5）与底座（1）的内壁固定连接，在所述连接臂（5）上安装有液压缸（6），所述液压缸（6）的活塞杆与环形坩埚本体（2）的内壁接触，在放置槽（3）中安装有环绕多圈的冷却管（8），所述冷却管（8）与环形坩埚本体（2）的底面接触，冷却管（8）的两端分别连通有进水管（9）与出水管（10）。
2.根据权利要求1所述的一种具有冷...
【技术特征摘要】
1.一种具有冷却机构的环形坩埚，其特征在于：包括环形的底座（1）和环形坩埚本体（2），在所述底座（1）的顶部设有环形的放置槽（3），所述环形坩埚本体（2）的底部与放置槽（3）配合，在底座（1）的内环中设有固定块（4），所述固定块（4）通过连接臂（5）与底座（1）的内壁固定连接，在所述连接臂（5）上安装有液压缸（6），所述液压缸（6）的活塞杆与环形坩埚本体（2）的内壁接触，在放置槽（3）中安装有环绕多圈的冷却管（8），所述冷却管（8）与环形坩埚本体（2）的底面接触，冷却管（8）的两端分别连通有进水管（9）与出水管（10）。
2.根据权利要求1所述的一种具有冷却机构的环形坩埚，其特征在于：在所述放置槽（3）内设有配合块（11），所述配合块（11）的两侧与放置槽（3）的槽壁接触，配合块（...
【专利技术属性】
技术研发人员：李贤兵，周荣，
申请(专利权)人：成都友臻科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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