一种薄膜镀层均匀性的评价方法、改善方法和评价系统技术方案

本发明专利技术提供了一种薄膜镀层均匀性的评价方法、改善方法和评价系统，通过在薄膜(1)镀膜的整个过程获取镀膜单元中挡板(2)表面不同位置的涂层(3)厚度或质量，对薄膜镀层均匀性进行评价。所述挡板(2)表面较厚的涂层(3)对应的薄膜(1)的镀层较薄，所述挡板(2)表面较薄的涂层(3)对应的薄膜(1)的镀层较厚；或者所述挡板(2)表面质量较小的涂层(3)，对应的薄膜(1)的镀层较厚，所述挡板(2)表面质量较大的涂层(3)，对应的薄膜(1)的镀层较薄。本发明专利技术提升了对薄膜(1)表面非常薄的镀层测量的精准性，最终实现沿着TD方向上的各镀膜单元的薄膜都能够进行均匀的镀层。够进行均匀的镀层。够进行均匀的镀层。

【技术实现步骤摘要】
一种薄膜镀层均匀性的评价方法、改善方法和评价系统


[0001]本专利技术涉及真空热蒸发镀膜领域，具体涉及真空热蒸发镀膜系统的膜层沉积均匀性的测试评价方法，尤其是一种薄膜镀层均匀性的评价方法、改善方法和评价系统。

技术介绍

[0002]目前，针对数万米卷长及更长超长卷柔性基材的表面镀膜改性处理常见的镀膜方式有真空磁控溅射镀膜、真空热蒸发镀膜，尤其真空热蒸发镀膜已经较为成熟应用于包装复合膜层的批量化生产领域，其具有高效规模化的生产优势。相对而言包装膜的薄膜沉积相对较薄，且对于镀层的均匀性要求相对降低，该方式的生产较为容易达到质量要求。然后，近年针对锂离子电池领域的复合集流体的应用再次将高效真空热蒸发镀膜推向新的应用。通常情况下该方式的实现形式有两种，即蒸发舟方式、耐高温容器蒸发方式，前者是采用持续送丝的形式进行，即送丝实现持续的蒸发料的供给，而后者是提前将待蒸发料置于耐高温容器中，随着温度的升高达到蒸发的效果，当蒸发效率达到一定的目标后，则待镀膜的薄膜开始以一定的速度进行传动，待耐高温容器内部的蒸发料不足以支撑后续镀层的均匀沉积的时候则停止镀膜。<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种薄膜镀层均匀性的评价方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：S1、基于薄膜(1)镀膜的整个过程获取镀膜单元中挡板(2)表面不同位置的涂层(3)厚度或质量，镀膜单元的蒸发源包括若干容纳有蒸发料的耐高温容器，所述挡板(2)位于蒸发源与薄膜(1)之间，用于在非正式镀膜时，阻挡蒸发料；S2、根据所述挡板(2)表面不同位置的涂层(3)厚度或质量对薄膜镀层均匀性进行评价，所述薄膜镀层为某一个所述蒸发源的蒸发料在薄膜(1)上的镀层，所述挡板(2)表面较厚的涂层(3)对应的薄膜(1)的镀层较薄，所述挡板(2)表面较薄的涂层(3)对应的薄膜(1)的镀层较厚；或者所述挡板(2)表面质量较小的涂层(3)，对应的薄膜(1)的镀层较厚，所述挡板(2)表面质量较大的涂层(3)，对应的薄膜(1)的镀层较薄。2.根据权利要求1所述的一种薄膜镀层均匀性的评价方法，其特征在于，通过获取挡板(2)下表面的三维扫描图像获取挡板(2)表面不同位置的涂层(3)厚度或质量。3.根据权利要求1所述的一种薄膜镀层均匀性的评价方法，其特征在于，建立以所述镀膜单元中的挡板(2)表面为基准面，以蒸发源位置为横坐标和纵坐标起点的三维坐标体系。4.根据权利要求3所述的一种薄膜镀层均匀性的评价方法，其特征在于，通过所述三维坐标体系将镀膜单元中挡板(2)表面不同位置的涂层(3)厚度或质量与所述若干耐高温容器(4)坐标位置一一对应关联，获取各耐高温容器(4)的蒸发效率。5.根据权利要求2所述的一种薄膜镀层均匀性的评价方法，其特征在于，所述三维扫描图像以挡板(2)的长度方向为X轴，以挡板(2)宽度方向为Y轴，以涂层(3)的高度方向为Z轴，以X轴和Y轴对应的第一个耐高温容器(4)的中心位置为起点；所述X轴对应薄膜(1)的宽度方向，所述Y轴对应薄膜(1)的卷长方向。6.根据权利要求1所述的一种薄膜镀层均匀性的评价方法，其特征在于，所述步骤S1中镀膜单元为多个，每个镀膜单元包括一块挡板(2)和一个耐高温容器阵列，所述挡...

【专利技术属性】
技术研发人员：臧世伟，
申请(专利权)人：重庆金美新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：