一种石墨烯-铜基纳米铜膜生产设备制造技术

本发明专利技术公开了一种石墨烯

【技术实现步骤摘要】
一种石墨烯
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铜基纳米铜膜生产设备


[0001]本专利技术涉及铜膜生产设备领域，特别涉及一种石墨烯
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铜基纳米铜膜生产设备。

技术介绍

[0002]铜是常用于电路板上的导电金属，但是随着科技的不断进步，大规模集成电路和封装技术的发展，电子产品的体积和质量都在不断的减小，因此铜膜的使用率也在广泛对的提高，但是由于电子产品本身的体积的减小，其散热的面积也在逐渐的减小，因此元器件就迫切的需要相对低温的环境才能进行运行，因此散热就成为一个十分重要的话题。
[0003]石墨烯
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铜基纳米铜膜就能够很好的解决这个问题，不仅能够保证电流的传输，并且石墨烯的导热系数高达5300W/m
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K，高于碳纳米管和金刚石，又由于石墨烯是世界上最薄但是最坚硬的纳米材料，因此不仅能够实现高散热功能，而且也能够使得铜膜的稳固性增加。
[0004]石墨烯
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铜基纳米铜膜的生产方法有很多，金属基板的表面上沉积一层氧化石墨烯薄膜，接着利用还原剂将氧化石墨烯还原为石墨烯，接着再石墨烯的表面利用电镀置换铜离子溶液中的铜金属，接着形成一个铜膜，最后再利用酸性溶液将金属基板进行溶解，最后产生石墨烯
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铜基纳米铜膜，但是由于生产过程中需要将最初的金属基板放入到不同的溶液里面，不仅会导致生产成本的增加，而且也会导致生产的步骤更加的复杂。

技术实现思路

[0005]本专利技术的主要目的在于提供一种石墨烯
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铜基纳米铜膜生产设备，可以有效解决
技术介绍
中的问题。
[0006]为实现上述目的，本专利技术采取的技术方案为：一种石墨烯
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铜基纳米铜膜生产设备，包括溶液池，所述溶液池的内部固定安装有多个分隔板，多个所述分隔板将溶液池分割为多个不同的区域，所述溶液池的顶部安装有反应池，所述反应池的底部开设有多个通液槽，所述通液槽的位置安装有电磁阀，多个所述通液槽的位置对应多个所述分隔板分隔的区域，所述溶液池与反应池之间安装有引流组件，用于将溶液池内部的溶液引流进入到反应池的内部。
[0007]所述分隔板的数量包括有四个，将所述溶液池分割为五个区域，包括铜离子溶液区、还原剂溶液区、氧化石墨烯悬浊液区、酸性溶液区和清洗溶液区，所述氧化石墨烯悬浊液区的内部安装有安装框，所述安装框的表面安装有分滤板，所述分滤板用于分离水溶液和氧化石墨烯。
[0008]所述反应池的内部安装有支撑柱，所述支撑柱的数量设置有多个，矩形阵列在反应池的内部，所述通液槽位于相邻的两列支撑柱之间，所述通液槽的数量设置为五个，分别对应五个不同的区域，所述反应池的内部安装有超声波发生器，所述反应池的表面安装有发生电源。
[0009]所述反应池底部的大于与溶液池顶部的大小完全相同，所述反应池的顶部安装有
防脱框，所述反应池安装在防脱框的内部。
[0010]所述引流组件包括五个引流管，五个所述引流管分别对应五个不用的区域，所述反应池的表面安装有五个泵体，五个所述泵体的出水端分别与五个所述引流管的进水端连接，所述泵体的进水端安装有进水管，所述进水管延伸进入到溶液池的内部，所述引流管的出水端延伸至反应池的内部。
[0011]所述引流管的顶部延伸至反应池的上方，所述引流管为柔性材质，所述反应池的表面固定安装有卡扣组件，用于固定引流管的位置。
[0012]所述卡扣组件包括安装块，所述安装块的表面开设有横槽，所述引流管的表面卡在横槽的内部，所述横槽的内部开设有凹槽，所述凹槽的内部安装有挤压弹簧，所述挤压弹簧的一端安装有卡块，所述卡块卡在凹槽的内部。
[0013]所述凹槽的数量分别设置有两个，对应设置在横槽的两侧，所述卡块的数量也分别设置有两个，两个所述卡块的相对端均设置为圆弧状。
[0014]所述反应池的两端安装有承托把手，所述承托把手位于发生电源的下方。
[0015]与现有技术相比，本专利技术具有如下有益效果：
[0016]1、本专利技术中，通过设置反应池、溶液池和电磁阀，通过将不同的溶液运输至反应池的内部，该过程都是通过电磁阀和引流组件进行完成，不需要搬运金属基板的位置，减少了劳动力，并且还减少了材料成本。
[0017]2、本专利技术中，通过设置安装块、卡块和挤压弹簧，需要将引流管卡在安装块的内部，引流管就会挤压卡块，通过卡块挤压挤压弹簧，使得卡块卡在凹槽的内部，接着当引流管卡在横槽的内部时，就会因为挤压弹簧的回弹能力，卡块回到初始的位置，就能够将引流管卡住，在将反应池搬运下来的时候，可以将引流管掰弯，使用更加方便。
附图说明
[0018]图1为本专利技术一种石墨烯
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铜基纳米铜膜生产设备的整体结构示意图；
[0019]图2为本专利技术一种石墨烯
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铜基纳米铜膜生产设备的通液槽位置结构示意图；
[0020]图3为本专利技术一种石墨烯
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铜基纳米铜膜生产设备的电磁阀位置结构示意图；
[0021]图4为本专利技术一种石墨烯
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铜基纳米铜膜生产设备的挤压弹簧位置结构示意图；
[0022]图5为本专利技术一种石墨烯
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铜基纳米铜膜生产设备的分滤板位置结果示意图；
[0023]图6为本专利技术一种石墨烯
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铜基纳米铜膜生产设备的安装框位置结构示意图。
[0024]图中：1、溶液池；2、分隔板；3、反应池；4、通液槽；5、电磁阀；6、铜离子溶液区；7、还原剂溶液区；8、氧化石墨烯悬浊液区；9、酸性溶液区；10、清洗溶液区；11、安装框；12、分滤板；13、支撑柱；14、超声波发生器；15、发生电源；16、防脱框；17、引流管；18、泵体；19、进水管；20、安装块；21、横槽；22、凹槽；23、挤压弹簧；24、卡块；25、承托把手。
具体实施方式
[0025]为使本专利技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本专利技术。
[0026]如图1
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6所示，包括溶液池1，所述溶液池1的内部固定安装有多个分隔板2，分隔板2和溶液池1的化学性质懒惰，不容易与放置在溶液池1内部的溶液进行反应，多个所述分隔
板2将溶液池1分割为多个不同的区域，所述溶液池1的顶部安装有反应池3，反应池3的内部用于放置金属基板，所述反应池3的底部开设有多个通液槽4，针对不同的溶液可以从不同的通液槽4内部流出，所述通液槽4的位置安装有电磁阀5，电磁阀5可以通过控制自动打开，多个所述通液槽4的位置对应多个所述分隔板2分隔的区域，不同的溶液通过锁哥通液槽4进入到不同的区域内部，所述溶液池1与反应池3之间安装有引流组件，用于将溶液池1内部的溶液引流进入到反应池3的内部。
[0027]所述分隔板2的数量包括有四个，将所述溶液池1分割为五个区域，包括铜离子溶液区6、还原剂溶液区7、氧化石墨烯悬浊液区8、酸性溶液区9和清洗溶液区本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种石墨烯
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铜基纳米铜膜生产设备，其特征在于：包括溶液池(1)，所述溶液池(1)的内部固定安装有多个分隔板(2)，多个所述分隔板(2)将溶液池(1)分割为多个不同的区域，所述溶液池(1)的顶部安装有反应池(3)，所述反应池(3)的底部开设有多个通液槽(4)，所述通液槽(4)的位置安装有电磁阀(5)，多个所述通液槽(4)的位置对应多个所述分隔板(2)分隔的区域，所述溶液池(1)与反应池(3)之间安装有引流组件，用于将溶液池(1)内部的溶液引流进入到反应池(3)的内部。2.根据权利要求1所述的一种石墨烯
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铜基纳米铜膜生产设备，其特征在于：所述分隔板(2)的数量包括有四个，将所述溶液池(1)分割为五个区域，包括铜离子溶液区(6)、还原剂溶液区(7)、氧化石墨烯悬浊液区(8)、酸性溶液区(9)和清洗溶液区(10)，所述氧化石墨烯悬浊液区(8)的内部安装有安装框(11)，所述安装框(11)的表面安装有分滤板(12)，所述分滤板(12)用于分离水溶液和氧化石墨烯。3.根据权利要求2所述的一种石墨烯
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铜基纳米铜膜生产设备，其特征在于：所述反应池(3)的内部安装有支撑柱(13)，所述支撑柱(13)的数量设置有多个，矩形阵列在反应池(3)的内部，所述通液槽(4)位于相邻的两列支撑柱(13)之间，所述通液槽(4)的数量设置为五个，分别对应五个不同的区域，所述反应池(3)的内部安装有超声波发生器(14)，所述反应池(3)的表面安装有发生电源(15)。4.根据权利要求1所述的一种石墨烯
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铜基纳米铜膜生产设备，其特征在于：所述反应池(3)底部的大于与溶液池(1)顶部的大小完全相同，所述反应池(3)的顶部安装有防脱框(16)，所述反应池(3)安装在防...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢彪，庞美兴，
申请(专利权)人：惠州市合泰智能科技有限公司，
类型：发明
国别省市：