一种混合均匀的清洗剂反应釜制造技术

本实用新型专利技术提供一种混合均匀的清洗剂反应釜，包括反应釜及安装在反应釜上端一侧用于储放粉体的料罐，所述反应釜包括罐体及设置在罐体上的顶盖，所述顶盖上安装有搅拌组件，以对罐体内的物料进行搅拌，所述料罐通过支架固定安装在顶盖上，料罐与支架之间设有压力传感器，用于对监测投放粉体的量，实现定量供给。反应釜添加粉体时，电动推杆控制封板伸出，以使阀体导通，第一电机驱动轴杆旋转，轴杆上的螺旋叶片推动粉体沿料斗的下料口排入导筒内，并经过排筒掉落至分散盘上，分散盘旋转，并利用分散旋板将粉体向四轴扩散，使粉体添加时分散均匀，提高溶解效率。螺旋叶片均匀连续推动粉体下落，并通过压力传感器进行重力测量，实现定量供给。定量供给。定量供给。

【技术实现步骤摘要】
一种混合均匀的清洗剂反应釜


[0001]本技术涉及清洗剂生产设备
，具体为一种混合均匀的清洗剂反应釜。

技术介绍

[0002]清洗剂生产过程中需要将高分子聚合物、胶体、粉体等物料输送进反应釜内进行反应溶解。若将粉体或者颗粒一次性加入反应釜内，粉体或颗粒将会沉降在反应釜底部，堆叠附着在反应釜内壁，影响后续的溶解效率，使溶解不完全。

技术实现思路

[0003]本技术所解决的技术问题在于提供一种混合均匀的清洗剂反应釜，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0004]本技术所解决的技术问题采用以下技术方案来实现：一种混合均匀的清洗剂反应釜，包括反应釜及安装在反应釜上端一侧用于储放粉体的料罐，所述反应釜包括罐体及设置在罐体上的顶盖，所述顶盖上安装有搅拌组件，以对罐体内的物料进行搅拌，所述料罐通过支架固定安装在顶盖上，料罐与支架之间设有压力传感器，用于对监测投放粉体的量，实现定量供给，所述料罐的下端设有料斗，料斗内设有用于排料的螺旋输送组件，所述顶盖的上端设有贯穿顶盖的阀门组件，料斗的下端插入阀门组件的上端滑动连接，以通过阀门组件将本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种混合均匀的清洗剂反应釜，包括反应釜及安装在反应釜上端一侧用于储放粉体的料罐，所述反应釜包括罐体及设置在罐体上的顶盖，所述顶盖上安装有搅拌组件，以对罐体内的物料进行搅拌，其特征在于：所述料罐通过支架固定安装在顶盖上，料罐与支架之间设有压力传感器，用于对监测投放粉体的量，实现定量供给，所述料罐的下端设有料斗，料斗内设有用于排料的螺旋输送组件，所述顶盖的上端设有贯穿顶盖的阀门组件，料斗的下端插入阀门组件的上端滑动连接，以通过阀门组件将粉体导入反应釜内。2.根据权利要求1所述的一种混合均匀的清洗剂反应釜，其特征在于：所述螺旋输送组件包括转动安装在料罐内的轴杆、驱动轴杆旋转的第一电机，所述轴杆的下端设有螺旋叶片，螺旋叶片插入料斗的下料口中，用于匀速推动粉体下料。3.根据权利要求2所述的一种混合均匀的清洗剂反应釜，其特征在于：所述料罐的一侧设有对轴杆进行支撑的轴承支座，所述轴杆插入轴承支座内转动连接。...

【专利技术属性】
技术研发人员：章明金，章贵安，范加林，李灿灿，
申请(专利权)人：上海钱洪化学科技有限公司，
类型：新型
国别省市：