制备多级台阶微结构的方法技术

本发明专利技术提供一种制备多级台阶微结构的方法，其包括如下步骤：(1)在衬底上制备光刻胶涂层；(2)设计初始曝光版图，所述初始曝光版图为灰度图，且所述灰度图中每个像素点的灰度值为0

【技术实现步骤摘要】
制备多级台阶微结构的方法


[0001]本专利技术属于微加工领域。具体地，本专利技术涉及制备多级台阶微结构的方法。

技术介绍

[0002]目前制备台阶微结构的方法大多是采用多次套刻的方式。该方法的制备过程中需要多次对准过程。正是这种多次对准导致该方法误差大，进而影响所制备的台阶微结构的精度。
[0003]激光直写技术凭借无需掩膜版、较高的加工精度(亚微米级)以及可加工任意结构等特点，在各种微结构与器件的加工领域中备受关注。目前的激光直写技术也仅限于用于二维图形的制备，这主要是因为受限于激光直写设备系统内部声光调制器的调制范围。
[0004]为了满足衍射光学元件、微光学透镜、光通讯等应用领域对高性能三维结构的高精度加工要求，尤其是任意高度的周期或非周期性台阶微结构，需要开发新的工艺，以实现小尺寸、多台阶阶次、任意高度台阶微结构的可控加工。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的是提供一种新的制备多级台阶微结构的方法，该方法精度高，并且可以制备小尺寸、多台阶阶次、任意高度的台阶微结构。
[0006]本专利技本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种制备多级台阶微结构的方法，其包括如下步骤：(1)在衬底上制备光刻胶涂层；(2)设计初始曝光版图，所述初始曝光版图为灰度图，且所述灰度图中每个像素点的灰度值为0
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255灰阶；所述初始曝光版图上每个像素点的灰度值与紫外光束对光刻胶涂层上每个点的曝光剂量呈相关性；(3)优化所述初始曝光版图以获得优化曝光版图，其中优化所述初始曝光版图是通过包括如下步骤的方法进行的：(i)利用光学表征设备测得所用光刻胶的光学参数；(ii)绘制0
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255灰阶的灰度版图；(iii)将所述灰度版图进行曝光，曝光后得到光刻胶厚度与灰度值的关系曲线，即对比度曲线；(iv)将所述初始曝光版图、光刻胶的光学参数、对比度曲线以及初始曝光版图中灰度值和对应的期望厚度值关系曲线输入优化软件，即可获得优化曝光版图；(4)将所述优化曝光版图导入紫外光刻系统，利用紫外光刻设备对所述光刻胶涂层进行曝光加工；(5)对曝光后的光刻胶涂层进行显影工序，以在所述光刻胶涂层上产生与所述优化曝光版图对应的光刻胶台阶微结构。2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述光学表征设备为椭偏仪；优选地，所述步骤(ii)中的绘制0
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255灰阶的灰度版图通过以10为步长并且绘制25个灰度值不同的方块进行的。3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述光学参数为折射率n和消光...

【专利技术属性】
技术研发人员：伦婷婷，李俊杰，潘如豪，张忠山，
申请(专利权)人：中国科学院物理研究所，
类型：发明
国别省市：