运动机构制造技术

技术编号:37743878 阅读:23 留言:0更新日期:2023-06-02 09:47
本实用新型专利技术提供了一种运动机构,包括:底座;运动台,位于底座的上方,运动台能够在底座的上方运动;限位结构,设置在运动台上,限位结构能够将运动台悬浮在底座上方,并限定运动台在底座上方的移动轨迹;驱动组件,设置在底座上,且与运动台连接,驱动组件用于驱动运动台沿移动轨迹移动。基于本实用新型专利技术的技术方案,由于限位结构能够将运动台悬浮在底座上方,这样避免了运动台与底座直接接触,从而降低了运动台移动时的阻力,进而提高了运动台的移动效率,以满足运动机构对晶圆进行高精度的微小移动的要求。而且,限位结构能限定运动台在底座上方的移动轨迹,这样能够实现对晶圆进行高精度的微小移动。度的微小移动。度的微小移动。

【技术实现步骤摘要】
运动机构


[0001]本技术涉及集成电路中的芯片设备
,特别地涉及一种运动机构。

技术介绍

[0002]目前,集成电路行业发展迅速,对芯片产品的良率要求日益增高,晶圆对准装置作为晶圆对准工序中关键设备,上下晶圆对准过程中需要利用晶圆对准装置的运动机构对其中一个晶圆进行高精度的微小线性移动。
[0003]然而,相关技术中晶圆对准装置的运动机构受其自身结构的限制(可参考中国专利:CN114823454A),无法满足对晶圆进行高精度的微小线性移动的要求。
[0004]以上也就是说,相关技术中的运动机构无法实现对晶圆进行高精度的微小线性移动。

技术实现思路

[0005]针对上述现有技术中的问题,本申请提出了一种运动机构,解决了运动机构无法实现对晶圆进行高精度的微小线性移动的问题。
[0006]本技术的运动机构,包括:底座;运动台,位于底座的上方,运动台能够在底座的上方运动;限位结构,设置在运动台上,限位结构能够将运动台悬浮在底座上方,并限定运动台在底座上方的移动轨迹;驱动组件,设置在底座上,且与运动台连接,驱动本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种运动机构,其特征在于,包括:底座;以及运动台,位于所述底座的上方,所述运动台能够在所述底座的上方运动;以及限位结构,设置在所述运动台上,所述限位结构能够将所述运动台悬浮在所述底座上方,并限定所述运动台在所述底座上方的移动轨迹;以及驱动组件,设置在所述底座上,且与所述运动台连接,所述驱动组件用于驱动所述运动台沿所述移动轨迹移动。2.根据权利要求1所述的运动机构,其特征在于,所述限位结构包括:第一限位组件,设置在所述运动台的底部,所述第一限位组件能够将所述运动台悬浮在所述底座上方,并限定其与所述底座在第一方向上的相对位置;以及第二限位组件,设置在所述运动台在第二方向上的两侧,所述第二限位组件用于限定其与所述底座在第二方向上的相对位置。3.根据权利要求2所述的运动机构,其特征在于,所述第一限位组件包括多个空气轴承,多个所述空气轴承分别设置在所述运动台的角部位置。4.根据权利要求2所述的运动机构,其特征在于,所述第二限位组件包括:第一限位件,设置在所述运动台在第二方向上的一侧;以及第二限位件,设置在所述运动台在第二方向上的另一侧上;其中,所述第二限位组件通过所述第一限位件和第二限位件限定所述运动台与所述底座在第二方向上的相对位置。5.根据权利要求4所述的运动机构,其特征在于,所述第一限位件包括:轴承安装块,其一端设置在所述运动台上;空气轴承,设置在所述轴承安装块的另一端上;以及其中,所述空气轴承与所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘俊丰姜保彧张豹
申请(专利权)人:北京华卓精科科技股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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