【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及主要是工业用的紫外线照射装置，尤其涉及采用了介质 阻挡放电准分子灯等的装置。
技术介绍
作为在上述工业用紫外线照射装置中使用的一种光源，例如有专利文献1中所述的具有172nm发光波长的氙准分子灯，该氙准分子灯常用 于液晶面板用基板的干燥清洗(diy cleaning)等。在准分子灯中经常釆 用双管构造的灯，其发光部沿着轴方向延伸成管状。在清洗基板时，被 照射对象物的基板以一定速度在传送带上移动，在基板的稍上方、与传 送带的传送方向正交的方向上设置灯。对被照射对象物的整个宽幅进行 一次性照射，并且使基板以一定速度移动，因此能够对整个基板进行均 匀处理。另一方面，例如在半导体工艺的领域中，在其各个工序内大多使用 紫外光进行半导体晶片表面的加工、改性等。因此，根据各个工序，使 用波长172nm的氤的准分子发光、波长222nm的氪和氯的准分子发光、 或者作为水银共振线的254nm等的紫外光。在这种紫外线灯中经常采用介质阻挡放电作为放电方式，专利文献 2记载了一种基于介质阻挡放电的紫外线照射装置。在专利文献2中，为 了降低介质阻挡放电引发的电磁噪声电波并提高...
【技术保护点】
一种向被照射物照射紫外线的紫外线照射装置，其特征在于，具有： 放电灯，其通过介质阻挡放电来放射准分子光； 灯罩，其收纳所述放电灯，并具有使紫外线透射到外部的窗部；和 电源，其点亮所述放电灯， 在所述灯罩内或者所述灯罩 旁边设置有：作为所述电源的一部分的将直流电压转换为高频的开关元件；和作为所述电源的一部分的从低电压向高电压升压的升压机构。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：安田诚，小林刚，篠木晟，金子仁志，
申请(专利权)人：株式会社ORC制作所，
类型：发明
国别省市：JP
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