一种可实现指定大小能量均匀分布像点的激光探测系统技术方案

本发明专利技术涉及光学成像系统技术领域，具体为一种可实现指定大小能量均匀分布像点的激光探测系统，包括激光探测结构，激光探测结构包括滤光片、第一透镜、第二透镜、第三透镜以及第四透镜；滤光片至第四透镜从激光探测结构的物方表面朝向激光探测结构的成像表面按照数字顺序依次设置，激光探测结构用于将光束成像在探测面上。本发明专利技术该方法针对激光探测对目标像点大小及能量均匀性的特殊要求，基于光学系统入瞳及像点能量均匀性一致性原理，提出入瞳处任意一条光线位置与该光线在像面上交点的映射模式，依据该映射模式构建激光探测系统优化设计评价函数，在给定合理初始结构的条件下，可实现指定大小能量均匀分布像点的激光探测系统优化设计。系统优化设计。系统优化设计。

【技术实现步骤摘要】
一种可实现指定大小能量均匀分布像点的激光探测系统


[0001]本专利技术涉及一种激光探测系统，特别是涉及一种可实现指定大小能量均匀分布像点的激光探测系统，属于光学成像系统


技术介绍

[0002]在激光跟踪探测光学系统设计需求中，要求对来自理想目标散射的激光信号，在光学系统的像面上形成指定直径大小、能量均匀分布的光斑。
[0003]传统光学系统设计中，对理想的物点，依据像差最小的原则，在像面上形成尽可能小的光斑，且光斑能量一般呈现为高斯像点分布，即中间能量高、周围能量低，无法满足像面上形成指定直径大小、能量均匀分布光斑的要求。虽然在传统光学设计中，可以采用离焦方法，使像面上的光点直径大小满足使用要求，但能量分布依然使高斯分布，无法满足均匀分布的需求。
[0004]因此，亟需对均匀分布像点的激光探测系统进行改进，以解决上述存在的问题。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的是提供一种可实现指定大小能量均匀分布像点的激光探测系统，该方法针对激光探测对目标像点大小及能量均匀性的特殊要求，基于光学系统入瞳及像本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种可实现指定大小能量均匀分布像点的激光探测系统，包括激光探测结构(1)，其特征在于，所述激光探测结构(1)包括滤光片(101)、第一透镜(102)、第二透镜(103)、第三透镜(104)以及第四透镜(105)；所述第一透镜(102)、所述第二透镜(103)、所述第三透镜(104)以及所述第四透镜(105)的主光轴在同一水平轴线上，所述第四透镜(105)的一侧设置有探测面(2)；所述滤光片(101)至所述第四透镜(105)从所述激光探测结构(1)的物方表面朝向所述激光探测结构(1)的成像表面按照数字顺序依次设置，所述激光探测结构(1)用于将光束成像在所述探测面(2)上。2.根据权利要求1所述的一种可实现指定大小能量均匀分布像点的激光探测系统，其特征在于：所述滤光片(101)为窄带滤光片，所述滤光片(101)用于光线进行过滤，所述滤光片(101)的厚度为4mm，且所述滤光片(101)为K9玻璃制成的滤镜。3.根据权利要求1所述的一种可实现指定大小能量均匀分布像点的激光探测系统，其特征在于：所述第一透镜(102)靠近所述滤光片(101)的一侧面具有凸出的物方表面，所述第一透镜(102)具有正屈光力。4.根据权利要求1所述的一种可实现指定大小能量均匀分布像点的激光探测系统，其特征在于：所述第二透镜(103)与所述第一透镜(102)相对应，所述第二透镜(103)具有沿着光轴凸出的物方表面以及沿着所述光轴凹入的像方表面，所述第二透镜(103)具有负屈光力。5.根据权利要求1所述的一种可实现指定大小能量均匀分布像点的激光探测系统，其特征在于：所述第三透镜(104)具有正屈光力，所述第三透镜(104)具有凹入的物方表面和凸出的像方表面。6.根据权利要求1所述的一种可实现指定大小能量均匀分布像点的激光探测系统，其特征在于：所述第四透镜(1...

【专利技术属性】
技术研发人员：华夏卿，
申请(专利权)人：浙江中科光铭光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：