一种紫外固化腔体的清洁方法技术

本发明专利技术提供了一种紫外固化腔体的清洁方法，所述方法包括：将反应气体三氟化氮和氢氮化物通入远程等离子源中，解离成氟化铵气体；所述氟化铵气体与位于腔体上部的石英窗中的二氧化硅反应得到第一氟硅酸胺固体；所述氟化铵气体进入腔体后，与所述腔体内的二氧化硅反应得到第二氟硅酸胺固体；加热所述腔体并保持所述腔体内的温度保持在一预定温度范围，使所述第二氟硅酸胺固体受热分解后得到气体氟化硅。硅。硅。

【技术实现步骤摘要】
一种紫外固化腔体的清洁方法


[0001]本专利技术涉及流体化学气相沉积设备(Flowable CVD)，尤其涉及紫外固化腔体的清洁方法。

技术介绍

[0002]在流体化学气相沉积设备(Flowable CVD)中，对硅氮化合物(例如，三甲硅烷基胺(SCP))与氢氮化物(例如，氨气)形成的硅氮聚合物薄膜进行固化十分重要，目前常用的固化方法是使用水蒸汽进行固化。而相比较传统固化方法，使用紫外固化展现出了更好的优势。在紫外照射下，臭氧被分解成氧自由基，随后再与硅氮聚合物进行反应，氧替换氮形成硅氧键。在流体化学气相沉积设备(Flowable CVD)中，常见的清洁气体是三氟化氮，其通过远程等离子源(RPS)解离的氟离子与硅化合物反应起到清理作用。其主要的反应机理如下：
[0003]2NF3→
N2+6F
‑
[0004]Si+4F
‑
→
SiF4↑
[0005]在臭氧
‑
紫外固化设备中，设计了石英窗，石英窗具有良好的透光性，紫外光可以透过石英窗到达晶圆进行固化。但石英窗本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种紫外固化腔体的清洁方法，其特征在于，所述方法包括：将反应气体三氟化氮和氢氮化物通入远程等离子源中，解离成氟化铵气体；所述氟化铵气体与位于腔体上部的石英窗中的二氧化硅反应得到第一氟硅酸胺固体；所述氟化铵气体进入所述腔体后，与所述腔体内的二氧化硅反应得到第二氟硅酸胺固体；以及加热所述腔体并保持所述腔体在一预定温度范围和一预定压力范围内，使所述第二氟硅酸胺固体受热分解后得到气体氟化硅。2.如权利要求1所述的紫外固化腔体的清洁方法，其特征在于，所述氟化铵气体与所述石英窗的二氧化硅反应得到的所述第一氟硅酸胺固体覆盖在所述石英窗下表面，形成保护层。3.如权利要求1所述的紫外固化腔体的清洁方法，其特征在于，所述方法还包括：将所述第二氟硅酸胺固体受热分解后得到的气体从所述腔体内抽出。4.如权利要求1所述的紫外固化腔体的清洁方法，其特征在于，所述预定温度范围为5℃
‑
200℃，所述预定压力范围为0.1
‑
650Torr。5.如权利要求1所述的紫外固化腔体的清洁方法，其特征在于，所述氟化铵气体包括NH4F和NH4F.HF中的一者或多者。6.如权利要求1所述的紫外固化...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕秋雨，赵茹，薛国标，
申请(专利权)人：拓荆科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：