本发明专利技术提供一种提升效率和生产率的基板处理装置。本发明专利技术的基板处理装置包括：工艺腔室，其内部具有处理空间；运送机器人，其将基板移入和移出处理空间，并包括用于抓取基板的机械手；以及示教缓冲器，其布置机械手，其中，示教缓冲器包括：示教板，其提供参考点；以及至少一个相机，其面向示教板，其中，相机拍摄示教板的参考点，运送机器人通过使用相机将机械手与参考点对齐。参考点对齐。参考点对齐。
【技术实现步骤摘要】
基板处理装置及使用其的基板处理方法
[0001]本专利技术涉及一种基板处理装置及使用该基板处理装置的基板处理方法。
技术介绍
[0002]为了制造半导体装置，通过光刻工艺、蚀刻工艺、灰化工艺、离子注入工艺、薄膜沉积工艺和清洗工艺等多种工艺对基板进行处理，以在基板上形成期望的图案。
[0003]为了进行上述工艺，需要将基板传送和运送到各个工艺腔室。具体地，由能够传送和运送基板的运送机器人将基板传送到各个腔室。此时，需要将运送机器人对齐之后，才能将基板准确地移动到期望的位置。用肉眼控制和对齐机械手可能需要大量的作业时间。
技术实现思路
[0004]解决的技术问题
[0005]本专利技术要解决的技术问题在于，提供一种提升效率和生产率的基板处理装置。
[0006]本专利技术要解决的另一技术问题在于，提供一种提升效率和生产率的基板处理方法。
[0007]本专利技术要解决的问题不限于上述问题，本领域的技术人员通过下面的记载可以明确地理解未提及的其他问题。
[0008]解决方法
[0009]为解决上述技术问题，根据本专利技术一方面的基板处理装置包括：工艺腔室，其内部具有处理空间；运送机器人，用于将基板移入和移出处理空间，并且包括抓取基板的机械手；示教缓冲器，用于对齐机械手，其中，示教缓冲器包括提供参考点的示教板和面向示教板的至少一个相机，相机拍摄示教板的参考点，并且运送机器人通过使用相机将机械手与参考点对齐。
[0010]在一些实施例中，机械手包括布置在机械手的末端的对齐标记，示教缓冲器通过将对齐标记与参考点进行比较来对齐机械手。
[0011]在一些实施例中，对齐标记与基板的中心点对齐。
[0012]在一些实施例中，参考点在第一位置处被拍摄，并且机械手在第一位置处被对齐。
[0013]在一些实施例中，示教板与相机之间的竖直距离与机械手与相机之间的竖直距离相同。
[0014]在一些实施例中，相机包括棱镜方式。
[0015]在一些实施例中，相机包括彼此隔开的第一相机和第二相机。
[0016]在一些实施例中，参考点包括彼此隔开的第一参考点和第二参考点，第一相机拍摄第一参考点，第二相机拍摄第二参考点。
[0017]在一些实施例中，机械手包括彼此隔开的第一手部和第二手部，第一手部与第一参考点对齐，第二手部与第二参考点对齐。
[0018]为解决上述技术问题，根据本专利技术另一方面的基板处理装置包括：工艺腔室，其内
部具有处理空间；运送机器人，用于将基板移入和移出处理空间，并且包括用于抓取基板的第一手部和第二手部；以及示教缓冲器，用于对齐第一手部和第二手部，其中，示教缓冲器包括提供第一参考点和第二参考点的示教板、用于拍摄第一参考点的第一相机、以及用于拍摄第二参考点的第二相机，其中，运送机器人利用第一参考点来对齐第一手部，并且利用第二参考点来对齐第二手部。
[0019]在一些实施例中，第一手部包括布置在第一手部的末端的第一对齐标记，并且示教缓冲器通过比较第一对齐标记和第一参考点来对齐第一手部。
[0020]在一些实施例中，第一相机和第一参考点之间的竖直距离与第一手部和第一相机之间的竖直距离相同，第二相机和第二参考点之间的竖直距离与第二相机和第二手部之间的竖直距离相同。
[0021]在一些实施例中，第一参考点和第二参考点被拍摄的竖直位置与第一手部和第二手部被对齐的竖直位置相同。
[0022]在一些实施例中，相机包括棱镜方式。
[0023]为解决上述技术问题，根据本专利技术一方面的基板处理方法包括以下步骤：将包括参考点的示教板加载到示教缓冲器中；使用布置在示教板上方的相机来拍摄参考点；将包括对齐标记的机械手加载到示教缓冲器中；以及通过将参考点与对齐标记进行比较来对齐机械手，其中，机械手抓取基板并将基板移入和移出工艺腔室。
[0024]在一些实施例中，对齐标记可以与基板的中心点对齐。
[0025]在一些实施例中，示教板被加载的位置和机械手被加载的位置相同。
[0026]在一些实施例中，相机包括彼此隔开的第一相机和第二相机，参考点包括彼此隔开的第一参考点和第二参考点，第一相机用于拍摄第一参考点，第二相机用于拍摄第二参考点。
[0027]在一些实施例中，机械手包括彼此隔开的第一手部和第二手部。
[0028]第一手部与第一参考点对齐，第二手部与第二参考点对齐。
[0029]在一些实施例中，相机包括棱镜方式。
[0030]其他实施例的具体事项包含在本专利技术的说明及附图中。
附图说明
[0031]图1是示意性地示出根据本专利技术的一些实施例的基板处理装置的平面图。
[0032]图2是用于说明图1的示教缓冲器的示例图。
[0033]图3是用于说明图2的示教板的示例性俯视图。
[0034]图4是用于说明图1的作业机器人的示例图。
[0035]图5是用于说明根据一些实施例的基板处理方法的示例性流程图。
[0036]图6是用于说明图5的步骤S100的图。
[0037]图7和图8是用于说明图5的步骤S200的图。
[0038]图9是用于说明图5的步骤S300的图。
[0039]图10是用于说明图5的步骤S400的图。
[0040]图11和图12是用于说明图5的步骤S500的图。
具体实施方式
[0041]在下文中，将参考附图详细描述本专利技术的优选实施方式。参考结合附图在下文详细叙述的实施方式，本专利技术的优点和特征以及实现优点和特征的方法将变得明确。然而，本专利技术并不受限于在下文中公布的实施方式，而是可以以各种不同的形式实现，并且本实施方式仅是为了使本专利技术的公开内容完整并向本专利技术所属
的普通技术人员完整告知专利技术的范围而提供的，并且本专利技术仅由权利要求的范围限定。在整个说明书中，相同的参考标号指代相同的构成要素。
[0042]元件或层被称为在另一元件或层的“上方”或“上”时，其不仅包括直接在另一元件或另一层上方，还包括中间介入有另一层或另一元件的情况。相反，元件被称为“直接在上方”或“在正上方”时，其表示中间不存在介入的另一元件或层。
[0043]可以使用“下方”、“下面”、“下部”、“上方”、“上部”等空间相对术语以便于描述如图中所示的一个元件或构成要素与其他元件或构成要素的相关关系。空间相对术语应当理解为除了图中所示的方向之外还包括元件在使用时或操作时的不同方向的术语。例如，在图中所示的元件翻转的情况下，被描述为在另一元件的“下方”或“下面”的元件可以定位成在另一元件的“上方”。因此，示例性术语“下方”可以包括下方和上方两种方向。元件也可以定向为另外的方向，且因此空间相对术语可以依据定向进行解释。
[0044]虽然使用了第一、第二等来叙述各种元件、构成要素和/或部分，但显然这些元件、构成要素和/或部分不受这些术语的限制。这些术语仅是用于将一个元件、构成要素或部分与其他元件、构成本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，包括：工艺腔室，其内部具有处理空间；运送机器人，用于将基板移入和移出所述处理空间，并且包括用于抓取所述基板的机械手；以及示教缓冲器，用于对齐所述机械手；其中，所述示教缓冲器包括提供参考点的示教板和面向所述示教板的至少一个相机，所述相机拍摄所述示教板的所述参考点，以及所述运送机器人通过使用所述相机将所述机械手与所述参考点对齐。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述机械手包括布置在所述机械手的末端的对齐标记，以及所述示教缓冲器通过将所述对齐标记与所述参考点进行比较来对齐所述机械手。3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述对齐标记与所述基板的中心点对齐。4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述参考点在第一位置被拍摄，以及所述机械手在所述第一位置被对齐。5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其中，所述示教板和所述相机之间的竖直距离与所述机械手和所述相机之间的竖直距离相同。6.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述相机包括棱镜方式。7.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述相机包括彼此隔开的第一相机和第二相机。8.根据权利要求7所述的基板处理装置，其中，所述参考点包括彼此隔开的第一参考点和第二参考点，以及所述第一相机拍摄所述第一参考点，所述第二相机拍摄所述第二参考点。9.根据权利要求8所述的基板处理装置，其中，所述机械手包括彼此隔开的第一手部和第二手部，以及所述第一手部与所述第一参考点对齐，所述第二手部与所述第二参考点对齐。10.一种基板处理装置，包括：工艺腔室，其内部具有处理空间；运送机器人，用于将基板移入和移出所述处理空间，并且包括抓取所述基板的第一手部和第二手部；以及示教缓冲器，用于对齐所述第一手部和所述第二手部；其中，所述示教缓冲器包括：提供第一参考点和第二参考点的示教板、用于拍摄所述第一参考点的第一相机、以及用于拍摄所述第二参考点的第二相机，所述运送机器人利用所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：金相吴，李明振，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：
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