用于光刻设备中掩模版的热调节的系统、方法和装置制造方法及图纸

本文的实施例描述了用于光刻设备中的图案形成装置处置设备和支撑结构处的掩模版的热调节的系统、方法和装置。图案形成装置处置设备包括具有多个气动管线(530)的夹持装置(510)。图案形成装置处置设备将图案形成装置(502)的第一表面定位在夹持装置下方，夹持装置使用多个气动管线将第一空气流施加到图案形成装置。图案形成装置处置设备将图案形成装置的第二表面定位在支撑结构中。支撑结构中的夹紧界面(506)中的一个或多个真空焊盘(516)将第二空气流(520)施加到图案形成装置。第一空气流和第二空气流导致图案形成装置的热调节。节。节。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于光刻设备中掩模版的热调节的系统、方法和装置
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2020年7月21日提交的美国临时专利申请号63/054,535的优先权，其通过引用全部并入本文。


[0003]本公开涉及用于光刻设备中的热调节和掩模版冷却的系统、方法和装置。

技术介绍

[0004]光刻设备是将期望图案施加到衬底上(通常施加到衬底的目标部分上)的机器。光刻设备可以被用于例如集成电路(IC)的制造中。在该实例中，图案形成装置(备选地被称为掩模或掩模版)可以被用于生成要被形成在IC的单个层上的电路图案。该图案可以被转移到衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括部分管芯、一个或多个管芯)上。图案的转移通常经由成像到在衬底上提供的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。通常，单个衬底将包含被连续图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括所谓的步进器(其中每个目标部分通过将整个图案一次曝光到目标部分上来辐照)以及所谓的扫描仪(其中每个目标部分通过在给定方向(“扫描”方向)上通过辐射束扫描图案来辐照，同时同步扫描平行或反平行于该本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光刻设备，包括：照射系统，被配置为调节辐射束；支撑结构，被构造为支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够在其横截面中将图案赋予所述辐射束以形成图案化的辐射束；投影系统，被配置为将所述图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上，以及图案形成装置处置设备，被配置为处置和定位所述图案形成装置，其中：所述图案形成装置处置设备包括具有多个气动管线的夹持装置，所述图案形成装置处置设备被配置为将所述图案形成装置的第一表面定位在所述夹持装置下方，并且所述夹持装置被配置为使用所述多个气动管线将第一空气流施加到所述图案形成装置，以热调节所述图案形成装置。2.根据权利要求1所述的光刻设备，其中：所述图案形成装置处置设备还被配置为将所述图案形成装置的第二表面定位在所述支撑结构的图案化区域中；所述支撑结构包括被布置在所述图案化区域的平行侧的两个夹紧界面；并且所述两个夹紧界面分别包括一个或多个真空焊盘。3.根据权利要求2所述的光刻设备，其中所述图案形成装置的所述第一表面包括掩模版背面，并且所述图案形成装置的所述第二表面包括成像侧。4.根据权利要求2所述的光刻设备，其中：所述图案形成装置处置设备还被配置为将所述图案形成装置的所述第一表面与所述夹持装置分开；并且所述支撑结构中的所述夹紧界面的所述一个或多个真空焊盘被配置为将第二空气流施加到所述图案形成装置。5.根据权利要求4所述的光刻设备，其中所述第一空气流和第二空气流包括极净干燥空气(XCDA)和/或其中所述第一空气流和第二空气流分别垂直于所述图案形成装置的所述第一表面和第二表面。6.一种图案形成装置支撑结构，包括：图案化区域，其中图案形成装置被定位在所述图案化区域中；以及两个夹紧界面，被布置在所述图案化区域的平行侧，所述夹紧界面分别包括一个或多个真空焊盘，其中所述图案形成装置的两个相对边缘与所述两个夹紧界面相邻，并且其中所述一个或多个真空焊盘被配置为将空气流施加到所述图案形成装置。7.根据权利要求6所述的图案形成装置支撑结构，还包括：温度传感器，被配置为确定所述图案形成装置的温度和/或其中所述图案形成装置使用图案形成装置处置设备被定位在所述图案化区域中。8.根据权利要求7所述的图案形成装置支撑结构，其中所述一个或多个真空焊盘被配置为响应于所述温度传感器确定所述温度的...

【专利技术属性】
技术研发人员：A，
申请(专利权)人：ASML控股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：