【技术实现步骤摘要】
一种阳极水冷型霍尔离子源
[0001]本技术涉及离子发生装置
,特别是涉及一种阳极水冷型霍尔离子源。
技术介绍
[0002]离子源是使中性原子或分子电离,并从中引出离子束流的装置。现代真空镀膜技术中,各种类型的离子源被广泛使用,用途主要包括:离子轰击清洁基片表面(离子预清洗)、离子轰击改善薄膜质量(离子辅助沉积)、离子束溅射、离子束刻蚀等等。其中使用最广泛的应该是霍尔离子源(End
‑
HallIonSource)。
[0003]离子源工作时,等离子体产生大量的热量,等离子体区的温度能超过500℃。因此,阳极和衬垫一般采用耐高温的金属材料制造,比如钼、钛等。离子源工作时需要通冷却水,但是,只用于冷却壳体和保护永磁体,而离子源阳极是没有水冷的。阳极不通冷却水的原因在于:阳极工作在等离子体区,阳极表面很容易产生氧化层,也会飘进来镀膜产生的薄膜粉尘,这些杂质会影响阳极的导电性能,少量的杂质会导致离子源工作状态改变,较多的杂质会导致离子源停止工作。所以,阳极需要定期拆卸下来,打磨清理其表面杂质。频繁拆卸 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种阳极水冷型霍尔离子源,其特征在于:包括壳体,所述壳体内依次设有永磁体、衬垫和阳极,所述衬垫上开设有气孔,所述壳体外侧一端设有阴极;所述阳极内部开设有冷却水道,所述冷却水道一端通过进水口外接有绝缘的进水管,另一端通过出水口外接有绝缘的出水管;所述阳极内侧贴合有导电的阳极衬垫。2.根据权利要求1所述的阳极水冷型霍尔离子源,其特征在于:所述阳极采用无氧铜材质制造。3.根据权利要求1所述的阳极水冷型霍尔离子源,其特征在于:所述进水管和出水管采用塑料管道。4.根据权利要求1所述的阳极水冷型霍尔离子源,其特征在于:所述阳极衬垫纵截面为锥形结构,所述阳极衬垫与所述阳...
【专利技术属性】
技术研发人员:孙旭,
申请(专利权)人:北京实创精仪科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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