本实用新型专利技术公开了一种滚筒式等离子清洗装置，包括真空腔体，所述真空腔体内设有滚筒，所述滚筒相对于所述真空腔体可转动设置，所述真空腔体上设有电极件，所述电极件伸入所述滚筒内，所述真空腔体上设有进气接头，所述真空腔体内设有与所述进气接头连通的进气管道，所述电极件内设有出气管道，所述出气管道与所述进气管道连通，所述电极件上设有多个出气孔，所述出气孔与所述出气管道连通。滚筒内的颗粒或粉末状的材料能够在转动的过程被清洗，提高了对颗粒或粉末状的材料的处理效果，另外，出气管道设在电极件内，而不必另设出气管道，实现了一物多用，同时，可避免出气管道与滚筒发生碰撞，利于保证滚筒式等离子清洗装置工作的稳定性。稳定性。稳定性。
【技术实现步骤摘要】
一种滚筒式等离子清洗装置
[0001]本技术涉及等离子
，尤其涉及一种滚筒式等离子清洗装置。
技术介绍
[0002]等离子清洗装置是一种利用等离子体中的活性组分对产品的表面进行处理，从而达到清洁、改性或涂覆等目的。
[0003]目前市面上主流的真空等离子清洗设备，一般是在真空腔体内设有多层平行的水平电极或者垂直电极，被处理产品放置在电极之间，通过两平行电极放电产生等离子体对产品表面进行处理，虽然此种方式适用于处理市面上大多数常规产品的处理，但是对于颗粒或粉末状的材料处理不便且处理效果不均匀。
技术实现思路
[0004]本技术所要解决的技术问题是：提供一种针对颗粒或粉末状的材料处理效果好的滚筒式等离子清洗装置。
[0005]为了解决上述技术问题，本技术采用的技术方案为：一种滚筒式等离子清洗装置，包括真空腔体，所述真空腔体内设有滚筒，所述滚筒相对于所述真空腔体可转动设置，所述真空腔体上设有电极件，所述电极件伸入所述滚筒内，所述真空腔体上设有进气接头，所述真空腔体内设有与所述进气接头连通的进气管道，所述电极件内设有出气管道，所述出气管道与所述进气管道连通，所述电极件上设有多个出气孔，所述出气孔与所述出气管道连通。
[0006]进一步的，还包括转动组件和驱动件，所述驱动件的驱动端连接所述转动组件，所述转动组件连接所述滚筒。
[0007]进一步的，所述转动组件的数量为两组，两组所述转动组件间隔设置，所述滚筒放置在两组所述转动组件上。
[0008]进一步的，还包括磁流体密封结构，所述驱动件通过所述磁流体密封结构连接所述转动组件。
[0009]进一步的，所述滚筒通过所述转动组件接地，所述转动组件包括依次相连的轴承座、轴承和滚轴，所述滚筒与所述滚轴接触，所述轴承座安装在所述真空腔体上。
[0010]进一步的，两个所述滚轴均连接有同步轮，两个同步轮通过同步带连接。
[0011]进一步的，还包括导电连接件，所述导电连接件的一端连接所述滚轴，所述导电连接件的另一端连接所述轴承座。
[0012]进一步的，所述驱动件上设有传感器，所述驱动件的驱动端设有联轴器，所述联轴器上设有与所述传感器对应的感应片。
[0013]进一步的，所述真空腔体内设有匀气板，所述真空腔体的腔壁上开设有抽气孔，所述匀气板位于所述抽气孔处，所述匀气板与具有所述抽气孔的所述真空腔体的腔壁之间具有缝隙。
[0014]进一步的，所述电极件呈矩形体状或圆筒状。
[0015]本技术的有益效果在于：通过在真空腔体内设置滚筒及电极件，电极件伸入滚筒内，使滚筒内的颗粒或粉末状的材料能够在转动的过程被清洗，提高了对颗粒或粉末状的材料的处理效果，另外，出气管道设在电极件内，而不必另设出气管道，实现了一物多用，同时，可避免出气管道与滚筒发生碰撞，利于保证滚筒式等离子清洗装置工作的稳定性。
附图说明
[0016]图1为本技术实施例一的滚筒式等离子清洗装置的结构示意图；
[0017]图2为本技术实施例一的滚筒式等离子清洗装置的部分结构示意图；
[0018]图3为本技术实施例一的滚筒式等离子清洗装置的剖视图；
[0019]图4为本技术实施例一的滚筒式等离子清洗装置中电极件的结构示意图；
[0020]图5为本技术实施例二的滚筒式等离子清洗装置的剖视图；
[0021]图6为本技术实施例二的滚筒式等离子清洗装置中电极件的结构示意图。
[0022]标号说明：
[0023]1、真空腔体；11、进气管道；12、进气接头；13、磁流体密封结构；14、匀气板；141、第一绝缘垫块；15、抽气孔；16、腔体门；161、观察窗；17、绝缘固定座；171、第二绝缘垫块；18、保护盒；
[0024]2、滚筒；21、电极件；211、出气管道；212、出气孔；22、拉环；
[0025]3、转动组件；31、轴承座；32、轴承；33、滚轴；34、导电连接件；35、同步轮；36、同步带；
[0026]4、驱动件；41、传感器；42、联轴器；43、感应片。
具体实施方式
[0027]为详细说明本技术的
技术实现思路
、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。
[0028]请参照图1至图6，一种滚筒式等离子清洗装置，包括真空腔体1，所述真空腔体1内设有滚筒2，所述滚筒2相对于所述真空腔体1可转动设置，所述真空腔体1上设有电极件21，所述电极件21伸入所述滚筒2内，所述真空腔体1上设有进气接头12，所述真空腔体1内设有与所述进气接头12连通的进气管道11，所述电极件21内设有出气管道211，所述出气管道211与所述进气管道11连通，所述电极件21上设有多个出气孔212，所述出气孔212与所述出气管道211连通。
[0029]从上述描述可知，本技术的有益效果在于：通过在真空腔体1内设置滚筒2及电极件21，电极件21伸入滚筒2内，使滚筒2内的颗粒或粉末状的材料能够在转动的过程被清洗，提高了对颗粒或粉末状的材料的处理效果，另外，出气管道211设在电极件21内，而不必另设出气管道211，实现了一物多用，同时，可避免出气管道211与滚筒2发生碰撞，利于保证滚筒式等离子清洗装置工作的稳定性。
[0030]进一步的，还包括转动组件3和驱动件4，所述驱动件4的驱动端连接所述转动组件3，所述转动组件3连接所述滚筒2。
[0031]由上述描述可知，所述滚筒2通过所述驱动件4及转动组件3驱动。
[0032]进一步的，所述转动组件3的数量为两组，两组所述转动组件3间隔设置，所述滚筒2放置在两组所述转动组件3上。
[0033]进一步的，还包括磁流体密封结构13，所述驱动件4通过所述磁流体密封结构13连接所述转动组件3。
[0034]进一步的，所述滚筒2通过所述转动组件3接地，所述转动组件3包括依次相连的轴承座31、轴承32和滚轴33，所述滚筒2与所述滚轴33接触，所述轴承座31安装在所述真空腔体1上。
[0035]进一步的，两个所述滚轴33均连接有同步轮35，两个同步轮35通过同步带36连接。
[0036]由上述描述可知，通过设置同步轮35与同步带36使一个驱动件4驱动两组转动组件3。
[0037]进一步的，还包括导电连接件34，所述导电连接件34的一端连接所述滚轴33，所述导电连接件34的另一端连接所述轴承座31。
[0038]由上述描述可知，通过导电连接件34使滚筒2接地作为负极。
[0039]进一步的，所述驱动件4上设有传感器41，所述驱动件4的驱动端设有联轴器42，所述联轴器42上设有与所述传感器41对应的感应片43。
[0040]由上述描述可知，通过设置传感器41与感应片43获取驱动件4的转动速率，便于工作人员调节。
[0041]进一步的，所述真空腔体1内设有匀气板14，所述真空腔体1的腔壁上本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种滚筒式等离子清洗装置，其特征在于：包括真空腔体，所述真空腔体内设有滚筒，所述滚筒相对于所述真空腔体可转动设置，所述真空腔体上设有电极件，所述电极件伸入所述滚筒内，所述真空腔体上设有进气接头，所述真空腔体内设有与所述进气接头连通的进气管道，所述电极件内设有出气管道，所述出气管道与所述进气管道连通，所述电极件上设有多个出气孔，所述出气孔与所述出气管道连通。2.根据权利要求1所述的滚筒式等离子清洗装置，其特征在于：还包括转动组件和驱动件，所述驱动件的驱动端连接所述转动组件，所述转动组件连接所述滚筒。3.根据权利要求2所述的滚筒式等离子清洗装置，其特征在于：所述转动组件的数量为两组，两组所述转动组件间隔设置，所述滚筒放置在两组所述转动组件上。4.根据权利要求3所述的滚筒式等离子清洗装置，其特征在于：还包括磁流体密封结构，所述驱动件通过所述磁流体密封结构连接所述转动组件。5.根据权利要求3所述的滚筒式等离子清洗装置，其特征在于：所述滚筒...
【专利技术属性】
技术研发人员：罗弦，
申请(专利权)人：广东澳地特电气技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
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